一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置的制作方法

本实用新型涉及加药设备领域，更具体涉及一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置。

背景技术：

在以水/汽作为热介质或能量载体的各类承压锅炉中，腐蚀、结垢与气液夹带是影响锅炉及后续用热或功设备正常运行的主要障碍，必须得到有效控制。为了防止锅炉腐蚀、结垢与气液夹带现象，防止冷凝水管线的腐蚀，需要对其加入脱氧剂、缓蚀阻垢剂、冷凝水气相缓蚀剂等药剂。现有的加药设备使用过程中存在药剂溶解不充分的现象，导致药剂浪费。

在专利号为201621257287.7名称为一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置的中国实用新型专利文件中，公开的技术方案存在以下的缺陷：1、通过电机带动丝杆作往复运动，由于工作环境含有腐蚀性以及湿度较大对电机使用寿命以及稳定性影响较大；2、使用步进电机成本较高。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种结构简单、安全可靠、溶解充分、节约成本的一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置。

根据本实用新型的一个方面，提供了一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置，包括反应釜、搅拌部件、旋转部件、往复加料部件和控制盒，搅拌部件通过安装架固定在反应釜上，旋转部件固定在搅拌部件上，控制盒连接搅拌装置，往复加料部件包括安装板、进料管、滑杆、滑块、弹簧、旋转出料嘴和若干凸块，进料管连通旋转出料嘴，旋转出料嘴安装在滑块上，滑块套设在滑杆上，滑杆两端固定连接安装板，滑块一端通过弹簧连接安装板，若干凸块规则设置在反应釜的内壁上与滑块贴紧。

在一些实施方式中，搅拌部件包括电机、旋转轴、搅拌叶片和螺旋叶片，旋转轴连接电机，搅拌叶片设置在旋转轴的上部，螺旋叶片设置在旋转轴的下部。

在一些实施方式中，旋转轴上部固定连接旋转部件，旋转部件包括支撑架、滑槽和轴承，滑槽设置在反应釜内壁，支撑架一端固定旋转轴另一端水平设有轴承，轴承在滑槽内移动，旋转轴带动支撑架一端的轴承在滑槽内作圆周运动。

在一些实施方式中，反应釜的底部设有出液管。

在一些实施方式中，料管连接有加药泵。

附图说明

图1是本实用新型一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置的结构示意图；

图2是本实用新型一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置的往复加料部件的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示，一种生产缓蚀阻垢剂的自动加料装置，包括反应釜1、搅拌部件2、旋转部件3、往复加料部件4和控制盒5，搅拌部件2通过安装架6固定在反应釜1上，旋转部件3固定在搅拌部件2上，控制盒5连接搅拌装置。

如图1所示，往复加料部件4包括安装板41、进料管42、滑杆43、滑块44、弹簧45、旋转出料嘴46和若干凸块47，进料管42连通旋转出料嘴46，旋转出料嘴46安装在滑块44上，滑块44套设在滑杆43上，滑杆43两端固定连接安装板41，滑块44一端通过弹簧45连接安装板41，若干凸块47规则设置在反应釜1的内壁上与滑块44贴紧。通过搅拌部件2带动旋转部件3做圆周运动时，利用设置在反应釜1内壁上侧的若干凸块47，实现滑块44在滑杆43上座往复移动，保证旋转出料嘴46添加药剂更加均匀。当滑块44与凸块47的凸起部分接触时滑座向弹簧45的相反方向移动，当通过凸块47上的凸起部分时弹簧45将滑块44拉回，如此往复。可以通过设置凸块47的数量以及分布间距调整滑块44往复移动的频率。利用凸轮机构的往复移动的机械原理取代现有技术利用电机21丝杆螺母座实现往复移动，性能更加可靠而且成本更低。

搅拌部件2包括电机21、旋转轴22、搅拌叶片23和螺旋叶片24，旋转轴22连接电机21，搅拌叶片23设置在旋转轴22的上部，螺旋叶片24设置在旋转轴22的下部。通过搅拌叶片23实现水平位置的药剂的混合，通过螺旋叶片24实现垂直位置的药剂的混合，以保证药剂的混合溶解更加充分。

旋转轴22上部固定连接旋转部件3，旋转部件3包括支撑架31、滑槽32和轴承33，滑槽32设置在反应釜1内壁，支撑架31一端固定旋转轴22另一端水平设有轴承33，轴承33在滑槽32内移动，旋转轴22带动支撑架31一端的轴承33在滑槽32内作圆周运动。通过旋转机构带动往复加料部件4作圆周运动。

反应釜1的底部设有出液管7。便于混合充分的药剂排出使用。

料管连接有加药泵8，便于药剂的加入。

本实用新型在药剂添加时药剂的加入轨迹分三种类型：1、大圆周运动，由电机21带动旋转轴22进一步带动旋转部件3上的旋转出料嘴46实现；2、往复直线移动，由凸块47与滑块44、滑杆43和弹簧45的配合实现；3、小圆周运动，有旋转出料嘴46实现。这三种添加药剂的类型是同时间进行的，以便于药剂的添加更加均匀，混合更加充分。

以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型的创造构思的前提下，还可以做出其它变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。