1.改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，包含壳体，壳体上包含出料口，所述出料口为一个缝状结构，缝状结构的上部分和下部分均为板状结构，板状结构倾斜布置，壳体的结构为如下方案之一:A.所述壳体为旋转运动的承料装置，其包含空腔，空腔内部有物料，空腔至于震动筛上，震动筛上下方固定在旋转台上；B.所述出料口位于出料壳体的下方，出料口下方包含旋转的料筒（8）的边沿，旋转的料筒（8）为筒状结构，旋转的料筒（8）下方为旋转结构。
2.如权利要求1所述的改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，所述出料壳体上连接有进风管和出风管，进风管上包含加热部分。
3.如权利要求1所述的改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，所述缝状结构为等宽度的缝状结构。
4.改善压敏瓷粉粒度分布的方法，其特征在于，利用权利要求1或者2所述的装置，包含如下方法：
通过将粉体在往复运动的承料装置上一层一层平铺，实现了粉料在特定空间的均匀分布。
5.如权利要求4所述的改善压敏瓷粉粒度分布的方法，其特征在于，所述承料装置能够是往复运动的料槽或者是能够做圆周运动的料筒。
6.如权利要求4所述的改善压敏瓷粉粒度分布的方法，其特征在于，所述壳体能够和造粒塔接料口配合使用，也能够和震动筛配合使用。