用于使用冷却装置向表面提供膜处理的系统及方法_4

文档序号:9663390阅读:来源:国知局
为任何可 用介质,其可由计算机720存取,并且包括易失性和非易失性介质,可除去和非可除去的介 质。经由实例,并且不限制,计算机可读介质可包括计算机储存介质和通信介质。计算机储 存介质包括W用于储存信息的任何方法或技术实施的易失性和非易失性介质、可除去和非 可除去的介质,如,计算机可读指令、数据结构、程序模块或其它数据。计算机储存介质包括 但不限于RAM、R0M、EEPR0M、闪速存储器或其它存储器技术、CD-ROM、数字多功能盘(DVD)或 其它光盘储存器、磁带盒、磁带、磁盘储存器或其它磁储存装置,或可用于储存期望的信息 并且可由计算机720存取的任何其它介质。W上中的任一个的组合也应当包括在可用于储 存用于实施本文所述的方法和系统的源代码的计算机可读介质的范围内。本文公开的特征 或元件的任何组合可用于一个或更多个实施例中。
[0055] 本文中所述的实施例的技术效果在于提供用于使用冷却装置将膜处理提供至表 面(如,满轮机或更具体的是燃气满轮的表面)的系统及方法,其给予免除污垢和与其相关 的损坏的保护,在燃气满轮联机或脱机时人工地或自动地执行,并且/或者其使用燃气满 轮的现有装备,从而延长修理和/或维护间隔之间的时间段、延长构件的寿命和/或改进燃 气满轮的生产力。
[0056] 本文所述的术语用于仅描述特定实施例的目的,并且不旨在限制本发明。在用语 定义脱离用语的常用意义的情况下,申请人旨在使用本文提供的定义,除非明确指出。单数 形式"一"、"一个"和"该"旨在也包括复数形式,除非上下文清楚地另外指出。将理解 的是,尽管用语第一、第二等可用于描述各种元件,但运些元件不应当由运些用语限制。运 些用语仅用于将一个元件与另一个区分开。用语"和/或"包括相关联的所列物品中的一 个或更多个的组合中的任一个和所有。短语"联接于"和"与…联接"构想为直接或间接 联接。
[0057] 实例 实例1 样本1-4中的各个根据表1中提出的比率准备来产生成膜剂。样本1-4的成膜剂中的 各个通过W1:1的比率混合识别的第一硅烷和第二硅烷来制备。此外,样本1-4中的各个 根据含水配方或有机溶剂配方来制备。对于含水配方,蒸馈水的抑使用乙酸调整至4. 5到 5. 5,并且接着硅烷混合物W连续揽拌加入。适合量的非离子表面活性剂按需要添加在一些 样本中,W提高硅烷混合物在蒸馈水中的可溶性。对于有机溶剂配方,95%的乙醇和5%的蒸 馈水的混合物的抑使用乙酸调整至4. 5到5. 5,并且接着硅烷混合物W连续揽拌加入。

实例2 膜处理分别使用样本1-4的成膜剂来施加于燃气满轮构件。膜处理燃气满轮构件预热 至200°C,并且浸泡在污垢渗合物中30分钟。在W150°C整夜干燥之后,较少或没有污垢存 在于燃气满轮构件上。 W59] 实例3 样本5为通过利用连续揽拌W0. 5到2. 0%的浓度使硅烷与去离子水混合来制备的含 水成膜溶液。pH使用乙酸调整至4. 5到5. 5。在样本6中,0.1%的非离子表面活性剂添加 来改进去离子水中的硅烷的可溶性。 W60] 实例4 膜处理分别使用样本5-6的成膜溶液施加至燃气满轮构件。膜处理燃气满轮构件预热 至200°C,并且浸泡在污垢混合物中30分钟。在W150°C整夜干燥之后,较少或没有污垢存 在于燃气满轮构件上。
[0061] 实例1-4的结果因此展示了本文所述的燃气满轮膜处理方法和系统导致燃气满 轮构件的显著减少的结垢。
[0062] 虽然已经结合仅有限数量的实施例来详细描述本发明,但应当容易理解,本发明 不限于此类公开的实施例。相反,可修改本发明,W并入迄今未描述但与本发明的精神和范 围相称的任何数量的变型、更改、替换或等同布置。另外,虽然已经描述了本发明的多种实 施例,但将理解,本发明的方面可包括所描述的实施例中的仅一些。因此,本发明不视为由 前述描述限制,而是仅由所附权利要求的范围限制。
【主权项】
1. 一种方法,包括: 使成膜剂与液体混合来形成成膜溶液,其中所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅 烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷、琥珀酐硅烷,或包括前述中的至少一个的组合;以及 使用入口空气冷却装置将所述成膜溶液分配到表面上。2. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面为涡轮机表面或燃气涡轮表面。3. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面为燃气涡轮表面,其为外壳、导 叶、叶片、转子轮或涡轮中的至少一个。4. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述液体为去离子水。5. 根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法还包括以乙酸调整所述成膜溶 液的pH。6. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜溶液的pH为从大约5到大约9。7. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述入口空气冷却装置为喷雾器。8. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述入口空气冷却装置为蒸发冷却器。9. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基 硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷或琥珀酐硅烷中的至少两个的组合。10. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜剂将一个或更多个性质给予所 述表面,所述一个或更多个性质包括被动性、疏水性、疏油性、抗粘性质,或包括前述中的至 少一个的组合。11. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜剂使用与燃气涡轮流体连通的 快速断开设备分配。12. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括使非离子表面活性剂与 所述成膜剂混合。13. -种系统,包括: 处理器;以及 通信性地联接于所述处理器的系统存储器,所述系统存储器具有储存在其上的可执行 指令,其在由所述处理器执行时,引起所述处理器执行操作,所述操作包括: 从传感器接收数据;以及 基于从所述传感器接收的数据提供指令来使用入口空气冷却装置将成膜剂分配到表 面上,其中所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷、琥珀酐 硅烷或包括前述中的至少一个的组合。14. 根据权利要求13所述的系统,其特征在于,所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫 基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷或琥珀酐硅烷中的至少两个的混合物。15. -种成膜控制系统,包括: 构造成容纳成膜剂的储存罐; 入口空气冷却装置;以及 在第一端上联接于所述储存罐并且在第二端上联接于所述入口空气冷却装置的供应 导管;其中所述成膜控制系统构造成将所述成膜剂从所述储存罐输送并且通过所述空气入 口冷却装置排出所述成膜剂,并且所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、 四乙氧基硅烷、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。16. 根据权利要求15所述的成膜控制系统,其特征在于,所述成膜控制系统还包括与 所述供应导管流体连通的第二储存罐,其中所述第二储存罐包含去离子水,并且其中所述 去离子水在通过所述空气入口冷却装置排出所述去离子水和所述成膜剂之前添加至所述 成膜剂。17. 根据权利要求16所述的成膜控制系统,其特征在于,所述成膜控制系统还包括: 与待处理的表面连通的传感器; 设置在所述供应导管内的阀和具有处理器和操作性地联接于所述处理器的存储器的 控制器,所述存储器具有可执行指令,其在由所述处理器执行时引起所述处理器执行操作, 所述操作包括: 从所述传感器接收信号并且响应于所述接收将指令提供至所述阀以开启,以容许将所 述去离子水和所述成膜剂通过所述入口空气冷却装置排出到所述表面上。
【专利摘要】本文公开了用于利用成膜剂使用入口空气冷却装置处理表面如燃气涡轮表面的系统和方法。成膜控制系统包括构造成容纳成膜剂的储存罐;入口空气冷却装置;以及在第一端上联接于储存罐并且在第二端上联接于入口空气冷却装置的供应导管;其中成膜控制系统构造成将成膜剂从储存罐输送并且通过空气入口冷却装置排出成膜剂,并且成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。
【IPC分类】F02C7/00, B08B3/08
【公开号】CN105422283
【申请号】CN201510581036
【发明人】S.埃卡纳亚克, R.胡利, E.门多扎, A.I.西皮奥
【申请人】通用电气公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2015年9月14日
【公告号】DE102015115092A1, US20160076458
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