技术特征：
技术总结
本发明实施例公开了一种旋转结构及其制备方法，旋转结构的制备方法包括采用湿法腐蚀工艺制备掩膜板，掩膜板包括位于掩膜板第一表面的第一斜坡凹槽和位于掩膜板第二表面的第二斜坡凹槽；第一斜坡凹槽的斜坡面和第二斜坡凹槽的斜坡面均为(111)晶面；利用掩膜板制备斜坡单元，斜坡单元包括独立设置的第一斜坡面和第二斜坡面；在第一斜坡面和第二斜坡面上分别制备第一电极；在斜坡单元一侧制备可旋转单元；制备第二电极，第二电极与可旋转单元电连接，可旋转单元用于根据第一电极和第二电极之间的静电力进行旋转。通过如上所述的掩膜板制备斜坡单元，斜坡单元制备简单，斜坡单元的倾斜角度可以做到很小，提升斜坡单元的制备灵活度。
技术研发人员：焦继伟;刘京;费跃;陈思奇
受保护的技术使用者：上海芯物科技有限公司
技术研发日：2019.06.12
技术公布日：2019.09.17