专利名称：风门装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体清洗设备领域，尤其涉及一种风门装置。
背景技术：
在半导体清洗设备中，微环境的状态对晶片的清洗效果影响比较大，保持一个良好的设备微环境对工艺的进行至关重要。通常，设备上方的FFU(Filter Fan Unit)会产生过滤后的干净的气流，气流自上而下流向设备中的其他单元，如清洗腔室、机械手区域、 CDS(ChemiCal Dispense System)，同时会有排气装置将设备中可能产生的被污染气体排出，从而使设备中的气流处于一个动态平衡的状态。通常会在设备的排气口安装风门，以控制排气的开关。半导体清洗设备的风门通常都是手动开关的，但是风门有时是安装在设备的上部，不方便人工控制。并且，在做半导体工艺的过程中，有时是没有人在现场的，如果出现需要开关风门的情况，这时候就不能满足设备的需要。如果设备中有化学液挥发出来，风门堵塞后，大量的化学气体会留在设备中，可能造成安全事故。
发明内容
(一)要解决的技术问题本发明的目的是设计一种自动开关的风门装置，以满足半导体设备的需要。( 二 )技术方案为达到上述目的，本发明提出了一种风门装置，包括风门；摆动气缸，其转轴与所述风门的转轴连接；压差计，其与所述风门和设备外部连接。其中，还包括联轴器，其设置于所述摆动气缸的转轴和所述风门的转轴之间。其中，还包括支架，用于将所述摆动气缸设置于所述风门上。其中，所述转轴与所述风门内的挡板连接。(三)有益效果本发明的上述技术方案具有如下优点本发明的风门装置设计简单，效果好，当风门附近与设备外部的气压差超出设定范围时，可实现风门的自动打开，从而避免安全事故的发生。
图1为本发明风门装置实施例的示意图；图2为本发明风门装置实施例的气缸的示意图。
具体实施例方式下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式
作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。如图1所示为本发明风门装置实施例的示意图，本发明的风门装置位于设备内部，并且包括风门1、摆动气缸4、联轴器5、支架6和压差计7。差压计7的一端与风门1 连接而另一端穿过设备外板8从而与设备外部连接，以检测它们之间的气压差。用联轴器5 将风门1的转轴2与摆动气缸4的转轴连接，风门1的转轴2与风门1内的挡板3相连接， 同时用支架6将摆动气缸4固定在风门1的面板上。如图2所示，摆动气缸4的工作由两位五通电磁阀来控制(未示出，其设置于摆动气缸4上或附近)，摆动气缸4的气源由设备中的压缩空气来提供。本发明的工作原理是挡板3的初始位置为与风门法兰9成10°，当差压计7检测到气压差超出设定范围时，电磁阀动作，同时气缸4会摆动80°，带动转轴上的挡板3转动80°，此时挡板3与设备的风门法兰9垂直，风门完全打开，气体在风门中的流动横截面最大(气体的流动方向如图1中的箭头所示)，以保证设备中气体可以快速排出。当排出足够气体时，差压计会检测到气压差处于设定范围之内，从而控制电磁阀动作，气缸往回摆动 80°，带动挡板回到初始位置，风门自动关闭。以上所述仅是本发明的实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种风门装置，其特征在于，包括 风门(1)；摆动气缸G)，其转轴与所述风门(1)的转轴( 连接； 压差计(7)，其与所述风门(1)和设备外部连接。
2.如权利要求1所述的风门装置，还包括联轴器(5)，其设置于所述摆动气缸(4)的转轴和所述风门⑴的转轴⑵之间。
3.如权利要求2所述的风门装置，还包括支架(6)，用于将所述摆动气缸(4)设置于所述风门(1)上。
4.如权利要求3所述的风门装置，其特征在于，所述转轴⑵与设置于所述风门⑴内的挡板C3)连接在一起。
全文摘要
本发明公开了一种风门装置，包括风门(1)；摆动气缸(4)，其转轴与风门(1)的转轴(2)连接；压差计(7)，其与风门(1)和设备外部连接。本发明的风门装置设计简单，效果好，当风门附近与设备外部的气压差超出设定范围时，可实现风门的自动打开，从而避免安全事故的发生。
文档编号F16K31/12GK102162531SQ20101062156
公开日2011年8月24日 申请日期2010年12月27日 优先权日2010年12月27日
发明者何金群, 昝威, 裴立坤 申请人:北京七星华创电子股份有限公司