专利名称：磁记录介质及其制造方法、磁记录再现装置、压模及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一些记录层的伺服区域部分以凹凸形状形成的磁记录介质、具有该磁记录介质的磁记录再现装置、用于制造该磁记录介质的压模、该压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法。
背景技术：
磁记录介质被分成多个数据区域和多个伺服区域，用于磁头的定位等的伺服信息记录在伺服区域上而被使用。各伺服区域分成多个方格状区域，伺服信息具有在这些方格状的各区域的记录层上以规定的规则二值记录有0以及1中的任意一个信息的结构。伺服信息具体由用于时钟同步的前同步信号部、表示伺服数据的开始的SAM部、表示轨道编号的轨道地址信号部、表示扇区编号的扇区地址信号部、和用于磁头的跟踪的脉冲串信号部等构成。这种伺服信息是通常以伺服轨道写入(Servo Track Writing)方式记录在磁记录介质上。伺服信息的记录工序是对每个磁记录介质依次磁化伺服区域中的方格状的各区域的工序，所以存在生产效率低的问题。特别是近年来，由于面记录密度的提高以及伴随于此的磁头悬浮高度的降低，所以对伺服信息也要求高密度且高精度的记录，从而对于伺服信息记录的效率改善的需要日益提高。
对此，提出有将记录层的伺服区域部分以伺服凹凸图案来形成的方案，该伺服凹凸图案中，用于记录0以及1中的任意一方信息的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域，而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域(例如，参照JP特开平6-195907号公报、JP特开平9-259426号公报)。对这样以伺服凹凸图案形成记录层的伺服区域部分的磁记录介质，通过均匀地施加直流磁场就可以进行按照伺服信息图案的磁化，因此能够大幅度提高伺服信息的记录效率。
此外，硬盘等磁记录介质，通过对构成记录层的磁性粒子的微细化、材料变更、磁头加工的细微化等的改良，而实现了面记录密度显著提高，并且今后还能期望面记录密度的进一步提高，但是，磁头的加工极限、由磁头记录磁场的扩散引起的向相邻于记录对象轨道的其他轨道上的错误的信息记录、再现时的串扰等问题变得突出，并通过这些现有改良方法来提高面记录密度已经到了极限，从而作为能够实现面记录密度的进一步提高的磁记录介质的候补而提出有在数据区域以凹凸图案来形成记录层、且将记录要素作为凹凸图案的凸部来形成的离散轨道介质、以及晶格介质。当制造这种离散轨道介质、晶格介质时，进行将记录层的数据区域部分加工成凹凸图案的工序，而且在该工序中也可以将记录层的伺服区域部分同时加工成凹凸图案，所以从生产效率这点上看特别有利。
作为将记录层加工成凹凸图案的手法，能够利用如下手法该手法是在半导体制品等的制造领域中使用的，在被加工层上形成抗蚀材料的树脂层，并将该树脂层以被称为光刻法的利用了曝光以及显影的手法来加工成凹凸图案，然后将该凹凸图案的树脂层作为掩模而将被加工层蚀刻加工成凹凸图案。如上所述的伺服凹凸图案是包含宽度为几百nm以下的凹部或者凸部的微细凹凸图案，并且当在这种微细凹凸图案上加工树脂层时，无法忽视利用于曝光的光线波长的影响，因此曝光优选利用电子束。
但是，利用电子束对每个制品进行曝光(描画)的手法存在生产效率低的问题。
对此，广为人知的有使压模与树脂层接触而将树脂层加工成凹凸图案的、被称为压印的手法(例如，参照JP特开2003-100609号公报)。此外，只是使压模接触而转印凹凸图案，则在凹部底部残留树脂层而露不出被加工层，但通过对树脂层均匀地进行可除去凹部底部的树脂层的程度的蚀刻，能够从凹部底部露出被加工层，从而能够使树脂层作为凸部而仅残留对应于由转印形成的凹凸的高度差并作为掩模使用。
人们期待这样利用光刻法或压印的手法来将记录层加工成相当于伺服信息或轨道的形状的凹凸图案。此外，当将记录层加工成凹凸图案时，可以在记录层上直接形成树脂层，但是也提出有根据记录层的材质和蚀刻的种类等情况，在记录层和树脂层之间形成单层或者多层掩模层，并对这些依次进行蚀刻而将记录层加工成凹凸图案的手法。
但是，实际上很难以如上所述的方法将记录层的伺服区域部分正确地加工成微细的伺服凹凸图案。
例如，很难以光刻法将树脂层正确加工成微细且复杂的伺服凹凸图案。特别是轨道地址信号部是复杂的图案，从而很难将树脂层正确地加工成相当于轨道地址信号部的凹凸图案。因此，有时无法将树脂层下的掩模层或记录层加工成所期望的伺服凹凸图案。
另一方面，在进行压印的情况下，由于为了制作压模而也利用光刻法的手法，因此很难以充分的精度制作具有相当于微细且复杂的伺服凹凸图案的、凹凸图案的转印面的压模。此外，即使能够制作在转印面以充分的精度形成有凹凸图案的压模，有时也无法按照压模的凹凸图案正确地加工树脂层。
进而，即使能够将树脂层按照所期望的凹凸图案进行了加工，当将树脂层作为掩模来对被加工层进行蚀刻时，树脂层的凹凸图案有时没有正确地反映到被加工层上。
即，虽然通过将记录层加工成伺服凹凸图案，能够显著提高伺服信息的记录效率，但很难将记录层以高精度加工成伺服凹凸图案，从而很难充分提高磁记录介质的整体的生产效率。
发明内容
本发明是鉴于以上问题而提出的，其目的在于提供一些记录层以凹凸图案形成了的、生产效率高的磁记录介质、具有该磁记录介质的磁记录再现装置，用于制造该磁记录介质的压模、该压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法。
本发明是通过磁记录介质来达成上述目的的，该磁记录介质的记录层的伺服区域部分的至少一部分，相对基本伺服凹凸图案，以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成，而且在上述基本伺服凹凸图案中，用于记录0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域、且用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。
还有，本发明是通过磁记录介质来达成上述目的的，该磁记录介质的记录层的伺服区域部分的至少一部分，相对基本伺服凹凸图案，以在凹部和凸部的边界的角部中至少一部分角部比相当于该角部的上述基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案来形成。
在研究本发明的过程中，发明人对以高精度形成微细且复杂的凹凸图案很困难的理由进行了刻意的研究，并得到了如下的几个重要因素使加工精度降低的可能性很高的结果。
当通过光刻法将树脂层加工成微细且复杂的凹凸图案时，将曝光剂量调整为适当的值是很重要的，但是，若将剂量调整为对于复杂的凹凸图案所包含的各种宽度的凹部或者凸部中的一部分来说适当的值，则对于其他部分剂量会过大或会不充分，从而有时会无法将树脂层正确地加工成所期望的凹凸图案。
此外，当通过压印将树脂层加工成凹凸图案时，若有各种宽度的凹部包含在凹凸图案中，则进行压印后，根据凹部的宽度大小而残留在凹部底部的树脂的厚度会发生偏差，若凹部的宽度过宽，则存在与其他的凹部相比在底部残留厚的树脂的倾向。对于该原因，认为大概如下。
若在树脂层上接触压模，则由压模的凸部压出的树脂流动到邻接的压模的凹部。若树脂层的凹部的宽度过宽、且所对应的压模的凸部的宽度过宽，则由此压出的树脂难以流动，因此在树脂层的凹凸之中，在宽度过宽的凹部底部残留有厚的树脂。此外，若树脂层的凹部的宽度过宽、且压模的凸部的宽度过宽，则作用于压模的凸部接触的部分的压力变小，从而树脂不能充分进行塑性变形。因此，对树脂层的全区域有时无法形成所期望的高度差。
进行压印后，对树脂层均匀地进行蚀刻而除去凹部底部的树脂层时，凹部侧面的树脂也会被除去而凹部的宽度稍微扩大，但是，若这样残留在凹部底部的树脂厚度发生差异，则凹部的宽度扩大的程度发生差异，从而一部分凹部的宽度过度地被扩大。更加详细地讲，若完全除去底部的树脂，则存在除去凹部侧面的树脂的速度变快的趋势，并且在宽度过宽且底部的树脂厚的凹部，底部的树脂相对迟一些被除去，与此相对，在其他凹部，底部的树脂层相对早一些被除去，从而除去侧面树脂的速度变快，因此有时宽度过大地被扩大。因此有时无法将树脂层正确地加工成所期望的凹凸图案。
此外，在将树脂层作为掩模来对被加工层进行蚀刻的工序中，树脂层也被部分地除去，如图17所示，树脂层的凸部上的、相对邻接的凹部(在从垂直于表面的方向看的俯视图中)为凸的凸部的角部100A容易被除去，另一方面，相当于相对邻接的凸部为凸的凹部的角部100B的部分很难被除去，从而任意部分都容易被加工成带弧度的形状。因此，其下的被加工层的凸部也容易加工成带弧度的形状，从而可能无法将被加工层加工成所期望的凹凸图案。此外，在图17中实施阴影的部分为凸部，而其他部分为凹部。
对此，发明人进一步努力研究的结果发现将记录层的伺服区域部分以将基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成的磁记录介质，与将记录层的伺服区域部分以基本伺服凹凸图案来形成的磁记录介质同样，能够良好地再现伺服信息。这是因为由于磁头主要沿磁记录介质的周向相对地悬浮移动，因此，即使将记录层的伺服区域的凹部或凸部沿径向分割，对伺服信息的再现的影响也很小。
这样将基本凹凸图案的凹部以及凸部的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案的凹部或者凸部的宽度大小的范围比基本伺服凹凸图案更受到限定，所以能够将光刻法的曝光剂量调整为接近对全区域来说适当的值的值，从而能够将树脂层以高精度加工成相当于不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。此外，也能够将树脂层下的被加工层以高精度加工成相当于不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。因此，能够将记录层以高精度轻易地加工成不正规伺服凹凸图案。换而言之，加工条件的容许范围宽，与此对应生产效率也高。
此外，当通过压印法将树脂层加工成凹凸图案时，由于抑制凹部的宽度小，从而使在全区域中残留在凹部底部的树脂的厚度均匀地薄。因此，进行压印后，对树脂层均匀地进行蚀刻而除去凹部底部的树脂层时，能够防止或者充分地抑制凹部宽度的扩大。由此，也能够将树脂层下的被加工层以高精度轻易地加工成所期望的相当于不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。因此，这时也能够将记录层以高精度轻易地加工成不正规伺服凹凸图案，从而生产效率高。
此外，发明人发现相对基本伺服凹凸图案，记录层的伺服区域部分的至少一部分以凹部和凸部的边界的角部中的至少一部分的角部比相当于该角部的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案来形成的磁记录介质，与记录层的伺服区域部分以基本伺服凹凸图案来形成的磁记录介质同样，也能够良好地再现伺服信息。当角部带有弧度时，该角部构成的凹部和凸部的边界相对相当于此的基本伺服凹凸图案中的凹部和凸部的边界，形状的差异显著，但是，当凹部或凸部的角部尖锐时，该角部相对相当于此的基本伺服凹凸图案的角部，形状的差异小，因此能够良好地再现伺服信息。
这样至少一部分角部比相当于该角部的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案，当将树脂层加工成相当于该不正规伺服凹凸图案的凹凸图案时，或当将该树脂层作为掩模而对被加工层进行蚀刻时，即使部分地除去了树脂层，树脂层的角部也被加工成接近相当于此的基本伺服凹凸图案的角部，从而难以带有弧度。换而言之，加工条件的容许范围宽，与此对应生产效率也高。
即，通过如下的本发明，能够达成上述目的。
(1)一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，而且相对于基本伺服凹凸图案，该记录层的上述伺服区域部分的至少一部分是以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部中的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成的，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域，而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。
(2)如(1)所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在上述凹部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凹部单位区域的边界附近形成有凸部，而在该连续的凹部单位区域形成有沿上述径向被分割的凹部。
(3)如(1)所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在上述凸部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凸部单位区域的边界附近形成有凹部，而在该连续的凸部单位区域形成有沿上述径向被分割的凸部。
(4)如(1)-(3)中任一项所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在该不正规伺服凹凸图案的凹部和凸部的边界的角部中至少一部分的角部比与该角部相当的上述基本伺服凹凸图案的角部尖锐。
(5)一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域中，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，而且相对于基本伺服凹凸图案，该记录层的上述伺服区域部分的至少一部分是以在凹部和凸部的边界的角部中至少一部分角部比与该角部相当的上述基本伺服凹凸图案的角部尖锐的不正规伺服凹凸图案来形成的，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域、而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。
(6)一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，该记录层被划分为多个数据区域和多个伺服区域而被使用，且上述伺服区域部分是以伺服凹凸图案来形成的，在上述伺服凹凸图案的凹部和凸部的边界的角部中的至少一部分角部，包含有内角为锐角、且向上述边界上的该角部为凸的一侧突出的突起部。
(7)一种磁记录再现装置，其特征在于，具有(1)-(6)中任一项所述的磁记录介质；磁头，其用于接近该磁记录介质的表面而进行数据的记录/再现。
(8)一种压模，其特征在于，具有与(1)-(6)中任一项所述的磁记录介质的记录层的凹凸图案相当的凹凸图案的转印面。
(9)一种压模的制造方法，用于制造磁记录介质，该磁记录介质具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，该记录层的上述伺服区域部分是以规定的伺服信息的凹凸图案来形成的，其特征在于，包括曝光工序，用于将与形成在树脂层支承材料上的抗蚀材料的树脂层上的上述伺服区域的至少一部分相当的部分，相对于基本伺服曝光图案，以不正规伺服曝光图案来进行曝光，该基本伺服曝光图案是在上述方格状区域中，与用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域相当的区域为曝光单位区域，而与用于记录另一方信息的方格状区域相当的区域为非曝光单位区域，该不正规伺服曝光图案是如下的图案不将该基本伺服曝光图案的曝光区域的一部分曝光，而将该基本伺服曝光图案的曝光区域的至少一部分沿径向分割并进行曝光；显影工序，用于对上述树脂层进行显影而选择性地除去该树脂层的曝光部以及非曝光部中的任意一方，从而加工成与上述不正规伺服曝光图案相当的凹凸图案。
(10)如(9)所记载的压模的制造方法，其特征在于，上述不正规伺服曝光图案是如下的曝光图案对上述曝光单位区域中沿上述径向连续的至少两个曝光单位区域的边界附近不进行曝光而将该连续的曝光单位区域沿上述径向分割而进行曝光。
(11)一种磁记录介质的制造方法，该磁记录介质具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状的各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，其特征在于，包括曝光工序，用于将与在作为上述记录层的加工前的形态的连续记录层上直接或者间接地形成有抗蚀材料的树脂层的被加工体的上述树脂层上的上述伺服区域的至少一部分相当的部分，相对于基本伺服曝光图案，以不正规伺服曝光图案来进行曝光，该基本伺服曝光图案是在上述方格状区域中，与用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域相当的区域为曝光单位区域，而与用于记录另一方信息的方格状区域相当的区域为非曝光单位区域，该不正规伺服曝光图案是如下的图案不将该基本伺服曝光图案的曝光区域的一部分曝光，而将该基本伺服曝光图案的曝光区域的至少一部分沿径向分割并进行曝光；显影工序，用于对上述树脂层进行显影而选择性地除去该树脂层的曝光部以及非曝光部中的任意一方，从而加工成与上述不正规伺服曝光图案相当的凹凸图案。
(12)如(11)所记载的磁记录介质的制造方法，其特征在于，上述不正规伺服曝光图案是如下的曝光图案对上述曝光单位区域中沿上述径向连续的至少两个曝光单位区域的边界附近不进行曝光而将该连续的曝光单位区域沿上述径向分割并进行曝光。
(13)一种磁记录介质的制造方法，该磁记录介质具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状的各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，其特征在于，包括压印工序，用于在作为上述记录层的加工前的形态的连续记录层上直接或者间接地形成有抗蚀材料的树脂层的被加工体的上述树脂层上使压模接触，而将该树脂层上的与上述伺服区域的至少一部分相当的部分，相对于基本伺服凹凸图案，加工成将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，与用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域相当的区域为构成凹部的凹部单位区域，而与用于记录另一方信息的方格状区域相当的区域为构成凸部的凸部单位区域。
(14)如(13)所记载的磁记录介质的制造方法，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下的凹凸图案在上述凹部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凹部单位区域的边界附近形成有凸部，而在该连续的凹部单位区域形成有沿上述径向被分割的凹部。
此外，在本申请中，所谓“0以及1的信息”的含义是该两种信息以通过被磁化附加的信息和通过未被磁化附加的信息的方式二值记录到记录层上，从而被赋予了通过磁头能够二值识别的不同的磁特性。
此外，在本申请中，所谓“记录层以凹凸图案形成”的含义是记录层限定于凸部而分割形成的情况之外，也包括记录层分割成凸部的上部和凹部底部而形成的情况，以及例如象图18所示的记录层102、图19所示的记录层104那样连续的记录层上形成有凹部和凸部的双方的情况。
此外，在本申请中，所谓“磁记录介质”的用语的含意是并不仅限于在信息的记录、读取中只利用磁的硬盘、软(Floppy(注册商标))盘、磁带等，也包含并用磁和光的MO(Magneto Optical磁光)等的磁光记录介质、并用磁和热的热辅助型的记录介质。
根据本发明，能够实现具有以凹凸图案形成的记录层、且生产效率高的磁记录介质。
图1是示意性地表示本发明的第一实施方式中的磁记录再现装置的概略结构的立体图。
图2是示意性地表示上述磁记录再现装置的磁记录介质的结构的俯视图。
图3是示意性地放大表示上述磁记录介质的伺服区域的俯视图。
图4是示意性地放大表示上述伺服区域的基本伺服凹凸图案的轨道地址信号部的俯视图。
图5是示意性地进一步放大表示图4的一部分的俯视图。
图6是示意性地放大表示上述磁记录介质的记录层的不正则伺服凹凸图案的轨道地址信号部的俯视图。
图7是示意性地表示上述磁记录介质的结构的侧剖面图。
图8是表示上述磁记录介质的制造工序的概要的流程图。
图9是示意性地表示用于上述磁记录介质的制造中的压模的结构以及其制作工序的侧剖面图。
图10是示意性地表示上述压模的转印面上的凹凸图案的俯视图。
图11是示意性地表示利用上述压模的对被加工体的树脂层的压印工序的侧剖面图。
图12是示意性地表示除去了凹部底部的树脂层的上述被加工体的侧剖面图。
图13是示意性地表示将第二掩模层加工成凹凸图案的上述被加工体的侧剖面图。
图14是示意性地放大表示本发明的第二实施方式中的磁记录介质的记录层的不正则伺服凹凸图案的轨道地址信号部的俯视图。
图15是示意性地放大表示本发明的第三实施方式中的磁记录介质的记录层的不正则伺服凹凸图案的轨道地址信号部的俯视图。
图16表示本发明的第四实施方式中的磁记录介质的制造工序的概要的流程图。
图17用于说明本申请中的凹部和凸部的边界的角部的俯视图。
图18是表示以本发明的实施方式中的凹凸图案形成的记录层的一个例子的侧剖面图。
图19是表示以本发明的实施方式中的凹凸图案形成的记录层的另一个例子的侧剖面图。
具体实施例方式
以下，参照附图并对本发明的最佳实施方式进行详细的说明。
如图1所示，本发明的第一实施方式中的磁记录再现装置10具有磁记录介质12、为了对磁记录介质12进行数据的记录/再现而与磁记录介质12的表面接近且以可悬浮的方式设置的磁头14，而且在磁记录介质12的结构上具有特征。对于其他的结构，由于认为对本发明理解没有特别的需要，因此适当省略了说明。
另外，磁记录介质12固定在卡盘16，并可以与该卡盘16一起自由地旋转。此外，磁头14安装在臂部18的前端附近，臂部18可自由旋转地安装在基座20上。由此，磁头14在沿着磁记录介质12的径向Dr的圆弧轨道上，悬浮在磁记录介质12的表面上而移动。
磁记录介质12的特征在于，其为圆板形状的垂直记录型的离散轨道介质，如图2以及图3所示，划分成多个数据区域DA和多个伺服区域SA，而且各伺服区域SA进一步划分成多个方格状的区域，0以及1的信息以规定的规则二值记录在这些方格状的各区域的记录层22上而被使用，并且，记录层22的伺服区域SA部分的一部分以如图6所示的不正规伺服凹凸图案来形成，该不正规伺服凹凸图案是，相对如图4以及图5所示的基本伺服凹凸图案将该基本伺服凹凸图案的凹部沿径向Dr分割而成的，而且在该基本伺服凹凸图案中，用于记录0以及1的信息的任意一方的方格状的区域为构成凹部的凹部单位区域CU，用于记录另一方信息的方格状的区域为构成凸部的凸部单位区域PU。此外，图3～图6中的符号Dc是表示磁记录介质12的周向。另外，在图4以及图5中，实施有阴影的方格状区域为凸部单位区域PU，而其他方格状区域为凹部单位区域CU。还有，在图6中，实施有阴影的部分为凸部，而其他部分为凹部。
本第一实施方式的不正规的伺服凹凸图案是，在凹部单位区域CU中沿径向Dr连续的凹部单位区域CU的边界附近形成有分割用凸部22A，从而在该连续的凹部单位区域CU形成有沿径向Dr分割的凹部的凹凸图案。以包含该不正规伺服凹凸图案的凹凸图案构成的伺服信息，如图3所示，由用于时钟同步的前同步信号部26、表示伺服数据的开始的SAM(Servo AddressMark)部28、表示轨道编号的轨道地址信号部30、表示扇区编号的扇区地址信号部32、和用于检测在数据区域DA的各记录要素24(轨道)上的磁头的位置的脉冲串信号部34构成。图4～图6是放大表示轨道地址信号部30的一部分的图。此外，图3是为了便于说明而用沿径向Dr平行的线状表示伺服区域SA的记录层22的凸部的形状，但是，如图6所示，记录层22的凸部在周沿Dc也具有宽度。
此外，记录层22的数据区域DA部分割为同心圆弧形状，如图3所示，沿着构成轨道的周向Dc较长的多个记录要素24，沿径向Dr以规定的轨道间距形成为凸部。
该记录层22的厚度为5～30nm，如图7所示，该记录层22形成在基板36上。作为记录层22的材料，可以采用CoCrPt合金等的CoCr类合金、FePt类合金、以及它们的层叠体、将CoPt等强磁性粒子以矩阵状包含在SiO2等氧化物类材料中的材料等。另外，作为基板36的材料，可以采用玻璃、由Nip覆盖的Al合金、Si、Al2O3等填充材料。
在数据区域DA的记录要素24之间的凹部、与伺服区域SA的记录层22的凸部之间的凹部，填充有填充材料38。作为填充材料38的材料，可以采用SiO2、Al2O3、TiO2、铁氧体等的氧化物、AlN等的氮化物、SiC等的碳化物等的非磁性材料。
在记录层22以及填充材料38上依次形成有保护层40、润滑层42。保护层40的厚度是1～5nm。作为保护层40的材料，可以采用例如被称为类金刚石碳的硬质碳膜。另外，润滑层42的厚度是1～2nm。作为润滑层42的材料，可以采用PFPE(全氟聚醚)等氟类润滑剂。
在基板36与记录层22之间形成有反铁磁层44、软磁层46、用于给记录层22赋予厚度方向(垂直于表面的方向)的磁各向异性的取向层48。反铁磁层44的厚度是5～50nm。作为反铁磁层44的材料，可以采用PtMn合金、RuMn合金等。软磁层46的厚度是50～300nm。作为软磁层46的材料，可以采用Fe(铁)合金、Co(钴)非晶合金、铁氧体等。取向层48的厚度是2～40nm。作为取向层48的具体材料，可以采用非磁性的CoCr合金、Ti、Ru、Ru与Ta的层叠体、MgO等。
下面说明磁记录再现装置10的作用。
在磁记录再现装置10中，相对基本伺服凹凸图案，磁记录介质12的记录层22的伺服区域SA部分的一部分以该基本伺服凹凸图案的凹部沿径向Dr分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成，从而包含于此的凹部的宽度大小范围比基本伺服凹凸图案更加受到限定，因此如后述那样能够将记录层22的伺服区域SA部分以高精度轻易地加工成该不正规伺服凹凸图案。
此外，由于磁记录介质12的记录层22以在伺服区域SA中反映伺服信息的凹凸图案来形成，所以通过施加直流磁场来高效确实的记录伺服信息。若要更加详细地说明，则通过伺服区域SA的各凸部以在垂直于表面的方向上的规定方向被磁化，来记录0以及1中的任意一方信息，并通过各凹部没有磁化来记录另一方信息。
即，磁记录再现装置10中的磁记录介质12的制造以及向磁记录介质12的伺服信息的记录很容易、且生产效率高。
此外，磁记录再现装置10中的磁记录介质12的磁记录22的伺服区域SA部分的一部分是以将基本伺服凹凸图案的凹部沿径向Dr分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成的，但是，磁头14与记录层的伺服区域SA部分以基本伺服凹凸图案来形成的磁记录介质同样地、能够良好地再现伺服信息。这是因为由于磁头14主要沿磁记录介质12的周向Dc相对悬浮移动，所以即使凹部沿径向Dr分割也对伺服信息的再现的影响小。特别是，记录层22的不正规伺服凹凸图案是，在凹部单位区域CU中沿径向Dr连续的至少两个凹部单位区域CU的边界附近形成有分割用凸部22A、且在该连续的凹部单位区域CU形成有沿径向Dr被分割的凹部的凹凸图案，因此各凹部单位区域CU和形成与此的凹部的对应变得明显，这给伺服信息的良好再现提供贡献。
下面，顺着如图8所示的流程图，对磁记录介质12的制造方法进行说明。
首先，制作如图9所示的压模50，该压模50具有凹凸图案的转印面50A，该凹凸图案相当于磁记录介质12的记录层22的凹凸图案。具体地说，首先在Si、玻璃等基板(树脂层支承材料)52上涂敷正性抗蚀材料而形成树脂层54，并以相当于包含与记录层22的凹凸图案相同的不正规伺服凹凸图案的凹凸图案的曝光图案，使用电子束等对该树脂层54进行曝光(描画)(步骤S100)。
具体地说，相对基本伺服曝光图案(参照图4，图5)，对该基本伺服曝光图案的曝光区域的一部分不进行曝光，所以以包含将该基本伺服曝光图案的曝光区域沿径向Dr分割并进行曝光的不正规伺服曝光图案(参照图6)的曝光图案，对树脂层54进行曝光，而且，在上述基本伺服曝光图案中，相当于属于凹部单位区域CU的方格状区域的区域为曝光单位区域，而相当于属于凸部单位区域PU的方格状区域的区域为非曝光单位区域。更详细地说，由于对在曝光单位区域中沿径向Dr连续的曝光单位区域的边界附近不进行曝光，因此，以包含将该连续的曝光单位区域沿径向Dr分割并进行曝光的不正规曝光图案的曝光图案，对树脂层54进行曝光。即，对相当于记录层22的凹凸图案的凹部的部分，利用电子束进行曝光。
接着，通过显影除去树脂层54的曝光部，并通过将树脂层54加工成与记录层22的凹凸图案凹凸位置关系一致的凹凸图案来获得母盘56(S102)。不正规伺服凹凸图案是将基本伺服凹凸图案的凹部沿径向分割而成的凹凸图案，从而凹部的宽度大小比基本伺服凹凸图案更加受到限定，因此能够将曝光剂量(Dose Amount)调整为接近对全区域来说适当的值的值。因此，能够将树脂层54以高精度轻易地加工成所希望的凹凸图案，该凹凸图案包含相当于该不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。
接着，通过蒸镀法、非电解电镀法等来在母盘56的树脂层54上形成导电膜(省略图示)之后，将导电膜为电极，通过电解电镀法来形成Ni(镍)等的电解镀层，并通过将这些导电膜以及电解镀层从母盘上一体地剥离下来，而制作如图9以及图10所示地具有与记录层22的凹凸图案凹凸位置关系相反的凹凸图案(具有与记录层22的凹凸图案的凹部对应而形成的凸部、和与记录层22的凹凸图案的凸部对应而形成的凹部的凹凸图案)的转印面50A的压模50(S104)。此外，在图10中，实施了阴影的部分为凸部，而其他部分为凹部。此外，凹部单位区域CU、凸部单位区域PU为设定在记录层22上的区域，但为了对比压模50的凹凸图案和记录层22的凹凸图案，在图10中也为了便于说明，将相当于记录层22的凹凸单位图案CU的压模50的区域用符号CU来表示，而将相当于记录层22的凸部单位区域PU的压模50的区域用符号PU来表示。
接着，准备在基板36上依次形成有反铁磁层44、软磁层46、取向层48、(加工前的形态的、连续的)记录层22、第一掩模层58、第二掩模层60、树脂层62的、如图11所示的被加工体64，并通过压印将压模50的转印面50A上的凹凸图案转印到树脂层62上(步骤S106)。此外，作为第一掩模层58的材料，可以采用例如C(碳)，而作为第二掩模层60的材料，可以采用例如Ni。另外，作为树脂层62的材料，可以采用抗蚀材料等。如图11所示，将树脂层62加工成与记录层22的凹凸图案凹凸位置关系一致的凹凸图案。不正规伺服凹凸图案是将基本伺服凹凸图案的凹部沿径向分割而成的凹凸图案，且与此对应的压模50的转印面50A的凸部的宽度小，因此，残留在凹部底部的树脂层62的厚度在全区域中均匀且薄。
此外，如图12所示，通过利用O2或O3气体的反应性离子蚀刻将树脂层62均匀地蚀刻到可除去在树脂层62上构成凹部底部的部分的程度，从而使第二掩模层60在凹部底部露出。由于残留在凹部底部的树脂层62的厚度在全区域中均匀，所以，在全区域中，能够用大致相同的时间来除去构成树脂层62上的凹部底部的部分，从而能够防止或者充分抑制发生凹部宽度的偏差。
接着，通过利用Ar气体的离子束蚀刻，将树脂层62作为掩模而对第二掩模层60进行蚀刻(S108)。如图13所示，将第二掩模层60以高精度加工成与记录层22的凹凸图案凹凸位置关系一致的凹凸图案。
然后，通过利用SF6气体的反应性离子蚀刻来除去凹部底部的第一掩模层58(S110)，进而通过利用Ar气体的离子束蚀刻来除去凹部底部的记录层22，从而将记录层22加工成凹凸图案(S112)。将记录层22以高精度加工成凹凸图案，该凹凸图案包含如上述图6所示的伺服区域SA的不正规伺服凹凸图案。
然后，通过偏压溅射法在记录层22上成膜填充材料38而填充凹部(S114)，进而通过离子束蚀刻从相对记录层22的表面倾斜的方向照射Ar气体而除去剩余的填充材料38，从而使表面平坦(S116)。
接着，通过CVD法在记录层22以及填充材料38的上表面成膜保护层40(S118)，进而，通过浸渍法在保护层40上成膜润滑层42(S120)。由此完成磁记录介质12的制作。
这样，由于磁记录介质12的记录层22的伺服区域SA部分是以将基本伺服凹凸图案的凹部沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成的，从而凹部的宽度大小的范围比基本伺服凹凸图案更加受到限定，所以能够将光刻法的曝光剂量调整为接近对全区域来说适当值的值，因此能够将母盘56的树脂层54以高精度轻易地加工成相当于该不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。因此，能够以高精度轻易地制作压模50。
此外，当通过压印在被加工体64的树脂层62上转印压模50的转印面50A上的凹凸图案时，被转印到相当于伺服区域SA的部分的、相当于不正规伺服凹凸图案的凹凸图案，相对基本伺服凹凸图案，其凹部也沿径向Dr分割，从而凹部的宽度小，所以在全区域中残留在凹部底部的树脂层62的厚度变得均匀地薄，因此，压印后，对树脂层62进行均匀的蚀刻而除去凹部底部的树脂层62时，能够防止或者充分抑制凹部宽度的扩大。即，将树脂层62能够以高精度轻易地加工成凹凸图案，该凹凸图案包含相当于不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。基于该凹凸图案的树脂层62，将第二掩模层60、第一掩模层58也依次以高精度轻易地加工成凹凸图案，该凹凸图案包含相当于不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。从而，将记录层22以高精度加工成凹凸图案，该凹凸图案包含不正规伺服凹凸图案。
下面，对本发明的第二实施方式进行说明。
本第二实施方式的特征在于，如图14所示，记录层70的伺服区域SA部分，相对如上述图4以及图5所示的基本伺服凹凸图案，以凹部和凸部的边界的一部分的角部70A比相当于该角部70A的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服图案来形成，而且，在该基本伺服凹凸图案中，用于记录0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域CU、且用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域PU。对其他的结构，由于与上述第一实施方式相同，所以省略说明。
在这样将记录层70加工成凹部和凸部的边界的角部70A比相当于该角部70A的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案的情况下，将母盘56的树脂层54加工成相当于该不正规伺服凹凸图案的凹凸图案时，或将被加工体64的树脂层62作为掩模而对第二掩模层60进行蚀刻时，即使部分地除去树脂层54、树脂层62的凸部，角部70A也被加工成接近相当于此的基本伺服凹凸图案的角部的形状，而很难带有弧度。换而言之，加工条件的容许范围大，与此对应生产效率也好。
此外，记录层70的伺服区域SA部分以凹部和凸部的边界的角部70A比相当于该角部70A的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服图案来形成的磁记录介质，与记录层的伺服区域SA部分以基本伺服凹凸图案来形成的磁记录介质同样，可良好地再现伺服信息。在角部带有弧度时，相对相当于此的基本伺服凹凸图案的角部，形状的差异变得显著，但是，当凹部和凸部的边界的角部比相当于此的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐时，形状的差异变小，因此能够良好地再现伺服信息。为了良好地再现伺服信息，如图14所示的角部70A那样，凹部和凸部的边界的角部，优选采用内角为锐角且在该边界上的该角部(在从垂直于表面的方向看的俯视图中)为凸的一侧包含突出的突起部的不正规伺服凹凸图案。
此外，在上述第一实施方式中，作为记录层22的伺服区域SA的基本伺服凹凸图案而举例了如图4以及图5所示的基本伺服凹凸图案，并作为不正规伺服凹凸图案而举例了如图6所示的不正规伺服凹凸图案，此外，在上述第二实施方式中，作为不正规伺服凹凸图案而举例了如图14所示的不正规伺服凹凸图案，但是，记录层的基本伺服凹凸图案以及不正规伺服凹凸图案，只要按照所要求的性能等酌情决定即可。
例如，在图3中，举例了由前同步信号部26、SAM部28、轨道地址信号部30、扇区地址信号部32以及脉冲串信号部34构成的伺服信息，但是，伺服信息按照所要求的性能等，也可以将这些的一部分交换而配置、或采用省略这些的一部分的结构、或在这些中追加负责其他功能的部分的结构，而且，记录层的基本伺服凹凸图案以及不正规伺服凹凸图案是按照这种伺服信息酌情决定即可。
此外，划分伺服区域SA的方格状区域并不仅限于内角为直角的正方形或长方形，而也可以是平行四边形。
此外，在上述第一实施方式中，记录层22的不正规伺服凹凸图案是在凹部单位区域CU中沿径向Dr连续的凹部单位区域CU的边界附近形成有凸部、且在该连续的凹部单位区域CU形成有沿径向Dr分割的凹部的凹凸图案，但是，只要磁头14能够将各凹部单位区域CU可靠地识别为凹部，则也可以采用在凹部单位区域CU中的其他部位形成有凸部、且基本伺服凹凸图案的凹部沿径向Dr被分割的不正规伺服凹凸图案。
此外，在上述第一实施方式中，记录层22的不正规伺服凹凸图案是将基本伺服凹凸图案的凹部沿径向Dr分割而成的凹凸图案，但是，也可以采用将基本伺服凹凸图案的凸部沿径向Dr分割而成的不正规伺服凹凸图案。在上述第一实施方式中，作为母盘56的树脂层54的材料而采用正性抗蚀材料，并对在树脂层54上的相当于记录层22的凹部的部分进行曝光，但是，当采用将基本伺服凹凸图案的凸部这样沿径向Dr分割而成的不正规伺服凹凸图案时，作为母盘56的树脂层54的材料如果采用负性的抗蚀材料，则变成对在树脂层54上的相当于记录层22的凸部的部分进行曝光。因此，通过作为树脂层54的材料而采用负性抗蚀材料，使曝光部的宽度大小的范围比基本伺服凹凸图案更受到限定，从而能够将曝光剂量调整到接近对全区域来说适当的值的值。由此，可以以高精度制作母盘，并能够将记录层以高精度轻易地加工成包含该不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。此外，与第一实施方式相同，作为母盘56的树脂层54的材料而采用正性抗蚀材料来制作母盘56、压模50，并将压模50作为金属母盘(Metal Master)来制作具有与压模50凹凸位置关系相反的凹凸图案的转印面的压模，然后通过该压模在树脂层62上转印相当于将基本伺服凹凸图案的凸部沿径向Dr分割而成的不正规伺服凹凸图案的凹凸图案，从而也可以将记录层22加工成该不正规伺服凹凸图案。
此外，在上述第一实施方式的图6中，记录层22的不正规伺服凹凸图案是，在基本伺服凹凸图案上的沿径向Dr连续的全部凹凸单位区域CU的边界形成有凸部、且将全部凹凸单位区域CU的凹部沿径向Dr分割而成的凹凸图案，但是，只要能够良好地再现伺服信息，则也可以采用在基本伺服凹凸图案上的沿径向Dr连续的一部分凹部单位区域CU的边界形成有凸部、且将一部分凹部单位区域CU的凹部沿径向Dr分割而成的不正规伺服凹凸图案。
此外，在上述第二实施方式的图14中，记录层70的不正规伺服凹凸图案是，在凹部和凸部的边界的角部中相对邻接的凹部(在从垂直于表面的方向看的俯视图)为凸的凸部的角部比相当于该角部的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的凹凸图案，但是，也可以采用相对邻接的凸部为凸的凹部的角部比相当于该角部的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案。
此外，在上述第二实施方式的图14中，记录层70的凹凸图案是，在凹部和凸部的边界的角部中相对邻接的凹部为凸的凸部的角部70A包含内角为锐角且向上述边界上的该角部70A为凸的侧突出的突起部的凹凸图案，但是，也可以采用相对邻接的凸部为凸的凹部的角部包含内角为锐角且在向上述边界上的该角部为凸的侧突出的突起部的凹凸图案。这时也可以良好地再现伺服信息。
此外，在上述第二实施方式的图14中，记录层70的不正规伺服凹凸图案是，在凹部和凸部的边界的角部中向邻接的凹部突出的凸部的全体角部比相当于该角部的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的凹凸图案，但是，也可以采用凹部和凸部的边界的角部的部分角部比相当于该角部的凹部单位区域CU和凸部单位区域PU的边界的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案。
此外，在上述第一实施方式中，记录层22的不正规伺服凹凸图案是将基本伺服凹凸图案的凹部沿径向Dr分割而成的凹凸图案，而在上述第二实施方式中，记录层70的不正规伺服凹凸图案是，相对基本伺服凹凸图案，凹部和凸部的边界的角部比相当于该角部的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的凹凸图案，但是，如图15所示的本发明的第三实施方式的记录层80那样，也可以采用将基本伺服凹凸图案的凹部或者凸部的一部分沿径向Dr分割、且凹部和凸部的边界的角部的一部分比相当于该角部的基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案。
此外，上述第一实施方式的图6、上述第二实施方式的图14以及上述第三实施方式的图15是放大表示记录层22、70、80上的伺服区域SA的轨道地址信号部30的图，但是，以不正规伺服凹凸图案形成记录层的区域，可以是伺服区域SA的全体，也可以是如轨道地址信号部30那样，限定在凹凸图案微细且复杂的区域。
此外，在上述第一实施方式中，被加工体64是在记录层22上形成有第一掩模层58、第二掩模层60、树脂层62的结构，并通过对这些依次进行蚀刻来将记录层22加工成包含不正规伺服凹凸图案的凹凸图案，但是，只要能够将记录层以高精度加工成包含不正规伺服凹凸图案的凹凸图案，则对记录层和树脂层之间的掩模的材料、厚度、层积层数不会特别进行限定，例如，记录层和树脂层之间的掩模层可以作成一层，也可以作成3层以上，此外，也可以在记录层上直接形成树脂层。
此外，在上述第一实施方式中，使用压模50并通过压印来将被加工体64的树脂层62加工成凹凸图案，但也可以作为树脂层62的材料而采用抗蚀材料，并如图16的流程图所示的本发明的第四实施方式那样，对树脂层62进行曝光(S200)、显影(S202)而加工成凹凸图案。这时，也通过将形成在伺服区域SA上的凹凸图案采用将基本伺服凹凸图案的凹部或者凸部的至少一部分沿径向Dr分割而成的不正规伺服凹凸图案，而能够将曝光剂量调整为接近对全区域来说适当的值的值，并能够将树脂层62以高精度加工成所期望的凹凸图案，该凹凸图案包含相当于不正规伺服凹凸图案的凹凸图案。
在上述第一～第三实施方式中，在磁记录介质12的记录层22、70、80的凸部之间的凹部，填充有填充材料38，但只要能够获得充分良好的磁头14的悬浮特性，则也可以采用不填充记录层22、70、80的凸部之间的凹部的结构。
另外，在上述第一～第三实施方式中，磁记录介质12是将记录层22、70、80的数据区域DA部分沿径向Dr以微细间隔分割成多个记录要素24的离散轨道介质，但是，对于将记录层的数据区域DA部分以沿径向Dr和周向Dc以微细间隔分割成多个记录要素的晶格介质、和记录层的数据区域DA部分以均匀的厚度连续的磁记录介质，本发明也能够适用。
此外，在上述第一～第三实施方式中，磁记录介质12是垂直记录型，但是，对于面内记录型的磁记录介质，本发明也能够适用。
产业上的可利用性本发明可利用于以凹凸图案形成记录层的磁记录介质上。
权利要求
1.一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，而且相对于基本伺服凹凸图案，该记录层的上述伺服区域部分的至少一部分是以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部中的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成的，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域，而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。
2.如权利要求1所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在上述凹部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凹部单位区域的边界附近形成有凸部，而在该连续的凹部单位区域形成有沿上述径向被分割的凹部。
3.如权利要求1所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在上述凸部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凸部单位区域的边界附近形成有凹部，而在该连续的凸部单位区域形成有沿上述径向被分割的凸部。
4.如权利要求1所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在该不正规伺服凹凸图案的凹部和凸部的边界的角部中至少一部分的角部比与该角部相当的上述基本伺服凹凸图案的角部尖锐。
5.一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域中，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，而且相对于基本伺服凹凸图案，该记录层的上述伺服区域部分的至少一部分是以在凹部和凸部的边界的角部中至少一部分角部比与该角部相当的上述基本伺服凹凸图案的角部尖锐的不正规伺服凹凸图案来形成的，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域、而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。
6.一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，该记录层被划分为多个数据区域和多个伺服区域而被使用，且上述伺服区域部分是以伺服凹凸图案来形成的，在上述伺服凹凸图案的凹部和凸部的边界的角部中的至少一部分角部，包含有内角为锐角、且向上述边界上的该角部为凸的一侧突出的突起部。
7.一种磁记录再现装置，其特征在于，具有权利要求1-6中任一项所述的磁记录介质；磁头，其用于接近该磁记录介质的表面而进行数据的记录/再现。
8.一种压模，其特征在于，具有与权利要求1-6中任一项所述的磁记录介质的记录层的凹凸图案相当的凹凸图案的转印面。
9.一种压模的制造方法，用于制造磁记录介质，该磁记录介质具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，该记录层的上述伺服区域部分是以规定的伺服信息的凹凸图案来形成的，其特征在于，包括曝光工序，用于将与形成在树脂层支承材料上的抗蚀材料的树脂层上的上述伺服区域的至少一部分相当的部分，相对于基本伺服曝光图案，以不正规伺服曝光图案来进行曝光，该基本伺服曝光图案是在上述方格状区域中，与用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域相当的区域为曝光单位区域，而与用于记录另一方信息的方格状区域相当的区域为非曝光单位区域，该不正规伺服曝光图案是如下的图案不将该基本伺服曝光图案的曝光区域的一部分曝光，而将该基本伺服曝光图案的曝光区域的至少一部分沿径向分割并进行曝光；显影工序，用于对上述树脂层进行显影而选择性地除去该树脂层的曝光部以及非曝光部中的任意一方，从而加工成与上述不正规伺服曝光图案相当的凹凸图案。
10.如权利要求9所记载的压模的制造方法，其特征在于，上述不正规伺服曝光图案是如下的曝光图案对上述曝光单位区域中沿上述径向连续的至少两个曝光单位区域的边界附近不进行曝光而将该连续的曝光单位区域沿上述径向分割而进行曝光。
11.一种磁记录介质的制造方法，该磁记录介质具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状的各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，其特征在于，包括曝光工序，用于将与在作为上述记录层的加工前的形态的连续记录层上直接或者间接地形成有抗蚀材料的树脂层的被加工体的上述树脂层上的上述伺服区域的至少一部分相当的部分，相对于基本伺服曝光图案，以不正规伺服曝光图案来进行曝光，该基本伺服曝光图案是在上述方格状区域中，与用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域相当的区域为曝光单位区域，而与用于记录另一方信息的方格状区域相当的区域为非曝光单位区域，该不正规伺服曝光图案是如下的图案不将该基本伺服曝光图案的曝光区域的一部分曝光，而将该基本伺服曝光图案的曝光区域的至少一部分沿径向分割并进行曝光；显影工序，用于对上述树脂层进行显影而选择性地除去该树脂层的曝光部以及非曝光部中的任意一方，从而加工成与上述不正规伺服曝光图案相当的凹凸图案。
12.如权利要求11所记载的磁记录介质的制造方法，其特征在于，上述不正规伺服曝光图案是如下的曝光图案对上述曝光单位区域中沿上述径向连续的至少两个曝光单位区域的边界附近不进行曝光而将该连续的曝光单位区域沿上述径向分割并进行曝光。
13.一种磁记录介质的制造方法，该磁记录介质具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状的各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，其特征在于，包括压印工序，用于在作为上述记录层的加工前的形态的连续记录层上直接或者间接地形成有抗蚀材料的树脂层的被加工体的上述树脂层上使压模接触，而将该树脂层上的与上述伺服区域的至少一部分相当的部分，相对于基本伺服凹凸图案，加工成将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，与用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域相当的区域为构成凹部的凹部单位区域，而与用于记录另一方信息的方格状区域相当的区域为构成凸部的凸部单位区域。
14.如权利要求13所记载的磁记录介质的制造方法，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下的凹凸图案在上述凹部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凹部单位区域的边界附近形成有凸部，而在该连续的凹部单位区域形成有沿上述径向被分割的凹部。
全文摘要
本发明提供记录层以凹凸图案形成且生产效率高的磁记录介质、具有该磁记录介质的磁记录再现装置、用于制造该磁记录介质的压模、该压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法。记录层(22)的伺服区域部分的一部分，相对基本的伺服凹凸图案，以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部中的任意一方的至少一部分沿径向(Dr)分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成，而且，在上述基本的伺服凹凸图案中，用于记录0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域(CU)、且用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域(PU)。
文档编号G11B5/00GK1873786SQ20061008424
公开日2006年12月6日 申请日期2006年5月30日 优先权日2005年5月31日
发明者大川秀一, 中田胜之, 服部一博, 高井充 申请人:Tdk股份有限公司