专利名称：显示装置及其制造方法
技术领域：
本发明涉及显示装置及其制造方法，尤其涉及具备有机发光层的显示装置及其制造方法。
背景技术：
近年来，正进行着利用了有机材料的电致发光现象的显示装置的研究、开发。在该显示装置中，各像素部构成为具有阳电极及阴电极和介于它们之间的有机发光层。并且，在显示装置的驱动中，从阳电极注入空穴，从阴电极注入电子，通过空穴与电子在有机发光层内复合，进行发光。在相邻的像素部的有机发光层彼此之间，通过由绝缘材料构成的提(bank)进行区划。有机发光层的形成通过例如下述方式进行在由提区划出的各区域，滴下含有有机发光材料的墨，并使其干燥。然而，存在难以使如上所述形成的有机发光层的膜厚均勻的问题。在此，为了使有机发光层的膜厚均勻，例如在专利文献1中记载了如下技术在提内面设置凸状部，由此控制墨的锁住(pinning)位置。即，通过采用专利文献1中提出的技术，能够将一个像素部的墨锁在形成了墨滴下时的锁住位置的凸状部，由此，能够确保某种程度的膜厚均勻性。在先技术文献专利文献1 日本特开2007-311235号公报
发明内容
然而，可以认为关于显示装置的面板的整个区域(中央部、外周部)，采用由上述的专利文献1所提出的技术，难以按照面板的区域高精度地在提内面形成微细的凸状部。 因此，在显示装置的面板的整个区域(中央部、外周部)中，不容易使有机发光层的膜厚均勻。本发明是为了谋求解决上述问题而完成的发明，其目的在于提供一种谋求位于面板外周部的像素部的有机发光层的膜厚的均勻化、且面板面内的辉度(brightness)不勻少的显示装置及其制造方法。因此，本发明的一种方式的显示装置的特征在于采用如下结构。本发明的一种方式的显示装置由排列多个像素部而成，各像素部构成为具有第一电极及第二电极、和夹在第一电极与第二电极之间的有机发光层。在本发明的一种方式的显示装置中，在第一电极的上方，立设有按各像素部区划有机发光层的多个提。所述多个像素部包括都位于像素排列的端部侧、且在像素排列的方向上彼此相邻的第一像素部和第二像素部，多个提包括区划第一像素部的有机发光层和第二像素部的所述有机发光层的第一提。在本发明的一种方式的显示装置中，特征在于，在第一提中，与第一像素部对应的第一侧面部的倾斜角度比与第二像素部对应的第二侧面部的倾斜角度大。在本发明的一种方式的显示装置中，在形成于像素排列的端部侧的第一提中，具有与第一像素部对应的第一侧面部的倾斜角度比与第二像素部对应的第二侧面部的倾斜角度大的关系，因此，对于其制造时的滴下了墨时的锁住位置，第一侧面部的锁住位置比第二侧面部的锁住位置高。因此，在干燥工序中，第一像素部的有机发光层的与第一侧面部对应的膜厚，具有相对于第二像素部的有机发光层的与第二侧面部对应的膜厚而要变薄的倾向。另一方面，如上所述，由于蒸气浓度分布的不均勻，干燥后的有机发光层的膜厚会产生如下倾斜第一像素部的与第一侧面部对应的部分，相对于第二像素部的与第二侧面部对应的部分而要变厚。因此，在本发明的一种方式的显示装置中，由蒸气浓度分布的不均勻导致的与第一侧面部对应的部分的有机发光层的膜厚要变厚的作用，被由增大所述第一侧面的倾斜角度所产生的膜厚的降低作用所抵消，因此，能够使端部侧像素部的有机发光层的膜形状一致。因此，在本发明的一种方式的显示装置中，能谋求位于面板外周部的像素部的有机发光层的膜形状的均勻化，实现辉度不均勻的降低。
图1是表示实施方式的显示装置1的概略结构的框图。图2是表示显示面板10中的像素部100的示意剖视图。图3是表示显示面板10中的提105的示意俯视图。图4是表示显示面板10中的像素部IOOa IOOc各自的提10 105d的构造的示意剖视图。图5(a)是表示提侧面部的锥角小的情况下的锁住位置的示意剖视图，图5(b)是表示提侧面部的锥角大的情况下的锁住位置的示意剖视图，图5(c)是表示提侧面部的锥角小的情况下的干燥后的有机发光层的状态的示意剖视图，图5(d)是表示提侧面部的锥角大的情况下的干燥后的有机发光层的状态的示意剖视图。图6是汇总表示提的倾斜角度(锥角)θ、锁住高度H以及有机发光层的膜厚T的关系的图。图7是表示样品1 3的有机发光层的膜厚分布的图。图8是表示样品4、5的有机发光层的膜厚分布的图。图9 (a) 图9 (c)是依次表示显示面板10的制造方法的主要工序的示意剖视图。图10(a) 图10(c)是依次表示显示面板10的制造方法的主要工序的示意剖视图。图11是表示变形例1的制造方法的主要工序的示意剖视图。图12(a) 图12(b)是依次表示变形例2的制造方法的主要工序的示意剖视图。图13(a) 图13(b)是依次表示变形例2的制造方法的主要工序的示意剖视图。图14(a)是表示曝光、显像处理和提的锥角的关系的图，图14(b)是表示形成的提的形状的AFM。图15是表示包括显示装置1的设备(set)的外观的一个例子的外观立体图。
图16是表示变形例3的显示面板30具备的提305的构造的示意俯视图。图17(a)是表示现有技术的显示面板的有机发光层的示意剖视图，图17(b)是表示显示面板的各区域的有机发光层的膜厚均勻性分布的图。图18是表示形成有机发光层时的干燥工序中的蒸气浓度分布的示意剖视图。图19是用于说明干燥工序中的膜形状的偏移的机理(mechanism)的示意剖视图。标号说明1 显示装置；10、30 显示面板；20 驱动控制部；21 M 驱动电路；25 控制电路；100、100a 100c,300 像素部；101 基板；102 阳电极；103 电极覆盖层；104 空穴注入层；105,105a 105f、105x、105y、305 提；106、106a、106c、106x、106y 有机发光层； 107 电子注入层；108 阴电极；109 封止层；501 505 曝光掩模；1050、1051a、1051b、 1051e、1051f 提材料层；1060xU060y 墨
具体实施例方式(本发明的一种方式的概要)本发明的一种方式的显示装置由排列多个像素部而成，各像素部构成为具有第一电极及第二电极、和夹在第一电极与第二电极之间的有机发光层。在本发明的一种方式的显示装置中，在第一电极的上方，立置有按各像素部区划有机发光层的多个提。所述多个像素部包括都位于像素排列的端部侧、且在像素排列的方向上彼此相邻的第一像素部和第二像素部，多个提包括区划第一像素部的有机发光层和第二像素部的所述有机发光层的第一提。本发明的一种方式的显示装置，特征在于，在第一提中，与第一像素部对应的第一侧面部的倾斜角度比与第二像素部对应的第二侧面部的倾斜角度大。在本发明的一种方式的显示装置中，在对位于像素排列的端部侧的相邻的像素部之间进行区划的第一提中，第一侧面部的倾斜角度比第二侧面部的倾斜角度大，因此，在形成有机发光层的工序中，在滴下了墨时，第一侧面部的锁住位置为比第二侧面部的锁住位置高。具体来说，倾斜角度相对较大的第一侧面部的锁住位置比倾斜角度相对较小的第二侧面侧的锁住位置高。并且，对于干燥后的有机发光层的膜厚，与第一提的第一侧面部对应的部分的有机发光层的膜厚相对于与第二侧面部对应的有机发光层的膜厚而要变薄。由此，由干燥时要减小表面自由能的溶剂的移动所导致的该部分的膜厚要增加的作用，被由使第一侧面部的倾斜角度比第二侧面部大所产生的锁住位置的变化相伴的膜厚的降低作用所抵消，能谋求包括像素排列的端部侧的像素部的全部像素部的有机发光层的膜形状的均勻化。由此，在本发明的一种方式的显示装置中，能谋求所有像素部的有机发光层的膜厚的均勻化，实现辉度不勻的减小。另外，本发明的一种方式的显示装置，在上述结构中，进一步尝试抽出位于像素排列的中央部侧、且彼此在像素排列的方向上相邻的第三像素部和第四像素部。此时，在所述多个提中，包括区划第三像素部的有机发光层和第四像素部的有机发光层的第二提。在这样的结构中，可以采用如下的结构形成为第二提的与所述第三像素部对应的第三侧面部的倾斜角度与第二提的与所述第四像素部对应的第四侧面部的倾斜角度彼此相等。
如图17(a)和图17(b)所示，在面板中央部(像素排列的中央部侧)，像素部的有机发光层906a、906b的膜厚为大致均勻的状态。因此，通过使第三侧面部和第四侧面部的彼此的倾斜角度相等，能够使位于像素排列的中央侧的像素部的有机发光层的膜厚得到均勻地维持。上述的所谓的“相等”不是意味着在数值方面完全相等，而是考虑了显示装置的制造中的尺寸误差等的概念。具体来说，为在整个面板的多个像素部的发光效率的差异(辉度不勻)是实用中能够容许的差异的范围内，使第三侧面部和第四侧面部的倾斜角度彼此相等之意。进一步，在本发明的一种方式的显示装置中，在上述结构中，可以采用如下的结构多个提包括在像素排列的端部侧区划第二像素部的有机发光层的第三提，第三提的与第二像素部对应的第五侧面部的倾斜角度比所述第二侧面部的倾斜角度大。在采用这样的结构的情况下，在与第五侧面部对应的部分也能以上述的关系来抑制第二像素部的有机发光层的膜厚变厚，能谋求像素部整体的有机发光层的膜厚的均勻化。在本发明的一种方式的显示装置中，在上述结构中，作为一个例子可以为使第一侧面部的倾斜角度处于35°以上且40°以下的范围内，使第二侧面部的倾斜角度处于 25°以上且30°以下的范围内。若以这样的范围的倾斜角度形成第一侧面部和第二侧面部，则能够在所有端部侧像素部，可靠地使各有机发光层的膜厚(膜形状)均勻。另外，在本发明的一种方式的显示装置中，在上述结构中，作为一个例子可以为 使第三侧面部和第四侧面部的倾斜角度都处于25°以上且30°以下的范围内。若以这样的范围的倾斜角度形成第三侧面部和第四侧面部，则能够整体上使中央侧像素部的有机发光层的膜厚均勻化。在上述中，所谓“倾斜角度”是提的各侧面部和设置有提的基底层(第一电极、空穴注入层或者空穴输送层属于该层，进一步，空穴注入输送层属于该层)的上面所成的角度。本发明的一种方式的显示装置的制造方法，为制造排列多个像素部而成的显示装置的方法，包括如下工序。(第一工序)在基板上形成包括第一电极的功能层。(第二工序)在功能层上层叠感光性抗蚀材料。(第三工序)通过对由执行第二工序而对层叠的感光性抗蚀材料进行掩模曝光而进行图形化，形成与多个像素部对应的多个开口部，并且形成对邻接的开口部之间进行区划的多个提。(第四工序)对多个开口部的各个开口部，滴下有机发光材料并使其干燥，形成有机发光层。(第五工序)在有机发光层的上方形成第二电极。并且，在本发明的一种方式的显示装置的制造方法中，多个开口部包括都位于像素排列的端部侧、且在像素排列的方向上彼此相邻的第一开口部和第二开口部，多个提包括对第一开口部和第二开口部的有机发光层彼此进行区划的第一提。并且，特征在于，在所述第三工序中，以使第一提的与第一开口部对应的第一侧面部的倾斜角度大于第一提的与第二开口部对应的侧面部(以下为了简便起见而记载为“第二侧面部”)的倾斜角度的方式，进行第一提的形成。通过采用这样的制造方法，能够制造具有第一提的第一侧面部的倾斜角度比第二侧面部的倾斜角度大的关系的显示装置。在使用这样的方式制造出的显示装置中，如上所述，对于其制造时对端部侧开口部滴下墨时的锁住位置，第一侧面部的锁住位置比第二侧面部的锁住位置高，根据上述的锁住位置和膜厚的关系，能谋求有机发光层的膜厚的均勻化，能实现辉度不勻的降低。因此，在本发明的一种方式的显示装置的制造方法中，能够制造谋求面板外周部 (像素排列的端部侧)的像素部的有机发光层的膜厚的均勻化、面内的辉度不均勻少的显
示装置。另外，在本发明的一种方式的显示装置的制造方法中，在上述结构中，作为一个例子可以采用如下的结构在执行第三工序时，通过使对与第一侧面部相当的部分的感光性抗蚀材料曝光的曝光量大于对与第二侧面部相当的部分的感光性抗蚀材料曝光的曝光量， 使第一侧面部的倾斜角度大于第二侧面部的倾斜角度。另外，在本发明的一种方式的显示装置的制造方法中，在上述结构中，可以采用如下的结构在执行第三工序时，通过使用具有与第一侧面部相当的部分的光透射率比与第二侧面部相当的部分的光透射率大的关系的掩模进行曝光，使第一侧面部的倾斜角度大于第二侧面部的倾斜角度。由此，能够制造第一侧面部的倾斜角度大于第二侧面部的倾斜角度大、面内的辉不勻少的显示装置。另外，在本发明的一种方式的显示装置的制造方法中，可以采用如下的结构在执行第三工序时，关于与第一侧面部相当的部分和与第二侧面部相当的部分，对感光性抗蚀材料进行曝光、显像之后，对与第一侧面部相当的部分追加进行曝光处理。通过这样的方案，也能够形成具有第一侧面部的倾斜角度比第二侧面部的倾斜角度大的关系的第一提和
第一提。[实施方式]以下，参照附图对用于实施本发明的方式的一个例子进行说明。以下的说明中所使用的方式是用于容易理解地说明本发明的结构及作用、效果的例子，除了其本质的特征部分以外，本发明不受以下任何方式限定。(得到本发明的实施方式的过程)本发明者对在“背景技术”中记载的有机发光显示装置进行了潜心研究，其结果得出了如下的见解。通常，如图17(a)所示，有机发光层906a、906c形成在立设于基板901上的提905 之间。在该情况下，如图17(b)所示，面板外周部的像素部的有机发光层906c与面板中央部的像素部的有机发光层906a相比，有膜厚的均勻性降低的倾向(由图17(b)的双点划线D1A2指示的部分)。具体来说，本发明者确认了 在位于面板外周部的像素部中，越往面板外周部，有机发光层的表面越高。在图17(b)中，横轴表示距外周端的距离，纵轴表示膜厚不勻的程度。关于上述现象，本发明者反复研究之后，推定出有机发光层的膜厚的均勻性的降低如以下说明的那样是由墨干燥时的蒸气浓度分布的不均勻所引起的。具体来说，如图18所示，位于面板外周部的图像部900b、900c附近的蒸气浓度比位于面板中央部的像素部900a附近的蒸气浓度低。并且，由于该蒸气浓度分布的不均勻，在面板外周部的像素部 900b、900c所滴下的墨的溶剂的蒸发速度变为不均勻(参照图18的由双点划线包围的部分)。另一方面，在面板中央部的像素部900a所滴下的墨的蒸发速度为大致均勻。但是，如图19(b)所示，在干燥途中的墨9061d的内部，会发生如由实线箭头所示的溶剂的移动。这是溶剂为了补偿蒸发了的溶剂的部分而进行的移动(以使表面自由能最小的方式进行移动)，伴随着溶剂的移动，溶质(有机发光材料)也会移动。因此，如图 19(c)所示，在面板外周部的像素部中，形成表面轮廓L2越往外侧越隆起了的有机发光层 906d。如以上那样，本发明者关于有机发光显示装置得出了如下推论在面板的外周部侧和中央部侧，由于墨干燥时的蒸气浓度分布的不均勻，有机发光层的膜厚的均勻性会降低。并且，本发明者发现了如下技术特征在面板面内，通过使提侧面部的倾斜角度不同，使墨的提侧面部的锁住位置不同，其结果，能谋求有机发光层的膜厚的均勻化。1.显示位置1的概略结构使用图1对本实施方式的显示装置1的整体结构进行说明。如图1所示，显示装置1构成为具有显示面板部10和与其连接的驱动控制部20。 显示面板部10是利用了有机材料的电致发光现象的有机EL (电致发光)面板，通过排列多个有机EL元件而构成。另外，驱动控制部20由4个驱动电路21 M和控制电路25构成。在实际的显示装置1中，关于驱动控制部20相对于显示面板部10的配置，不限于此。2.显示面板10的结构使用图2对显示面板10的结构进行说明。本实施方式的显示面板10作为一个例子采用顶部发射型的有机EL面板，构成为呈矩阵状配置有多个像素部100，所述像素部100 具备具有红(R)、绿(G)、蓝(B)的任一种发光颜色的有机发光层，在图2中抽出一个像素部 100进行了表示。如图2所示，显示面板10在TFT (薄膜晶体管)基板(以下简称为“基板”)101 上形成有阳电极102，在阳电极102上依次层叠形成有电极覆盖层103和空穴注入输送层 104。阳电极102和电极覆盖层103按各像素部100在分离了的状态下形成。在电极覆盖层103上覆盖形成有空穴注入输送层104，进一步在其上立设有由绝缘材料形成的区划各像素部100的提105。在各像素部100的由提105区划出的区域形成有机发光层106，在其上依次层叠形成有电子注入层107、阴电极108以及封止层109。a)基板 101基板101例如将无碱玻璃、钠玻璃、无荧光玻璃、磷酸系玻璃、硼酸系玻璃、石英、 丙烯系树脂、苯乙烯系树脂、聚碳酸酯系树脂、环氧系树脂、聚乙烯、聚酯、硅系树脂、或氧化铝(alumina)等绝缘性材料作为基底(base)而形成。b)阳电极 102
阳电极102由包含导电性材料的单层或者层叠多层而成的层叠体构成，例如使用 Ag(银)、APC(银、钯、铜的合金)、ARA(银、铷、金的合金)、MoCr (钼和铬的合金)、NiCr (镍和铬的合金)等形成。在如本实施方式这样为顶部发射型的情况下，优选由高反射性的材料形成。c)电极覆盖层103电极覆盖层103例如使用ITO(氧化铟锡)形成，覆盖阳电极102的Z轴方向上部的表面。d)空穴注入输送层104空穴注入输送层104是例如由银(Ag)、钼(Mo)、铬(Cr)、钒(V)、钨(W)、镍(Ni)、 铱(Ir)等的氧化物形成的层。由这样的氧化金属形成的空穴注入输送层104具有使空穴稳定地、或者辅助空穴的生成对有机发光层106注入和输送空穴的功能，具有大的功函数。在此，在由过渡金属的氧化物构成空穴注入输送层104的情况下，通过取多个氧化数，由此能够取多个能级，其结果，空穴注入变得容易，能够降低驱动电压。对于空穴注入输送层104，除了以如上所述的金属氧化物来形成之外，还可以使用 PEDOT (聚噻吩(polythiophene)和聚苯乙烯磺酸的混合物)等来形成。e)提 105提105由树脂等有机材料形成，具有绝缘性。作为用于形成提105的有机材料的例子，可以列举出丙烯系树脂、聚酰亚胺系树脂、酚醛清漆型酚树脂等。并且，提105优选具有有机溶剂耐性。进一步，在提105的形成中，因为实施蚀刻处理和烘培处理等，因此优选由对于这些处理不会发生过度变形、过度变质等的耐性高的材料来形成。另外，为了使其具有拨水性，也可以对侧面部进行氟处理。关于用于形成提105的绝缘材料，可以使用以上述各种材料为代表的、特别是电阻率为IO5 Ω · cm以上、且具有拨水性的材料。这是因为在使用了电阻率为IO5 Ω · cm以下的材料的情况下，成为导致在阳电极102与阴电极108之间产生泄露电流、或者在相邻像素部100之间产生泄露电流的原因，会产生功耗增加等各种问题。另外，是因为在使用亲水性的材料形成了提105的情况下，提105的侧面部与空穴注入输送层104的表面的亲和性/拨水性的差异变小，为了形成有机发光层106而使提 105的开口部选择性地保持含有有机物质的墨变得困难。进一步，关于提105的构造，不仅可以是图2所示的单层构造，也可以采用两层以上的多层构造。在该情况下，既可以按每层而组合上述材料，也可以按每层而使用无机材料和有机材料。f)有机发光层106有机发光层106具有通过使从阳电极102注入的空穴和从阴电极108注入的电子复合而产生激励状态进行发光的功能。用于形成有机发光层106的材料，需要使用能够使用湿式印刷法进行制膜的发光性的有机材料。具体而言，优选例如由特许公开公报(日本特开平5-163488号公报)所记载的类喔星(oxinoid)化合物、茈化合物、香豆素化合物、氮杂香豆素化合物、噁唑化合物、噁二唑化合物、紫环酮(perinone)化合物、吡咯并吡咯化合物、萘化合物、蒽化合物、芴化合物、荧蒽化合物、并四苯化合物、芘化合物、晕苯化合物、喹诺酮化合物及氮杂喹诺酮化合物、吡唑啉衍生物及吡唑啉酮衍生物、若丹明化合物、奠(chrysene)化合物、菲化合物、环戊二烯化合物、芪化合物、二苯基苯醌化合物、苯乙烯基化合物、丁二烯化合物、双氰亚甲基吡喃化合物、双氰亚甲基噻喃化合物、荧光素化合物、吡喃鐺化合物、噻喃鐺化合物、硒吡喃鐺化合物、碲吡喃鐺化合物、芳香族坎利酮化合物、低聚亚苯基化合物、噻吨化合物、蒽化合物、花青苷化合物、吖啶化合物、8-羟基喹啉化合物的金属配合物、2-联吡啶化合物的金属配合物、席夫盐与III族化合物的配合物、8-羟基喹啉(喔星)金属配合物、稀土类配合物等荧光物质形成。g)电子注入层107电子注入层107具有向有机发光层106输送从阴电极108注入的电子的功能，例如优选由钡、酞菁(phthalocyanine)、氟化锂、或它们的组合来形成。h)阴电极 108阴电极108例如由ΙΤ0、ΙΖ0(氧化铟锌)等形成。在为顶部发射型的显示面板10 的情况下，优选由光透射性的材料来形成。关于光透射性，优选设为透射率为80%以上。作为用于形成阴电极108的材料，除了上述材料以外，例如也可以使用将含有碱金属、碱土类金属、或它们的卤化物的层和含有银的层按照该顺序层叠而得到的构造。在上述说明中，含有银的层既可以由银单独来形成，也可以由银合金来形成。另外，为了谋求提高光取出效率，也可以在该含有银的层上设置透明度高的折射率调整层。i)封止层 109封止层109具有抑制有机发光层106等暴露于水分、空气的功能，例如能使用 SiN(氮化硅)、SiON(氮氧化硅)等材料来形成。在顶部发射型的显示面板10的情况下， 优选由光透射性的材料来形成。3.提105的结构如图3所示，在本实施方式的显示面板10中，作为一例子而采用了线状的提105。 具体来说，提105各自沿Y轴方向延伸形成，对在X轴方向上相邻的像素部100之间进行区划。并且，像素部100形成为发光颜色按由提105区划出的各区域而不同。4.各区域的提105的结构如图4所示，从显示面板10抽出位于中央部的像素部100a、IOOb和位于外周部的像素部(所排列的多个像素部中的位于排列端部的像素部)IOOcUOOd,在各像素部IOOa IOOd各自的两侧配置有提10 105d。像素部100a和像素部IOOb的彼此的有机发光层(在图4中省略图示)由提10 区划，提10 的侧面部10fea、105ab与作为基底层的空穴注入输送层104的表面10 分别形成角度9aa、9ab。另一方面，位于面板外周部的像素部IOOc和像素部IOOd的彼此的有机发光层 (在图4中省略图示)由提105c区划，提105c的侧面部105ca、105cb与作为基底层的空穴注入输送层104的表面10 分别成角度eca、ecb。另外，进一步在χ轴方向上对像素部IOOd的有机发光层(在图4中省略图示)进行区划的提105d的侧面部105da与作为基底层的空穴注入输送层104的表面10 成角度θ da。此时，角度θ aa、θ ab、θ ca、θ cb、 θ da满足由以下各式表示的关系。
[数学式 1] θ ca > θ cb[数学式2] θ aa = θ ab[数学式 3] θ da > θ cb在本实施方式中，将角度eaa、θε 、0cb设为25°以上且30°以下的范围内的角度，将θ ca、θ da设为35°以上且40°以下的范围内的角度。5.提105的侧面部的倾斜角度θ和有机发光层106的膜厚的关系使用图5和图6对提105的侧面部的倾斜角度θ和有机发光层106的膜厚的关系进行说明。在图5中，示意描绘出像素部的构造。如图5(a)所示，提10 的侧面部的倾斜角度(侧面部和空穴注入输送层104的表面之间形成的角度)为角度θχ，如图5(b)所示，提105y的侧面部的倾斜角度(侧面部和空穴注入输送层104的表面之间形成的角度)为角度9y。角度ΘΧ和角度9y满足如下关系。[数学式4]θγ>θχ当向由各提10切、1057区划出的开口部滴下含有有机发光材料的墨1060x、1060y 时，则各锁住位置Px、Py的高度Hx、Hy为如下的关系。[数学式5] Hy > Hx如图5(c)所示，当使墨1060χ干燥时，则由于锁住位置的高度Hx相对较低，导致在所形成的有机发光层106χ中，像素部的中央部分隆起，其膜厚为厚度Τχ。另一方面，如图5 (d)所示，当使墨1060y干燥时，则由于锁住位置Py的高度Hy相对较高，导致在所形成的有机发光层106y中，像素部的中央部分凹陷，其膜厚为厚度Ty。厚度Tx和厚度Ty满足如下的关系。[数学式6] Tx > Ty在图6中汇总表示上述关系。如图6所示，若减小提105的倾斜角度(锥角)θ， 则锁住高度H变低，结果得到的有机发光层106的膜厚T变厚。相反，若增大提105的倾斜角度(锥角)θ，则锁住高度H变高，结果得到的有机发光层106的膜厚T变薄。对于以上的事项，制作5个样品进行了评价。将结果表示在图7和图8中。如图7和图8所示，相对于样品2的膜厚分布，在增大了锥角的样品3和样品4中， 锁住位置变高。在图7和图8中，横轴表示横向，纵轴表示高度方向。但是，将提的锥角(倾倒角度)增大到了 50°的样品5，与样品2相比，膜厚的均勻性降低。6.显示面板10的制造方法对于本实施方式的显示面板10的制造方法，使用图9和图10对作为特征的部分进行说明。关于以下省略说明了的制造工序，可以采用作为现有技术提出的各种工序。首先，如图9 (a)所示，在基板101的Z轴方向上面，与要形成各像素部IOOa IOOd 的预定区域对应地依次层叠形成阳电极102和电极覆盖层103。并且，以从其上覆盖整个表面的方式层叠形成空穴注入输送层104。阳电极102的形成例如通过下述方式来进行在使用溅射法或真空蒸镀法制作了 Ag薄膜之后，使用光刻法使该Ag薄膜图形化。另外，电极覆盖层103的形成例如通过下述方式来进行对阳电极102的表面，使用溅射法等制作ITO薄膜，使用光刻法等使该ITO薄膜图形化。然后，在空穴注入输送层104的形成中，首先，对包括电极覆盖层103的表面的基板101的表面，使用溅射法等制作金属膜。其后，将形成了的金属膜氧化，形成空穴注入输送层104。接着，如图9(b)所示，例如，使用旋涂法等，以将空穴注入输送层104之上覆盖的方式形成提材料层1050。在提材料层1050的形成中使用感光性抗蚀材料，具体来说，如上所述可以使用丙烯系树脂、聚酰亚胺系树脂、酚醛清漆型酚树脂等具有绝缘性的有机材料。接着，如图9 (c)所示，在提材料层1050的上方配置掩模501，该掩模501在要形成提的部位设置有开口 501a、501c。在该状态下，通过掩模501的开口 501a、501c执行曝光。如图9(c)所示，在与位于中央部的像素部IOOaUOOb相当的区域间，掩模501的开口 501a的宽度Wa由要形成的提lOfe、105b (参照图4)的侧面部的下端的点I^al、Pa2规定。另一方面，在与位于外周部的像素部100c、100d相当的区域间，掩模的开口 501c的宽度Wcl由要形成的提105c、105d(参照图4)的侧面部的上端的点Pcl和提脚部分的点Pc2 规定。接着，如图10(a)所示，在提材料层1050的上方配置掩模502，该掩模502在与提 105c、105d的侧面部105ca、105da(参照图4)等对应的部位分别设置有开口 502c。并且， 在该状态下，通过掩模502的开口 502c，执行第二次曝光。掩模502的开口 502c的宽度Wc2由要形成的提105c、105d的侧面部的下端的点 Pc3和上端的点Pcl规定。接着，如图10(b)所示，通过实施显像和烘焙，形成提10 105d。提105c、105d 的侧面部105ca、105da如上所述，与提105c的侧面部105cb相比，倾斜角度更大，提105a、 105b的侧面部10fea、105ab的倾斜角度相互相等。其后，如图10(c)所示，使用喷墨法等，对由提10 105d等区划出的开口部滴下含有有机发光材料的墨。通过使墨干燥，形成有机发光层106a 106d。虽然省略了图示，但其后，通过依次层叠形成电子注入层107、阴电极108和封止层109等，形成显示面板10。7.效果如图4所示，在本实施方式的显示装置1的显示面板10中，在对位于面板外周部的像素部100c和像素部IOOd的各有机发光层106c、106d(参照图10(c))彼此进行区划的提105c中，其各侧面部105ca、105cb的各倾斜角度θ ca、θ cb被设定为满足上述[数学式 1]的关系、即角度9ca比θ Cb大。因此，在位于面板外周部的像素部100c、100d中，其制造时的滴下了墨时的与侧面部105ca、105da对应的锁住位置，比与侧面部105cb对应的锁住位置高。由此，能够通过由将提105c、105d所属的侧面部105ca、105da的各倾斜角度 θ ca θ da设为上述关系所产生的作用，抑制因墨干燥时的蒸气浓度分布而导致在位于面板外周部的像素部100c、IOOd的外周部侧(与侧面部105ca、105da对应的部分)有机发光层106c、106d的膜厚要变厚的作用，能够使位于面板外周部的像素部100c、100d的有机发光层106c、106d的端部侧的膜厚整体上均勻。另外，关于提10 的两侧面部10fea、105ab的倾斜角度θ aa、θ ab，如上述[数学式2]所示，为相互相等。因此，与该各部分对应的有机发光层106d的膜厚整体上变为相等(实现均勻化)。
13
因此，在显示面板10中具有如下效果干燥后的有机发光层106的膜厚在像素部 IOOa IOOd变得均勻，辉度不勻小。通过使用图9和图10说明了的本实施方式的显示装置1的制造方法，能够制造具有上述效果的显示装置1。另外，如上所述，所谓“相等”不是意味着在数值上完全相等，而是考虑了显示装置的制造中的尺寸误差等的概念。具体来说，意味着在面板的中央部和外周部，在属于各区域的像素部IOOa IOOd的发光效率的差异(辉度不勻)是实用中能够容许的差异的范围内，使倾斜角度相等。[变形例1]接着，使用图11对显示装置1的制造方法的变形例1进行说明。图11表示与从图9(c)到图10(a)所示的工序对应的工序。如图11所示，在空穴注入输送层104上层叠形成了提材料层1050之后，在其上方配置掩模503。在掩模503设置有光透射部503a、503cl、503c2。各光透射部503a、503cl、 503c2与要形成对像素部IOOa IOOd之间进行区划的各提10 105d(参照图4)的部位对应而设置。在本变形例1的显示装置1的制造方法中，与像素部IOOa对应的区域的光透射部 503a的宽度Wa由要形成的提lOfe、105b (参照图4)的下端的点Pal、Pa2规定。另一方面，与像素部IOOc对应的区域的光透射部503cl的宽度Wc2由要形成的提 105c、105d(参照图4)的下端的点Pc2和上端的点Pcl规定。另外，光透射部503c2由要形成的提105c、105d(参照图4)的下端的点Pc3、Pcl规定。在此，掩模503使用半色调等的掩模构成，光透射部503a、503c 1和光透射部503c2 的光透射率不同。具体来说，光透射部503c2的光的透射率比光透射部503a、503cl的光的
透射率大。在配置了具有如以上的结构的掩模503的状态下执行曝光、显像之后，通过进行烘焙，能够形成如图10(b)所示的提10 105d。即，通过光透射率设定得较大的光透射部503c2进行了曝光的部位，与通过其他的光透射部503a、503cl进行了曝光的部位相比， 如上述[数学式1]所示的关系那样，侧壁面的倾斜角度变大。其后的工序与上述实施方式等相同。关于针对曝光量的上述关系，根据作为提105的构成材料的感光性抗蚀材料的种类等各种的条件，有时也可能大小关系反转。通过如以上所述的制造方法，也能够制造显示装置1。[变形例2]接着，使用图12和图13对显示装置1的制造方法的变形例2进行说明。图12和图13表示与从图9 (c)到图10(b)所示的工序对应的工序。如图12(a)所示，在空穴注入输送层104上层叠形成提材料层1050之后，在其上方配置掩模504。在掩模504，与要形成提10 105d的各部位对应地设置有开口 504a、 504c ο设置在要形成与像素部100a、IOOb对应的提10fe、105b (参照图4)的部位的开口 50 ，以与上述实施方式的制造方法中使用的掩模501的开口 501a相同的宽度形成。另一方面，设置在要形成与像素部100c、IOOd对应的提105c、105d(参照图4)的部位的开口 504c的宽度Wc3，如由图12 (a)的双点划线包围的部分所示，设定成比由提105c、105d的下端的点Pc2、Pc3规定的宽度大。具体来说，在要增大倾斜角度的部位，增大宽度。在配置了图12(a)所示的形态的掩模504的状态下，执行第一次曝光、显像。由此， 如图12(b)所示，在与掩模504的开口 5(Ma、5(Mc对应的部位留下提材料层1051a 1051d。如图12(b)所示，在执行了第一次曝光、显像的状态下，提材料层1051a 1051d 的各侧面部的倾斜角度均勻。另外，在本变形例2中，在该时刻不进行烘焙。如图13(a)所示，在形成了提材料层1051a 1051d的状态下，在其上方配置掩模 505。在掩模505，仅在与要形成的提10 105d的侧面部对应的部位中的要增大倾斜角度的部位(图4中的侧面部105ca、105da)设置有开口 505c。在配置了掩模505的状态下，在进行了第二次曝光、显像之后，通过进行烘焙，能够形成如图13(b)所示的提10 105d。在提105c、105d，X轴方向左侧(面板中央部侧) 的侧面部105ca、105da与其他的侧面部lOfea、105ab、105cb相比，其倾斜角度更大。其后，能够通过执行与上述实施方式等同样的工序，制造显示装置1。[制造方法的验证]对于上述的实施方式和变形例1、2的制造方法，以具体例子对形成后的提形状进行了验证。使用图14对其结果进行说明。如图14(a)所示，越增加曝光量，形成的提侧面部的倾斜角度越大。具体来说，在将曝光量设为200mJ进行了曝光、显像的情况下所形成的提侧面部的倾斜角度为23°，与此相对，在将曝光量设为300mJ进行了曝光、显像的情况下所形成的提侧面部的倾斜角度为38°。对于该结果，也示出在图14(b)所示的AFM(Atomic Force Microscope、原子力显微镜)中。进一步，如图14(a)和图14(b)所示，在将曝光量设为200mJ进行了第一次的曝光、显像之后，将曝光量设为IOOmJ进行了第二次曝光、显像的情况下，所形成的提侧面部的倾斜角度为50°。这与上述变形例2的制造方法对应，可以认为对增大提侧面部的倾斜角度是有效的。在图14(b)中，横轴表示横向，纵轴表示高度方向。[其他事项]在上述实施方式和变形例1、2中，为了容易理解地说明本发明的结构和作用、效果，采用的是作为一个例子的各结构，除了本质的部分之外，本发明不限于上述方式。例如， 在上述实施方式中，如图2所示，作为一个例子采用了相对于有机发光层106在其Z轴方向下侧配置阳电极102的结构，但本发明不限于此，也可采用相对于有机发光层106在其Z轴方向下侧配置阴电极108的结构。在制成为相对于有机发光层106在其Z轴方向下侧配置阴电极108的结构的情况下，由于为顶部发射构造，因此采用如下结构将阴电极108设为反射电极层，在其上形成电极覆盖层103。另外，在上述实施方式等中，没有示出显示装置1的具体的外观形状，但例如可以制成为图15所示的系统的一部分。有机EL显示装置不需要如液晶显示装置那样的背光源， 因此适于薄型化，从系统设计的观点出发，能发挥优异的特性。
另外，在上述实施方式和变形例1、2中，作为提105的形态，采用了图3所示的所谓的线提(line bank)构造，但也可以采用图16所示的包括沿Y轴方向延伸的提要素30 和沿X方向延伸的提要素30 的像素提(pixel bank) 305来构成显示面板30。如图16所示，在采用像素提305的情况下，通过对于面板外周部的像素部300增大成为其X轴方向和Y轴方向的各外侧的侧壁部的倾斜角度，能够得到上述同样的效果。 具体来说，在具有由箭头Bi、B2, B3, B4指示的侧壁部的像素部属于面板外周部的角部的结构中，使由箭头B1A3指示的侧壁部的倾斜角度比由箭头化指示的侧壁部的倾斜角度大，另外，使由箭头B4、 指示的侧壁部的倾斜角度为比由箭头&指示的侧壁的倾斜角度大。另外，在上述实施方式和变形例1、2中，设为了使形成在面板外周部的提的外侧的侧壁部的倾斜角度比面板中央部的对应的提侧面部的倾斜角度大，但可以根据制造时的形成有机发光层涉及的干燥工序中的蒸气的流动(蒸气浓度)对该关系进行适当变更。例如，在干燥装置的构造等中，在墨干燥时的蒸气的流动为从面板外周部流向面板中央部的方向的情况下，与有机发光层的膜厚变厚的部位对应地增大提侧面部的倾斜角度即可。由此，能够使有机发光层的膜厚均勻化，能够降低面板整体的辉度不勻。另外，在上述实施方式和变形例1、2中，没有区别像素部的发光颜色(红、绿、蓝)， 但根据发光颜色而含有有机发光材料的墨的特性会发生变化。在该情况下，可以根据各发光颜色的墨特性，规定对应的提侧面部的倾斜角度。另外，可以认为对于作为增大提侧面部的倾斜角度的对象的区域，可以根据制造工序和/或面板尺寸等进行适当规定，但优选例如将面板的外周部的0. 5% 若干％左右 (例如)的像素部设为对象。这是考虑图17(b)所示的现有技术的显示装置中的有机发光层的膜厚不勻而得到的。产业上的利用可能性本发明对于实现辉度不勻少且具有高画质性能的显示装置是有用的。
1权利要求
1.一种显示装置，所述显示装置由排列多个像素部而成，各像素部构成为具有第一电极及第二电极、和夹在所述第一电极与所述第二电极之间的有机发光层，在所述第一电极的上方，立设有按各所述像素部区划所述有机发光层的多个提， 所述多个像素部包括都位于所述排列的端部侧、且在所述排列的方向上彼此相邻的第一像素部和第二像素部，所述第一像素部相对于所述第二像素部而位于所述排列的中央部侧， 所述多个提包括区划所述第一像素部的所述有机发光层和所述第二像素部的所述有机发光层的第一提，在所述第一提中，与所述第一像素部对应的第一侧面部的倾斜角度比与所述第二像素部对应的第二侧面部的倾斜角度大。
2.根据权利要求1所述的显示装置，所述多个像素部包括都位于所述排列的中央部侧、且在所述排列的方向上彼此相邻的第三像素部和第四像素部，所述多个提包括区划所述第三像素部的所述有机发光层和所述第四像素部的所述有机发光层的第二提，在所述第二提中，与所述第三像素部对应的第三侧面部的倾斜角度和与所述第四像素部对应的第四侧面部的倾斜角度相等。
3.根据权利要求1所述的显示装置，所述多个提包括在所述排列的端部侧区划所述第二像素部的所述有机发光层的第三提，所述第三提的与所述第二像素部对应的第五侧面部的倾斜角度比所述第二侧面部的倾斜角度大。
4.根据权利要求1所述的显示装置，所述第一侧面部的倾斜角度在35°以上且40°以下的范围内， 所述第二侧面部的倾斜角度在25°以上且30°以下的范围内。
5.根据权利要求2所述的显示装置，所述第三侧面部和所述第四侧面部的倾斜角度都在25°以上且30°以下的范围内。
6.根据权利要求1所述的显示装置，所述倾斜角度为所述提的各侧面部和设置有所述提的基底层的上面所成的角度。
7.—种显示装置的制造方法，所述显示装置由排列多个像素部而成，所述制造方法包括第一工序，在基板上形成包括第一电极的功能层； 第二工序，在所述功能层上层叠感光性抗蚀材料；第三工序，通过对所述层叠的感光性抗蚀材料进行掩模曝光而进行图形化，形成与多个像素部对应的多个开口部，并且形成对邻接的所述开口部之间进行区划的多个提；第四工序，对所述多个开口部的各个开口部，滴下含有有机发光材料的墨并使其干燥， 形成有机发光层；以及第五工序，在所述有机发光层的上方形成第二电极，所述多个开口部包括都位于所述排列的端部侧、且在所述排列的方向上彼此相邻的第一开口部和第二开口部，所述第一开口部相对于所述第二开口部而位于所述排列的中央部侧，所述多个提包括区划所述第一开口部的所述有机发光层和所述第二开口部的所述有机发光层的第一提，在所述第三工序中，以在第一提中使与所述第一开口部对应的第一侧面部的倾斜角度比与所述第二开口部对应的第二侧面部的倾斜角度大的方式，进行所述第一提的形成。
8.根据权利要求7所述的显示装置的制造方法，在所述第三工序中，关于所述感光性抗蚀材料的曝光，通过使对与所述第一侧面部相当的部分曝光的曝光量比对与所述第二侧面部相当的部分曝光的曝光量大，使所述第一侧面部的倾斜角度大于所述第二侧面部的倾斜角度。
9.根据权利要求7所述的显示装置的制造方法，在所述第三工序中，关于所述感光性抗蚀材料的曝光，通过使用向与所述第一侧面部相当的部分的光透射率比向与所述第二侧面部相当的部分的光透射率大的掩模，使所述第一侧面部的倾斜角度大于所述第二侧面部的倾斜角度。
10.根据权利要求7所述的显示装置的制造方法，在所述第三工序中，对于与所述第一侧面部相当的部分和与所述第二侧面部相当的部分，对所述感光性抗蚀材料进行曝光、显像之后，通过对与所述第一侧面部相当的部分追加进行曝光处理，使所述第一侧面部的倾斜角度大于所述第二侧面部的倾斜角度。
全文摘要
本发明提供一种显示装置，具备多个像素部(100a～100c、......)。各像素部(100a～100c、......)的各有机发光层由堤(105a～105c、......)区划。抽出位于面板外周部(像素排列的端部)侧且彼此在X轴方向上相邻的像素部(100c、100d)。此时，在区划像素部(100c)的有机发光层和像素部(100d)的有机发光层的堤(105c)中，与像素部(100c)的有机发光层对应的侧面部(105ca)的倾斜角度(θca)大于与像素部(100d)的有机发光层对应的侧面部(105cb)的倾斜角度(θcb)。
文档编号H01L51/50GK102165591SQ200980123220
公开日2011年8月24日 申请日期2009年12月22日 优先权日2009年12月22日
发明者松岛英晃 申请人:松下电器产业株式会社