涂布单元以及使用该涂布单元的图案修正装置的制作方法

专利名称：涂布单元以及使用该涂布单元的图案修正装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种涂布单元以及使用该涂布单元的图案修正装置，尤其涉及对基板 上的微小区域涂布液状材料的涂布单元；以及对形成在基板上的微小图案的缺陷部进行修 正的图案修正装置。更特定而言，本发明涉及对平板显示器的制造工艺中所产生的微小图 案(配线)的开放缺陷(日文*一7 >欠陥)、液晶滤色器的白缺陷(日文白抜汁欠陥) 或是掩模缺陷等各种各样的图案缺陷进行修正的涂布单元以及使用该涂布单元的图案修 正装置。
背景技术：
近年来，伴随着液晶显示器、等离子显示器、EL显示器等平板显示器的大型化、高 精细化，形成于玻璃基板上的配线(电极)及液晶滤色器等中存在缺陷的可能性增高，因而 为实现成品率的提高而提出了对缺陷进行修正的图案修正装置。例如，在液晶显示器的玻璃基板的表面上形成有微小的配线。当配线断线时，有采 用分配方式的喷嘴将导电性墨水(液状材料、修正液)涂布在断线部的方法(例如参照专 利文献1)或采用喷墨方式的喷嘴将导电性墨水涂布在断线部的方法(例如参照专利文献 2)。专利文献1 日本专利特开2006-202828号公报专利文献2 日本专利特开2009-182169号公报然而，在分配方式中，由于需要将分配器的喷嘴前端的内径制成非常细来涂布修 正墨水，因此，喷嘴前端容易堵塞，此外，由于分配器主体由很细的玻璃管制成，因此，存在 喷嘴前端容易因碰撞等而受到损伤这样的技术问题。此外，在喷墨方式中，由于较理想地是进一步减小从喷嘴喷出的液滴，因此需进一 步小地形成喷嘴的孔径。由于若喷嘴的孔径进一步变小，则在利用压力或热来喷出修正墨 水的方法中会使修正墨水的喷出变难，因此，提出了在这种情况下利用静电的方式。此外，在喷墨方式中，为了能改进喷嘴堵塞而稳定地进行涂布，先在基板外进行修 正墨水的预喷(日文捨^打^ )，随后返回基板上的缺陷部来涂布修正墨水。然而，现今 的液晶基板已存在超过:3mX;3m大小的液晶基板，此时，可以想象会出现在基板外进行预喷 后再返回缺陷部会耗费时间、在对缺陷部进行修正时喷嘴会堵塞而无法对缺陷部喷出修正 墨水的情形。此外，若使喷嘴相对于基板沿水平方向高速移动，则还能想到会有因风而使喷 嘴前端的修正墨水干燥、修正墨水的喷出变困难的情形。作为解决上述问题的方法，在专利文献2中，公开了在对配置在喷嘴的正下方的 预喷台预喷修正墨水之后，在预喷台(预喷构件)退让和喷嘴下降后实际进行涂布。然而， 需要在确认了预喷台已朝横向退让后使喷嘴下降以将基板与喷嘴调整成固定缝隙，由于设 置了用于分别对这两个轴进行控制的驱动元件而使机构占地很大，因此会存在难以在较小 的空间内收纳所有的机构这样的技术问题。此外，由于能想象根据所使用的修正墨水的种类和喷嘴前端的喷出部内径不同，即使在预喷后喷嘴也会在几秒钟后再次堵塞的情形，因此，需要在很短时间内进行预喷台 的退让和喷嘴的下降。而且，若在缩小喷嘴与预喷台之间的缝隙的状态下对预喷台的相同 位置持续预喷(喷出)修正墨水，则堆积在预喷台的修正墨水的积液会与喷嘴前端接触，可 能会对之后的喷出稳定性带来不良影响。

发明内容
因此，本发明的主要目的在于提供一种能以简单的结构迅速地进行预喷构件的退 让和涂布元件的下降的涂布单元以及使用该涂布单元的图案修正装置。本发明的涂布单元包括对基板上的微小区域涂布液状材料的涂布元件；承接涂 布元件预喷的液状材料的预喷构件；在进行液状材料的预喷的预喷动作时将预喷构件插入 涂布元件与基板之间，在预喷动作结束之后使预喷构件从涂布元件与基板之间退让的驱动 元件；以及设置在涂布元件与预喷构件之间的、随着预喷构件插入到涂布元件与基板之间 而使涂布元件上升、随着预喷构件从涂布元件与基板之间退让而使涂布元件下降的仿形机 构(凸轮机构)。较为理想的是，仿形机构包括设置成可朝上下方向移动的、装设涂布元件的Z工 作台；固定于Z工作台的滚筒；以及设置成可朝水平方向移动的、装设预喷构件的X工作 台，在X工作台的上端部形成有仿形面，滚筒与X工作台的仿形面抵接，当X工作台移动时 滚筒沿仿形面移动。此外，较为理想的是，仿形机构在预喷构件从涂布元件与基板之间退让时，在预喷 构件离开涂布元件下方时使涂布元件下降。此外，较为理想的是，仿形面包括水平部和倾斜部，在预喷构件从涂布元件与基板 之间退让时，当滚筒与水平部抵接时只进行预喷构件的退让动作，当滚筒与倾斜部抵接时 同时进行预喷构件的退让动作和涂布元件的下降动作。此外，较为理想的是，在仿形面的水平部设有突起部或向上倾斜部，以使涂布元件 在预喷构件离开涂布元件下方的规定期间内上升。此外，较为理想的是，还包括将涂布元件固定在Z工作台上的固定构件，在涂布元 件的下端与固定构件的基准面之间的距离被设定成预先确定的基准长度的状态下，固定构 件被安装到Z工作台上。此外，较为理想的是，还包括设于固定构件且对涂布元件进行保护的保护套。此外，较为理想的是，保护套可朝上下方向移动地设于固定构件。此外，较为理想的是，保护套被形成为筒状，涂布元件被插入到保护套内。当涂布 元件通过固定构件安装到Z工作台时，使保护套的下端位于比涂布元件的下端更靠下方的 位置以保护涂布元件，在安装结束时，使保护套朝上方移动以使涂布部的下端部露出。此外，较为理想的是，还包括将保护套保持在上方以使涂布元件的下端部露出的 保持元件。此外，较为理想的是，驱动元件使预喷构件朝第一方向移动。上述涂布单元还包括 副驱动元件，该副驱动元件在每次进行液状材料的预喷时使预喷构件朝与第一方向不同的 第二方向移动，将预喷构件表面上的没有被预喷液状材料的部分配置在涂布元件的下方。此外，较为理想的是，还包括检测元件，该检测元件检测出预喷构件朝第二方向移动的次数；以及告知元件，该告知元件根据由检测元件检测出的次数到达预先确定好的 次数来对图案修正装置的使用者告知这一情况。此外，较为理想的是，当要除去被预喷到预喷构件的表面的液状材料时，设置供液 状材料的溶剂渗入的片材来代替涂布元件，使片材与预喷构件的表面接触，并利用副驱动 元件使预喷构件移动。此外，较为理想的是，还包括擦拭元件，该擦拭元件被设置在预喷构件的表面上 的同与涂布元件相对的位置不同的位置上，使供液状材料的溶剂渗入的片材与预喷构件的 表面接触，并擦拭被副驱动元件移动的预喷构件的表面的液状材料。此外，较为理想的是，涂布元件包括第一容器，该第一容器的底部的至少一部分 由膜形成，并在膜上开有与缺陷部相对应形状的通孔；第二容器，该第二容器包括筒部，该 筒部以其下端的开口部的边缘围住通孔的形态配置在膜上，并对其内部注入液状材料；导 引部，该导引部将第二容器支承成可朝上下方向移动；以及喷嘴，该喷嘴的前端的喷射口与 第二容器的上端部隔开缝隙相对，并设置成与膜的上表面大致垂直。以缺陷部和通孔位置 对齐的状态，使膜与基板隔开缝隙地相对。上述涂布单元还包括气体喷射元件，该气体喷射 元件通过喷嘴喷射气体以将第二容器朝下方按压，使膜中的包括通孔在内的范围朝下方突 出而使通孔的下侧的开口部与基板接触，通过通孔对缺陷部涂布液状材料。此外，较为理想的是，涂布元件包括喷墨方式的喷嘴。此外，较为理想的是，涂布元件包括分配方式的喷嘴。此外，较为理想的是，涂布元件包括多个副涂布元件。上述涂布单元还包括选择元 件，该选择元件选择多个副涂布元件中的某一个副涂布元件。多个副涂布元件中的被选择 元件选择出的副涂布元件对基板上的微小区域涂布液状材料。本发明的图案修正装置对形成于基板上的微小图案的缺陷部进行修正，其包括 对微小图案的缺陷部涂布修正液的涂布元件；承接涂布元件预喷的修正液的预喷构件；在 进行修正液的预喷的预喷动作时将预喷构件插入涂布元件与基板之间，在预喷动作结束之 后使预喷构件从涂布元件与基板之间退让的驱动元件；以及设置在涂布元件与预喷构件之 间的、随着预喷构件插入到涂布元件与基板之间而使涂布元件上升、随着预喷构件从涂布 元件与基板之间退让而使涂布元件下降的仿形机构。此外，还包括用于对基板的表面进行观察的观察光学系统。观察光学系统包括倍 率彼此不同的多个物镜；具有在下表面固定有多个物镜的可动板，使可动板沿水平方向移 动以使多个物镜中被选择出的物镜的光轴与观察光学系统的光轴一致的XY工作台。涂布 元件、预喷构件、驱动元件以及仿形机构被设置在可动板的下表面。此外，较为理想的是，还包括距离传感器，该距离传感器被设置在可动板的下表 面，用于对距基板的距离进行测定来防止涂布元件的下端与基板接触。此外，较为理想的是，还包括位置调整元件，该位置调整元件基于距离传感器的测 定结果来调整XY工作台的上下方向的位置，防止涂布元件的下端与基板接触。此外，较为理想的是，涂布元件包括多个副涂布元件。上述图案修正装置还包括选 择元件，该选择元件选择多个副涂布元件中的某一个副涂布元件。多个副涂布元件中的被 选择元件选择出的副涂布元件对缺陷部涂布修正液。此外，较为理想的是，各副涂布元件涂布与其它副涂布元件不同种类的修正液。
此外，较为理想的是，各副涂布元件将修正液涂布成与其它副涂布元件不同的形 状。在本发明的涂布单元中，设有对基板上的微小区域涂布液状材料的涂布元件； 承接涂布元件预喷的液状材料的预喷构件；在进行液状材料的预喷的预喷动作时将预喷构 件插入涂布元件与基板之间，在预喷动作结束之后使预喷构件从涂布元件与基板之间退让 的驱动元件；以及设置在涂布元件与预喷构件之间的、随着预喷构件插入到涂布元件与基 板之间而使涂布元件上升、随着预喷构件从涂布元件与基板之间退让而使涂布元件下降的 仿形机构。因此，由于设置了仿形机构，因此能以简单的结构迅速地进行预喷构件的退让和 涂布元件的下降。


图1是表示作为图案修正装置的修正对象的TFT(薄膜晶体管)阵列基板的图。图2是表示对图1所示的漏极线的开放缺陷涂布修正墨水后的状态的图。图3是表示本发明一实施方式的图案修正装置的整体结构的立体图。图4是表示图3所示的涂布部的结构的剖视图。图5是表示图4所示的涂布部的动作的剖视图。图6是表示图4所示的涂布部的动作的其它的剖视图。图7是表示图3所示的涂布单元的结构的主视图。图8是图7的VIII-VIII线剖视图。图9是图8的A向视图。图10是表示图7 图9所示的涂布单元的动作的图。图11是表示图7 图9所示的涂布单元的动作的其它的图。图12是表示图7 图9所示的涂布单元的动作的另外其它的图。图13是表示图3 图12所示的图案修正装置的动作的流程图。图14是表示实施方式的变形例的图。图15是用于说明图14所示的变形例的效果的图。图16是表示实施方式的其他变形例的图。图17是表示实施方式的又一变形例的图。图18是表示实施方式的又一变形例的图。图19是表示实施方式的又一变形例的图。图20是表示实施方式的又一变形例的图。图21是表示实施方式的又一变形例的图。图22是表示对图21所示的预喷板的表面进行擦拭的方法的图。图23是表示实施方式的又一变形例的图。图M是表示实施方式的又一变形例的图。图25是表示实施方式的又一变形例的图。图沈是表示图25所示的包括保护套的涂布单元的结构的图。图27是表示图沈所示的涂布单元的动作的图。图28是表示图沈所示的涂布单元的动作的其它的图。
(符号说明)ITFT阵列基板2玻璃基板3栅极线3a栅极电极4、5栅极绝缘膜6像素电极7半导体膜8漏极线8a漏极(日文8b开放缺陷部9源极(曰文乂10TFT11保护膜12修正墨水1 修正图案13图案修正装置14平台15卡盘16XY调节架16a X轴调节架16b Y轴调节架17、2M轴调节架18观察光学系统19涂布单元20涂布部21预喷部22激光器23烧成装置24物镜26圆筒构件Wa导引孔27膜27a通孔28墨水容器^a开口部28b栓㈨盖29a气体供应孔
29b通气孔30接头31气体喷射装置32调节器33电磁阀34计时器35气体供应源36、65预喷板37底板38、39直线导引轴承38a、39a滑动部38b、39b导轨部40Z工作台40a上表面41滚筒42、45、49、55 磁铁43X工作台43a水平部43b倾斜部43c突起部44固定台44a端面44b Π44c孔46电动机47、66驱动装置48夹具48a端面50照相机51保护套51a长孔51b凸缘52 M销56限位件57XYZ调节架58物镜切换器58a可动板59距离传感器60、67预喷控制部
61,68擦拭单元62、69片材63、70支柱51、71保护套71a,71b 槽72杆73柱塞73a球73b弹簧74切换装置75涂布控制部76选择部77液状绝缘材料
具体实施例方式首先，对包括本申请的涂布单元的图案修正装置的修正对象进行说明。在此，虽然 对作为修正对象的液晶面板的TFT阵列基板进行说明，但修正对象不限定于此。图1 (a)是表示作为修正对象的TFT阵列基板1的主要部分的俯视图，图1 (b)是 图1(a)的IB-IB线剖视图。在图1(a)、图1(b)中，TFT阵列基板1包括玻璃基板2。在玻 璃基板2的表面上形成有朝图中的左右方向延伸的栅极线3，并且在栅极线3的规定位置形 成有朝图中的下方突出的栅极电极3a。栅极线3和栅极电极3a的表面被栅极绝缘膜4覆 盖，栅极绝缘膜4和玻璃基板2的表面被栅极绝缘膜5覆盖。多个像素电极6以矩阵状形成在栅极绝缘膜5的表面。栅极线3被配置在图中的 上下方向上相邻的两个像素电极6之间的区域。在栅极电极3a的上方隔着栅极绝缘膜4、 5形成有半导体膜7。在图中的左右方向上相邻的两个像素电极6之间的区域内形成有朝 图中的上下方向延伸的漏极线(信号线)8，并且在漏极线8的规定位置上形成有朝图中的 左侧方向突出的漏极8a。上述漏极8a的端部延伸到半导体膜7的一方端部的表面。此外， 从半导体膜7的另一方端部的表面到像素电极6的一端部的表面形成有源极9。这样就形成了包括栅极电极3a、漏极8a、源极9以及半导体膜7的TFT10。将整体 用保护膜11和取向膜(未图示)覆盖，以完成TFT阵列基板1。由TFT阵列基板1、液晶以 及滤色器来构成液晶面板。在此，如图1(a)所示，在漏极线8存在开放缺陷部Sb。当在形成了保护膜11之后 对开放缺陷部8b进行修正时，需要利用激光加工来除去保护膜11的一部分而使开放缺陷 部8b露出，涂布修正墨水(导电性墨水)12，在烧成以确保漏极线8的导通之后，再在修正 部位上形成保护膜11。因此，为了能简化修正手续，较为理想的是，在形成保护膜11之前的 工序中进行开放缺陷部8b的修正。例如，在漏极线8的形成结束时没有保护膜11，在此时 对开放缺陷部8b进行修正。这样，当对直线形(I形)的开放缺陷部8b进行修正时，如图2所示，以与位于缺 陷部8b两侧的漏极线8重合的形态涂布修正墨水。对开放缺陷部8b涂布修正墨水12，进行烧成以得到修正图案12a。漏极线8的宽度呈微小化趋势，近来已能制作5μπι以下的漏 极线。修正图案1 不超过像素电极6的区域而形成为与漏极线8的配线宽度大致相同的 程度，但当超出较大时，也可以增加用激光器(未图示)除去超出部的处理。图3是表示对开放缺陷部8b涂布修正墨水12且能在此后进行烧成的图案修正装 置13的整体结构的立体图。在图3中，上述图案修正装置13在平台14的中央部设有卡盘 15，在卡盘15上固定有作为修正对象的基板1。此外，平台14上装载有龙门式(gantry type)的XY调节架16。XY调节架16包 括X轴调节架16a和门形的Y轴调节架16b。Y轴调节架16b设置成横跨卡盘15，沿图中Y 轴方向移动。X轴调节架16a装载于Y轴调节架16b，沿图中X方向移动。X轴调节架16a上装载有可沿上下方向移动的Z轴调节架17。Z轴调节架17上 装设有观察光学系统18、涂布单元19、激光器22以及烧成装置23。通过控制X轴调节架 16a、Y轴调节架16b以及Z轴调节架17，可使观察光学系统18、激光器22、涂布单元19以 及烧成装置23分别移动到基板1表面的所希望的位置的上方。观察光学系统18包括物镜24，其用于观察基板1上的缺陷部8b等。激光器22用 于经由观察光学系统18对基板1上的缺陷照射激光，并通过激光打磨来对该缺陷形状进行 整形或是除去缺陷和在缺陷周围附着的多余的修正墨水12。涂布单元19包括涂布修正墨 水12的涂布部20和承接由涂布部20预喷的修正墨水12的预喷部21。在此例中，涂布单 元19通过可沿上下方向进退的Z轴调节架25而被固定于Z轴调节架17。涂布单元19既 可以直接固定于Z轴调节架17，也可以固定于Z轴调节架25以外的构件。此外，烧成装置 23被用作对涂布在基板1上的修正墨水12进行烧成。图4是表示涂布部20的结构的剖视图。在图4中，上述涂布部20包括圆筒构件 26。圆筒构件沈下端的开口部被圆形的膜27封闭。圆筒构件沈和膜27构成第一容器。 在对膜27施加一定张力的状态下，膜27的外周部与圆筒构件沈的下端面粘接或机械方式 固接。膜27例如是聚酰亚胺膜，其厚度例如为10 25μπι左右。在膜27的大致中央形成有通孔27a。通孔27a被加工成与形成在作为修正对象 的基板1上的漏极线8的开放缺陷部8b相对应的形状(例如直线状)。当膜27为聚酰亚 胺的情况下，通过利用YAG第三高次谐波激光器或第四高次谐波激光器、或者是准分子激 光器等脉冲激光器的激光打磨来加工通孔27a。当对膜27的表面照射激光以形成通孔27a 时，在膜27的背面侧的通孔27a的边缘上会出现毛边。为了防止上述毛边对修正图案的形 状带来不良影响，较为理想的是，将没有毛边的膜27的表面侧(激光照射面)朝向涂布部 20的外侧(下侧)。此外，在通过激光打磨来形成通孔27a后，在膜27的表面(激光照射面)上会飞 散有激光打磨时所产生的垃圾。为了除去这样的垃圾，也可以以通孔27a为中心来对膜27 的较宽范围照射低功率的激光。此时，若切换到YAG第二高次谐波激光器来用低功率的激 光对以通孔27a为中心的较宽范围内进行照射，则也可以只除去垃圾，且能防止因激光器 照射而新产生垃圾。作为激光器，只要使用能选择性射出用于对通孔27a进行开孔的激光 和用于除去垃圾的激光两种激光中的任意一种激光的激光器即可。此外，也可对激光器加 工完成后的膜27包括圆筒构件沈在内洗净后进行干燥。此外，在圆筒构件沈内侧的中央形成有导引孔^a，导引孔的开口部与膜27的上表面隔开缝隙而大致平行相对。导引孔内插入有圆筒状的墨水容器观，墨水容器 28被导引孔26a和膜27支承成可沿上下方向移动。墨水容器观下端的开口部的边 缘以围住膜27的通孔27a的形态与膜27的上表面抵接。在墨水容器观内预先填充有修 正墨水12，以构成第二容器。藉此，修正墨水12只被供应到包括通孔27a在内的限定的范围。作为修正墨水12，当修正对象为配线时，采用金、银等金属纳米墨水。例如，也可以 采用IPa · s 201 · s左右的粘度形成的金纳米墨水。另外，墨水容器28的开口部28a 与膜27相抵接的部分是通过粘接而固接的，但采用高粘度的墨水作为修正墨水12的情况 下，也可以省略粘接。此时，由于修正墨水12被保持在墨水容器观的端面与膜27的缝隙， 因此，能抑制修正墨水12从墨水容器28中漏出的量。此外，由于修正墨水12只漏到膜27 的表面上，因此在涂布中不会出现问题。圆筒构件沈上侧的开口部被圆板状的盖四盖住。在盖四的中央部形成有用于 供应气体的气体供应孔(喷嘴)29a，在气体供应孔29a周围形成有一个或两个以上的通气 孔四13。气体供应孔^a的开口部与墨水容器观的开口部隔开规定间隔地相对。它们的缝 隙被设定为例如Imm 2mm左右。因此，盖四作为限位件，即使墨水容器观朝上方移动， 也不会从导引孔中拔出。也可以将具有气体通气性的栓^b内插到墨水容器观上方 的开口部附近。盖四的气体供应孔^a与接头30的出口相连接，接头30的入口经由配管(未 图示)与气体喷射装置31相连接。气体喷射装置31包括对气体压力进行调整的调节器 (R) 32 ；控制气体向气体供应孔^a流入的开闭的电磁阀(V) 33 ；以及控制电磁阀33的打开 时间的计时器(T)34。调节器32与气体供应源(G)35相连接。气体使用例如氮气，只要所 使用的修正墨水12不会变差，也可以使用压缩空气。另外，也可以不设置计时器34而利用 控制用计算机或PLC(可编程逻辑控制器)的计时功能来对电磁阀33进行控制。利用图4 图6来说明对开放缺陷部进行修正的工序。在图4中，涂布部20与基 板1通过定位装置(未图示)相对移动，当涂布部20的通孔27a被定位于在基板1上的漏 极线8中产生的开放缺陷部8b上方的状态下，涂布部20底部的膜27与基板1的表面隔开 规定缝隙Wl相对。缝隙Wl被设定成可供膜27变形以与基板1和漏极线8接触的范围、例 如 IOym 200 μ 右。接着，将电磁阀33只打开由计时器34设定的时间。藉此，如图5所示，从气体供 应孔^a的前端对包括墨水容器28的开口部在内的范围喷射气体，墨水容器28被气体压 力推压而朝下方移动，膜27变形而使膜27的中央部朝下方突出，包括通孔27a在内的范围 的膜27的下表面与基板1相接触。此外，利用从气体供应孔四喷射出的气体，将被填充到 墨水容器观内的修正墨水从通孔27中压出。此时，修正墨水12经由通孔27a被涂布到开 放缺陷部^b。被喷射到圆筒构件沈内的气体经由通气孔29b排出到外部。—旦停止气体喷射，如图6所示，包括通孔27在内的范围的膜27会因膜27的复原 力而离开基板1，在开放缺陷部8b上形成与通孔27a大致相同的形状的修正图案12a。另 外，气体压力和喷射时间基于预先所进行的实验结果而被调整到最适值。气体的喷射时间 例如为1秒以下。此外，气体的压力例如被设定成0. 1 0. 3MPa左右。这样，由于对包括墨水容器28的开口部在内的范围喷射气体，因此，通孔27a内的修正墨水12被气体压出到通孔27a的下侧(基板1侧)。因此，能进一步增厚修正图案12a 的膜厚。此后，根据需要采用烧成装置23来对修正图案1 进行烧成硬化，从而得到导电 性的修正图案。作为烧成装置23，采用YAG第二连续振荡激光器等。既可以一并照射修正 图案1 来进行烧成，也可以缩小激光一边在修正图案1 上扫描一边进行烧成。在这种涂布形态下，由于喷射气体以使膜27与基板1 (包括开放缺陷部8b在内的 基板1的表面)接触，因此，能均勻地按压膜27。此外，由于即使基板1的表面有凹凸也会 使膜27随着该凹凸来进行接触，因此，能在不受到凹凸影响的前提下将修正墨水12涂布到 开放缺陷部8b。此外，由于不会将载荷集中施加到突起部，因此，基板1也不会变形或损伤。 此外，由于与利用喷墨或分配来进行涂布的方法相比，能采用高粘度的修正墨水12，因此， 能增厚修正膜厚以进一步降低修正部的电阻值。能采用相同的涂布部20来反复进行缺陷修正，从而能实现缺陷修正的间隔时间 的缩短。当涂布部20内的修正墨水12的液量变少时，既可以补充修正墨水12，也可以更 换涂布部20。另外，当长时间未实施利用涂布部20的修正而使待机时间变长时，可以想象 会发生待机之后的涂布时修正图案1 被磨擦、或是过多地涂布修正墨水12的溶剂成分的 情形。在这种情形下，通常朝设于基板1外侧的预喷区域(未图示)移动来进行预喷，但随 着基板1的大型化，会使移动时间增加而使修正间隔有延长的趋势。因此，为了缩短间隔时 间，较为理想的是，在涂布部20附近设置预喷部21。若在涂布部20附近设置预喷部21，则 即使在待机时修正墨水12漏出而发生滴落的情况下，由于由预喷部21承接，因此也能防止 基板1被污染。图7至图9是表示包括涂布部20和预喷部21在内的涂布单元19的结构的图，特 别地，图7是涂布单元19的主视图，图8是图7的VIII-VIII线剖视图，图9是图8的A向 视图。图7至图9是表示预喷板36在涂布修正墨水12的涂布部20的正下方隔开缝隙相 对、可进行预喷动作的状态。此外，图10至图12是表示预喷板36朝横向退让且涂布部20下降以使涂布部20 与基板1具有缝隙W2地相对的状态。在此状态下，可以对缺陷部8b涂布修正墨水12。图 10是涂布单元19的主视图，图11是图10的XI-XI线剖视图，图12是图11的B向视图。首先，利用图7至图9对涂布单元19的结构进行说明。对涂布单元19整体进行 支承的底板37被垂直设置，在底板37的表面固定有直线导引轴承38的滑动部38a，在底板 37的背面固定有直线导引轴承39的滑动部39a。直线导引轴承38的滑动部38a被垂直配 置，直线导引轴承39的滑动部39a被水平配置。在直线导引轴承38的导轨部38b上固定有截面呈L字形的Z工作台40。因此，Z 工作台40通过直线导引轴承38可朝上下方向进退地支承于底板37。此外，在Z工作台40 所突出的端部上固定有滚筒41，在Z工作台40的一侧面埋设有多个磁铁42。在直线导引 轴承39的导轨部39b上固定有X工作台43。因此，X工作台43通过直线导引轴承39可朝 水平方向进退地支承于底板37。涂布部20被保持于固定台44。在固定台44的一端面埋设有多个磁铁45。固定 台44利用磁铁42和磁铁45的吸引力而被安装于Z工作台40。由于磁铁42与磁铁45是 错开中心配置的，因此在将固定台44安装于Z工作台40时，固定台44被朝下方吸引，其端面4 被推压到Z工作台40的上表面40a后定位。在X工作台43的下端固定有电动机46，电动机46的转轴被固定在圆板状的预喷 板36表面的中央。通过利用电动机46使预喷板36每次旋转规定角度，从而能每次稍许改 变修正墨水12的预喷位置。预喷板36在涂布部20的正下方隔开规定缝隙Wl地相对，在 预喷时膜27的一部分与预喷板36接触来进行预喷。在预喷前预先使预喷板36旋转规定 角度，以防止以前预喷出的修正墨水12与膜27接触而污染膜27。固定于Z工作台40的滚筒41与X工作台43的上端部抵接。在X工作台43的上 端部形成具有水平部43a和倾斜部43b的仿形面(凸轮面)。因此，涂布部20的垂直方向 的高度位置由滚筒41与X工作台43的抵接位置确定。通过使X工作台43朝水平方向移 动以改变滚筒41与X工作台43的抵接位置，从而能同时进行预喷板36的退让和涂布部20 的下降。使X工作台43移动的驱动装置47 (例如气缸或直线螺线管致动器)被固定在底 板37上，其输出轴与X工作台43连结。驱动装置47的输出轴朝水平方向伸缩。若涂布部20以图7的状态进行修正墨水12的预喷，则修正墨水12附着在预喷板 36上。在预喷结束后，使电动机46的转轴旋转规定角度以使预喷板36旋转规定角度，以准 备下次预喷。若不使预喷板36旋转而始终在相同位置执行预喷，则要担心预喷出的修正墨 水12的液滴会堆积而与涂布部20的下端面接触，修正墨水12附着在膜27的通孔27a附 近从而在修正时污染缺陷部8b周围。然而，通过包括使预喷板36旋转的功能，从而能消除 这种担心。在预喷完成、预喷板36结束规定角度的旋转时，通过驱动装置47的操作来执行 预喷板36的退让和涂布部20的下降。接着，对伴随X工作台43的移动而使Z工作台40下降的工序进行说明。若通过 驱动装置47的操作而使X工作台43水平移动，则由于初期处于滚筒41与X工作台43的 水平部43a相抵接的状态，因此，Z工作台40不会下降，而只有X工作台43朝水平方向移 动。这种状态持续到预喷板36离开涂布部20的正下方。此后，当滚筒41开始与X工作台 43的倾斜部4 抵接时，Z工作台40通过直线导引轴承38而利用其自重开始下降，当Z工 作台40的突出部与底板37的上部接触时停止下降。图10至图12表示Z工作台40下降 后停止的状态。通过如上所述构成，则即使用一个驱动装置47也能进行水平方向和垂直方向的 两轴驱动，能实现装置的简化。此外，藉此，能以较短的时间进行预喷板36的退让和涂布部 20的下降。图13是表示采用图案修正装置13来对缺陷部8b进行修正的工序的流程图。在 步骤Sl中，从检测装置(未图示)获取缺陷位置信息，在步骤S2中，基于所获取的缺陷位 置信息来控制XY调节架16，使观察光学系统18朝缺陷位置坐标移动以进行缺陷部8b的观 察、确认。在步骤S3中，基于缺陷部8b的观察结果来确定缺陷部8b的修正形状，在步骤S4 中，使XY调节架16移动以使涂布部20在缺陷部8b上方相对。另外，当装设有多个涂布部 20的情况下，在步骤S3中，确定所使用的涂布部20。在步骤S5中，执行修正墨水12的预喷，在步骤S6中，使预喷板36旋转微小角度， 使所涂布后的修正墨水12不在涂布部20的正下方，以此状态准备下次预喷。在步骤S7中， 执行预喷板36的退让和涂布部20的下降。在上述步骤S7中，预喷板36朝水平方向移动 退让且涂布部20下降，使基板1与涂布部20的缝隙变窄成可进行涂布的缝隙。在这种状态下便能进行修正，在步骤S8中，对缺陷部8b涂布修正墨水12。在步骤S9中，在完成对缺 陷部8b涂布修正墨水12时，使涂布部20上升而使预喷板36恢复到原来的状态(待机状 态)。在步骤S 10中，对XY调节架16进行控制以使缺陷部8b移动到观察光学系统18 的正下方，观察对缺陷部8b涂布修正墨水12后的状态。在步骤S 11中，使涂布了修正墨水 12的缺陷部8b移动到烧成位置，对修正墨水12进行烧成以确保修正部的导通。另外，为了 进一步缩短从执行预喷到成为可进行涂布状态的时间，也可以将步骤S6改变到步骤S8与 步骤S9之间。若残留有需要进行缺陷修正的缺陷，则重复执行步骤S2 S12。以下，对该实施方式的各种变形例进行说明。在图14的变形例中，在X工作台43 的水平部43a结束的位置上设有突起部43c。因此，当滚筒41与突起部43c抵接时，Z工作 台40比通常位置高，会使涂布部20与预喷板36的缝隙变宽。图15是表示在使预喷板36退让的动作中，预喷板36的移动距离与涂布部20的 高度的关系的图。涂布部20的高度以基板1的表面为基准。在退让动作结束时，涂布部20 与基板1的缝隙W2被设定成可进行修正墨水12的涂布的状态。在图15中，虚线的轨迹是 存在突起部43c的情况。涂布部20与预喷板36的缝隙Wl被设定得很窄，例如100 μ m。由于预喷板36和 涂布部20的移动是通过刚性高的直线导引轴承38、39进行的，因此设定仿形面43a、43b以 在移动时避免涂布部20与预喷板36的碰撞，但在移动时通过增大它们的缝隙W1，从而能进 一步提高安全性。为了防止修正墨水12流动而从预喷板36上落下，在预喷板36的外周上 设置檐部或台阶部，由于在这部分处预喷板36的檐部与涂布部20前端的缝隙进一步变窄， 因此设置突起部43c这样的增加缝隙的机构能使安全性进一步提高。例如，缝隙Wl与缝隙 W2被设定成大致相同。固定涂布部20的固定台44被安装成容易进行与可朝上下方向进退的Z工作台40 的装拆，但在更换涂布部20时，进行单个固定台44的更换。此时，若固定于固定台44的涂 布部20的前端预先采用夹具将其长度预先调节为已确定的值，则不用进行安装后的缝隙 WU W2的调整，能缩短更换时间。在图16的变形例中，使用对涂布部20的前端位置进行调节的夹具48。夹具48与 Z工作台40 —样埋设有多个磁铁49。若使固定台44的端面4 与夹具48的端面48a抵 接，则固定台44的端面44a因磁铁45、49的吸引力而按压在夹具48的端面48a上，固定台 44被定位在夹具48的规定位置。在将临时固定了涂布部20的固定台44安装在夹具48之后，一边看着对涂布部20 的前端部进行放大观察的照相机50的图像一边调整涂布部20的突出量，以使从固定台44 的端面4 到涂布部20的前端的长度Ll与夹具48的长度L2 —致。也可以一边采用设置 在图案修正装置13上的观察光学系统18代替照相机50进行观察，一边利用XY调节架16 的绝对位置来调整长度Li。在结束采用夹具48来对齐涂布部20的前端部的位置之后，将修正墨水12填充到 涂布部20，涂布部20的更换准备完成。在进行更换作业时，要注意涂布部20的前端不能 与作业者的手或周围的装置接触，以将涂布部20固定于固定台44。藉此，能防止涂布部20 前端的损伤以确保涂布稳定性。
在图17(a) 图17(c)的变形例中，在固定台44上设有对涂布部20的前端进行 保护的保护套51。在图17(a) 图17(c)中，为了简化附图，省略了固定台44的磁铁45的 图示。图17(a)是表示用保护套51来保护涂布部20的前端，限制保护套51的上下移动的 状态，在此状态下进行对Z工作台40的装拆。图17(b)表示解除了保护套51的上下移动 限制的状态。图17(c)表示使保护套51上升以露出涂布部20的前端，而成为能涂布修正 墨水12的状态。保护套51形成为筒状，在保护套51内配置有涂布部20。保护套51被内插到设于 固定台44下部的口 44b中。在保护套51的侧面形成有长孔51a，插入到形成于固定台44 的孔Mc中的销52被配置成其前端部勾住长孔51a，保护套51在口 44b的范围内被可朝上 下方向进退地支承于固定台44。此外，在保护套51上形成有凸缘51b，在其侧面固接有磁性材料形成的销53，在凸 缘51b的外周面上固接有用于用手抓住的销54。在与销53相对的固定台44的一端面埋入 有磁铁55。图17(a)表示用保护套51对涂布部20的前端进行保护的状态，保护套51下降到 最下端，其下端位于比涂布部20的下端充分靠下的位置。在固定台44与保护套51的凸缘 51b之间安装有U字形状的限位件56，限位件56将保护套51限制成无法上下移动。在此 状态下将固定台44安装于Z工作台40。以使预喷板36退让的图10的状态进行安装，以使 安装作业容易进行。此时，通过使Z轴调节架17或Z轴调节架25上升从而预先将涂布单 元19整体上升，以充分确保与基板1的缝隙。在将固定台44安装于Z工作台40之后，将限位件56用手拔出，成为图17 (b)的 状态。此后，用手上提销M以使保护套51朝上方移动，通过使销53与磁铁55接触吸引， 从而将保护套51固定支承在固定台44侧，从而如图17(c)所示使涂布部20的前端露出。 在此状态下完成涂布部20的安装。当从Z工作台40拆下固定台44时，以相反的顺序实施 作业。如上所述，由于通过使保护套51相对于涂布部20朝上下进退从而能保护涂布部 20的前端，因此能避免在装拆时对涂布部20的损伤。此外，当从涂布部20的下侧覆盖独立 的盖罩的方式的情形时，可以想象会发生盖罩与涂布部20的前端碰撞的情形，但若是图16 所示结构这样的使保护套51上下移动的方式，则不会发生涂布部20与保护套51的碰撞， 操作性良好。另外，当安装图4中所说明的涂布部20作为涂布部20的情况下，由于无法改变涂 布形状，因此，也可以通过在涂布部20上包括旋转机构(未图示)来改变涂布角度。此外， 也可以使设于涂布部20的通孔27a的形状各异，将多个涂布单元19装设在图案修正装置 13上，选择与缺陷部8b的形状相符而使用的涂布单元19。在图18的变形例中，改变涂布单元19的固定部位。将涂布单元19固定在XYZ调 节架57的X轴上，该XYZ调节架57则固定支承在Z轴调节架17的工作台上。此时，也能 在用观察光学系统18对缺陷部8b进行了观察的状态下，操作XYZ调节架57，以将涂布部 20插入物镜M与基板1之间，对缺陷部8b涂布修正墨水12，省略了 XY调节架16的相对 移动。在图19的变形例中，将涂布单元19固定在进行物镜M的倍率切换的物镜切换器(XY调节架)58上。物镜切换器58包括可沿水平方向(XY方向)移动的可动板58a。在可 动板58a上开有多个孔。在可动板58a的下表面上装设有倍率彼此不同的多个物镜M。在 可动板58a上与各物镜M对应开有通孔。各物镜M的光轴垂直穿过孔的中心。通过对物 镜切换器58进行控制以使所希望的倍率的物镜M的光轴与观察光学系统18的光轴一致， 从而能以所希望的倍率对缺陷部8b进行观察。涂布单元19与多个物镜M —起装设在可动板58a的下表面上。因此，通过对物 镜切换器58进行控制，从而能使涂布单元19朝缺陷部8b的上方移动。在本变形例中，由 于省略了图18的变形例中所具有的XH调节架57，因此能使装置结构简化。此外，由于能 将涂布单元19配置在距用物镜M对缺陷部8b进行观察的位置很近的位置，因此能缩短移 动时间，缩短修正间隔。在图20的变形例中，在物镜切换器58上装设有对物镜切换器58与基板1的距离 进行测定的距离传感器59。图20是与图19的C向视图相对应的图。通常，用物镜M进行 观察的图像以位于焦点(focus)位置的Z轴调节架17的位置为基准，在此状态下(聚焦状 态下)进行预喷板36退让和涂布部20下降时，固定涂布单元19的位置以使涂布部20与 基板1的缝隙成为W2。然而，由于随着基板1的大型化，基板1的表面的平坦度也变差，因此，当涂布部20 伴随着预喷板36的移动而自动下降时(步骤S7)，可以想象会发生涂布部20的前端与基板 1接触的情况。或是，在散焦状态下人为进行预喷板36的移动和涂布部20的下降时(步骤 S7)，也同样可能发生涂布部20与基板1的接触，因而不甚理想。因此，为了避免基板1与涂布部20的接触或是碰撞，在物镜切换器58上设有以非 接触方式来测定到基板1的距离的距离传感器59。在进行步骤S7之前，基于由距离传感器 59测定得到的距离来判断是否可以实施步骤S7,当距离不足或距离偏离太大的情况下，控 制Z轴调节架17以对物镜切换器58的上下方向的位置进行微调。在图21的变形例中，使预喷板36旋转的电动机46被预喷控制部60控制。预喷 控制部60包括可判断预喷板36是否旋转了一圈的转角计数器，在旋转了一圈的阶段对作 业者发出警告。即、预喷控制部60在步骤S21中执行预喷，在步骤S22中使预喷板36旋转 规定角度。在步骤S23中，将转角计数器累计(+1)，在步骤SM中基于转角计数器的计数值 来判别预喷板36是否旋转了一圈。当判断为预喷板36还未旋转一圈时返回步骤S21，当判断为预喷板36已旋转了一 圈时在步骤S25中向作业者告知预喷板36已旋转了一圈。作为告知方法，有在显示器画面 上显示的方法、点起警告灯的方法以及鸣响蜂鸣的方法等。发出警告后，进行对涂布在预喷 板36上的修正墨水12的清扫除去。图22表示将涂布在预喷板36上的修正墨水12的清扫除去的方法。在图22中， 在Z工作台40上安装擦拭单元61以代替对涂布部20进行固定的固定台44。在擦拭单元 61的下端设有渗入有修正墨水12的溶剂的片材62。片材62与预喷板36的表面接触。在 使片材62与预喷板36的表面接触的状态下，使预喷板36旋转，从而能用片材62擦拭预喷 到预喷板36上的修正墨水12。作为片材62，采用无纺布或海绵等可吸收溶剂的构件。在图23的变形例中，在和预喷板36与涂布部20相对的位置不同的位置上，使渗 入有溶剂的片材62始终与预喷板36的表面接触。片材62被固定在支柱63的下端，支柱63被固定在对电动机46予以支承的X工作台43上。也可以将多个片材62配置在预喷板 36的平面上以始终进行擦拭。此时，可以省略用于图22中所说明的对涂布到预喷板36上 的修正墨水12进行清扫的维护作业。作为溶剂，可以使用例如萜品醇、癸醇、环十二烯等高 沸点溶剂，抑制片材62早期干燥。此外，在本实施方式中，使圆板状的预喷板36每次旋转规定角度进行使用，但不 限定于此，也可以如图M (a)、图24(b)所示，将四边形的预喷板65每次直线移动规定距离 进行使用。预喷板65以水平配置，将短边朝向X方向配置，将长边朝向Y方向配置。预喷 板65通过X工作台43而朝X方向移动，进行预喷动作时，如图M (a)、图M (b)所示被插入 涂布部20之下，在进行涂布时，如图M(C)所示，被配置在从上方观察远离预喷板65的位 置。此外，在预喷板65开始使用时，如图M (a)、图24(b)所示，涂布部20被配置在预 喷板65的表面的一方端的开始使用位置。预喷板65每次进行修正墨水12的预喷时，都会 被驱动装置66朝Y方向(图中的左侧方向)移动规定距离。预喷控制部67在执行了预喷 之后，使预喷板65移动规定距离，并对所移动的次数进行计数。当所计数的次数到达规定 数量时，如图M(d)所示，涂布部20配置在预喷板65的表面的另一方端的使用结束位置 上，结束了对使用结束位置的预喷。因此，预喷控制部67在移动预喷板65的次数到达规定 数量时，对图案修正装置的使用者告知情况(换言之，即需要清扫预喷板65的表面或需要 更换预喷板65这样的情况)。此外，当对预喷板65的表面进行清扫时，如图所示，设置擦拭单元68以代 替涂布部20。在擦拭单元68的下端设有渗入有修正墨水12的溶剂的片材69。片材69与 预喷板65的表面接触。在使片材69与预喷板65的表面接触的状态下，利用驱动装66使 预喷板65朝Y方向移动，从而能用片材69擦拭预喷到预喷板65上的修正墨水12。作为片 材69，采用无纺布或海绵等可吸收溶剂的构件。此外，在图24(f)所示，在比预喷板65与涂布部20相对的位置更靠一方端侧，使 渗入有溶剂的片材69始终与预喷板65的表面接触。片材69被固定在支柱70的下端。此 时，也可以省略图中所说明的维护作业。作为溶剂，可以使用例如萜品醇、癸醇、环 十二烯等高沸点溶剂，抑制片材69早期干燥。此外，图25(a)、图25(b)是表示实施方式的又一变形例的剖视图，其是与图 17(a) 图17(c)加以对比的图。图25(a)、图25(b)的变形例与图17(a) 图17(c)的变 形例的主要不同点在于在涂布单元19的固定台44上固定有多个(图中为两个)涂布部20， 并用保护套71替换保护套51。图25(a)表示使保护套71下降以保护多个涂布部20的前 端的状态。此外，图25(b)表示使保护套71上升以使多个涂布部20的前端露出的状态，其 表示可用涂布部20涂布修正墨水12的状态。保护套71形成为筒状，在保护套71内插入有多个涂布部20。利用图16所示的夹 具48使多个涂布部20的前端位置为相同高度。保护套71被内插到设于固定台44下部的 口 44b中。各涂布部20的上端部被嵌入到固定台44的口 44b底部的孔中。在固定台44 上与图11 一样固接有磁铁(未图示)，且因该磁铁的磁吸引力而可自由装拆，例如被安装到 可沿与基板1垂直的方向进退的Z工作台(未图示)(参照图8)。在保护套71的侧面固定有杆72。上述杆72被插入到形成于固定台44的口 44b的侧壁上的长孔44d中。杆72在长孔44d内被可朝上下方向移动地设置。当用手使杆72 在上下方向上移动时，保护套71在长孔44d的范围内相对于固定台44朝上下方向移动。在保护套71的上端部的外周形成有环状的槽71a，在保护套71的下端部的外周 形成有环状的槽71b。在固定台44的口 44b的下端部的侧壁设有柱塞73。柱塞73的球 73a(或圆筒)被弹簧7 朝与保护套71的外周面垂直的方向施力。通过使球73a进入槽 71a或槽71b，保护套71被固定在上侧位置或下侧位置。若球73a进入槽71a，则如图25(a)所示，保护套71被固定在下侧位置，各涂布部 20的前端被保护套71覆盖而加以保护。若球73a进入槽71b，则如图25(b)所示，保护套 71被固定在上侧位置，各涂布部20的前端露出而可进行各涂布部20的涂布。此时，若在各 涂布部20中注入与其它涂布部20不同颜色的修正墨水12，则通过选择多个涂布部20中的 某一个涂布部20来进行涂布，从而能涂布多种颜色的修正墨水12中所希望颜色的修正墨 水12。此外，若将固定了多个涂布部20的固定台44安装在图7所示的涂布单元19上， 则由于对于多个涂布部20只要一个以预喷板36为主的预喷机构就可以，因此能简化机构。此外，由于通过使保护套71相对于涂布部20朝上下进退从而能保护涂布部20的 前端，因此能避免在装拆固定台44时对涂布部20前端的损伤。图沈是将固定了多个涂布部20的固定台44安装在图7所示的涂布单元19上的 状态的图。在图26中，保护套71被固定在上侧位置，使各涂布部20的前端露出。来自图 案修正装置13的控制部(未图示)的涂布指令被输入到切换装置74。切换装置74根据涂 布指令选择多个涂布部20中的某一个涂布部20，采用所选择的涂布部20来涂布修正墨水 12。切换装置74包括对涂布量等进行控制的涂布控制部75 ；以及将涂布控制部75 的信号送到所选择的涂布部20的选择部76。以图4所示的涂布部20为例，气体喷射装置 31相当于涂布控制部75，使用将气体喷射装置31与所选择的涂布部20相连接的多联阀作 为选择部76。另外，若预先把握各涂布部20的涂布位置，则能将缺陷部8b定位在所选择的 涂布部20的正下方。在图沈的状态下，对所选择的涂布部20进行控制来进行预喷。此后，若进行预喷 板36的退让和Z调节架40的下降，则如图27所示，涂布部20的前端与基板1的缺陷部8b 相对。在此状态下，操作所选择的涂布部20以对缺陷部8d涂布修正墨水12。图28 (a) 图观(c)表示采用图沈所示的涂布单元19对具有图1 (a)、图1 (b)所 示的保护膜11的基板1的缺陷部8b进行修正的工序。在图^(a) 图^(c)中，在配线 (漏极线)8的一部分存在有断线缺陷部8b，位于其上方的保护膜11的一部分也有缺损而 使缺陷部8b处于露出的状态。此外，对固定于固定台44的两个涂布部20中的一方侧(图 中左侧)的涂布部20注入导电性修正墨水12，对另一方侧(图中右侧)的涂布部20注入 液状绝缘材料(例如树脂墨水)77。在第一次涂布工序中，如图28(b)所示，采用两个涂布部20中的一方侧(图中左 侧)的涂布部20对缺陷部8b涂布导电性修正墨水12，并通过此后的局部烧成来得到修正 图案12a以确保导通。在第二次涂布工序中，如图28(c)所示，采用另一方侧(图中右侧) 的涂布部20涂布液状绝缘材料77以封住修正图案12a，此后使其硬化来形成保护膜11。
另外，在上述变形例中，采用两个涂布部20来涂布修正墨水12和液状绝缘材料 77，但不限定于此，也可以采用多个涂布部20来涂布彼此不同的多个种类(例如多种颜色) 的修正墨水12。此外，还可以将具有彼此不同的涂布形状的多个涂布部20固定在固定台 44，并选择具有与缺陷部8b的形状相对应的涂布形状的涂布部20。到目前为止，对采用图4所示的涂布部20的实施例进行了说明，但本发明不限定 于此，例如还可以使用分配方式、喷墨方式的涂布部。此外，作为喷墨方式，提出了利用压力 或热的喷出方式、利用静电吸引的静电方式等各种方式，但可以使用任意一种方式。当使用喷墨方式或分配方式的涂布部时，在对缺陷部8b进行修正时，一边使涂布 部与基板1沿水平方向相对移动一边通过喷出修正墨水12来进行涂布，通过重复喷出修正 墨水12而能使修正墨水12堆积。此外，当使用玻璃制的毛细管(喷嘴)作为涂布部20时， 由于在将涂布部20固定在固定台44之后，与Z工作台40装拆时喷嘴前端很纤细，因此，需 要对其进行保护，而通过设置上述保护套51、71，能避免喷嘴前端的损伤。应当理解，上面公开的实施方式在所有方面均只是例示，不构成限制。本发明的范 围是由权利要求的范围来表示的，而不是由上述说明来表示的，旨在包括与权利要求的范 围相同的意思及范围内的所有变更。
权利要求
1.一种涂布单元，包括涂布元件，该涂布元件对基板上的微小区域涂布液状材料； 预喷构件，该预喷构件承接所述涂布元件预喷的液状材料；驱动元件，在进行所述液状材料的预喷的预喷动作时该驱动元件将所述预喷构件插入 所述涂布元件与所述基板之间，在所述预喷动作结束之后该驱动元件使所述预喷构件从所 述涂布元件与所述基板之间退让；以及仿形机构，该仿形机构设置在所述涂布元件与所述预喷构件之间，其随着所述预喷构 件插入到所述涂布元件与所述基板之间而使所述涂布元件上升，并随着所述预喷构件从所 述涂布元件与所述基板之间退让而使所述涂布元件下降。
2.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，所述仿形机构包括Z工作台，该Z工作台被设置成可朝上下方向移动，并装设所述涂布元件； 滚筒，该滚筒固定于所述Z工作台；以及X工作台，该X工作台被设置成可朝水平方向移动，并装设所述预喷构件， 在所述X工作台的上端部形成有仿形面，所述滚筒与所述X工作台的仿形面抵接，当所 述X工作台移动时所述滚筒沿所述仿形面移动。
3.如权利要求2所述的涂布单元，其特征在于，所述仿形机构在所述预喷构件从所述涂布元件与所述基板之间退让时，在所述预喷构 件离开所述涂布元件下方时使所述涂布元件下降。
4.如权利要求3所述的涂布单元，其特征在于， 所述仿形面包括水平部和倾斜部，在所述预喷构件从所述涂布元件与所述基板之间退让的情况下，当所述滚筒与所述水 平部抵接时只进行所述预喷构件的退让动作，当所述滚筒与所述倾斜部抵接时同时进行所 述预喷构件的退让动作和所述涂布元件的下降动作。
5.如权利要求4所述的涂布单元，其特征在于，在所述仿形面的水平部设有突起部或 向上倾斜部，以使所述涂布元件在所述预喷构件离开所述涂布元件下方的规定期间内上 升。
6.如权利要求2所述的涂布单元，其特征在于，还包括固定构件，该固定构件将所述涂布元件固定在所述Z工作台上， 在所述涂布元件的下端与所述固定构件的基准面之间的距离被设定成预先确定的基 准长度的状态下，所述固定构件被安装到所述Z工作台上。
7.如权利要求6所述的涂布单元，其特征在于，还包括保护套，该保护套设于所述固定 构件且对所述涂布元件进行保护。
8.如权利要求7所述的涂布单元，其特征在于，所述保护套可朝上下方向移动地设于 固定构件。
9.如权利要求8所述的涂布单元，其特征在于， 所述保护套被形成为筒状，所述涂布元件被插入到所述保护套内，当所述涂布元件通过所述固定构件安装到所述Z工作台上时，使所述保护套的下端位 于比所述涂布元件的下端更靠下方的位置以保护所述涂布元件，在安装结束时，使所述保护套朝上方移动以使所述涂布部的下端部露出。
10.如权利要求9所述的涂布单元，其特征在于，还包括保持元件，该保持元件将所述 保护套保持在上方以使所述涂布元件的下端部露出。
11.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于， 所述驱动元件使所述预喷构件朝第一方向移动，所述涂布单元还包括副驱动元件，每次进行所述液状材料的预喷时该副驱动元件使所 述预喷构件朝与所述第一方向不同的第二方向移动，将所述预喷构件表面上的没有被预喷 所述液状材料的部分配置在所述涂布元件的下方。
12.如权利要求11所述的涂布单元，其特征在于，还包括检测元件，该检测元件检测出所述预喷构件朝所述第二方向移动的次数；以及 告知元件，该告知元件在由所述检测元件检测出的次数到达预先确定好的次数时将这 一情况告知所述图案修正装置的使用者。
13.如权利要求11所述的涂布单元，其特征在于，当要除去被预喷到所述预喷构件的 表面的所述液状材料时，设置渗入有所述液状材料的溶剂的片材来代替所述涂布元件，使 所述片材与所述预喷构件的表面接触，并利用所述副驱动元件使所述预喷构件移动。
14.如权利要求11所述的涂布单元，其特征在于，所述涂布单元还包括擦拭元件，该擦 拭元件被设置在所述预喷构件的表面上的同与所述涂布元件相对的位置不同的位置上，使 渗入有所述液状材料的溶剂的片材与所述预喷构件的表面接触，并对被所述副驱动元件移 动的所述预喷构件的表面的所述液状材料进行擦拭。
15.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，所述涂布元件包括第一容器，该第一容器的底部的至少一部分由膜形成，并在所述膜上开有形状与所述 缺陷部的形状相对应的通孔；第二容器，该第二容器包括筒部，该筒部以其下端的开口部的边缘围住所述通孔的形 态配置在所述膜上，并对其内部注入所述液状材料；导引部，该导引部将所述第二容器支承成可朝上下方向移动；以及 喷嘴，该喷嘴的前端的喷射口与所述第二容器的上端部隔开缝隙相对，并且该喷嘴设 置成与所述膜的上表面大致垂直，以所述缺陷部和所述通孔位置对齐的状态，使所述膜与所述基板隔开缝隙地相对， 所述涂布单元还包括气体喷射元件，该气体喷射元件通过所述喷嘴喷射气体以将所述 第二容器朝下方按压，使所述膜中的包括所述通孔在内的范围朝下方突出而使所述通孔的 下侧的开口部与所述基板接触，并通过所述通孔对所述缺陷部涂布所述液状材料。
16.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，所述涂布元件包括喷墨方式的喷嘴。
17.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，所述涂布元件包括分配方式的喷嘴。
18.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于， 所述涂布元件包括多个副涂布元件，所述涂布单元还包括选择元件，该选择元件选择所述多个副涂布元件中的某一个副涂 布元件，所述多个副涂布元件中的被所述选择元件选择出的副涂布元件对所述基板上的所述 微小区域涂布所述液状材料。
19.一种图案修正装置，其对形成于基板上的微小图案的缺陷部进行修正，其特征在 于，包括涂布元件，该涂布元件对所述微小图案的缺陷部涂布修正液；预喷构件，该预喷构件承接所述涂布元件预喷的修正液；驱动元件，在进行所述修正液的预喷的预喷动作时该驱动构件将所述预喷构件插入所 述涂布元件与所述基板之间，在所述预喷动作结束之后该驱动构件使所述预喷构件从所述 涂布元件与所述基板之间退让；以及仿形机构，该仿形机构设置在所述涂布元件与所述预喷构件之间，其随着所述预喷构 件插入到所述涂布元件与所述基板之间而使所述涂布元件上升，并随着所述预喷构件从所 述涂布元件与所述基板之间退让而使所述涂布元件下降。
20.如权利要求19所述的图案修正装置，其特征在于，所述图案修正装置还包括用于对所述基板的表面进行观察的观察光学系统，所述观察光学系统包括倍率彼此不同的多个物镜；以及XY工作台，该XY工作台具有在下表面固定有所述多个物镜的可动板，使所述可动板沿 水平方向移动以使所述多个物镜中被选择出的物镜的光轴与所述观察光学系统的光轴一 致，所述涂布元件、所述预喷构件、所述驱动元件以及所述仿形机构被设置在所述可动板 的下表面。
21.如权利要求20所述的图案修正装置，其特征在于，所述图案修正装置还包括距离 传感器，该距离传感器被设置在所述可动板的下表面，用于对距所述基板的距离进行测定 来防止所述涂布元件的下端与所述基板接触。
22.如权利要求21所述的图案修正装置，其特征在于，所述图案修正装置还包括位置 调整元件，该位置调整元件基于所述距离传感器的测定结果来调整所述XY工作台的上下 方向的位置，防止所述涂布元件的下端与所述基板接触。
23.如权利要求19所述的图案修正装置，其特征在于，所述涂布元件包括多个副涂布元件，所述图案修正装置还包括选择元件，该选择元件选择所述多个副涂布元件中的某一个 副涂布元件，所述多个副涂布元件中的被所述选择元件选择出的副涂布元件对所述缺陷部涂布所 述修正液。
24.如权利要求23所述的图案修正装置，其特征在于，各副涂布元件涂布与其它副涂 布元件不同种类的修正液。
25.如权利要求23所述的图案修正装置，其特征在于，各副涂布元件将所述修正液涂 布成与其它副涂布元件不同的形状。
全文摘要
一种涂布单元以及图案修正装置，其能以简单的结构迅速地进行预喷构件的退让和涂布元件的下降。所述涂布单元(19)包括驱动装置(47)，该驱动装置(47)在进行预喷动作时将预喷板(36)插入涂布部(20)与基板(1)之间，在预喷动作结束后，使预喷板(36)从涂布部(20)与基板(1)之间退让；以及X工作台(43)(仿形机构)，该X工作台(43)随着插入预喷板(36)而使涂布部(20)上升，并随着预喷板(36)退让而使涂布部(20)下降。因此，能以简单的结构迅速地执行预喷板(36)的退让和涂布部(20)的下降。
文档编号H01L21/00GK102049366SQ20101054437
公开日2011年5月11日 申请日期2010年11月3日 优先权日2009年11月6日
发明者小池孝志 申请人:Ntn株式会社