用于喷墨头的喷射量校正方法、喷射量校正装置制造方法
【专利摘要】本发明的方面提供用于喷墨头的喷射量校正方法，包括：喷射功能墨作为来自喷墨头的喷嘴的墨液滴以便将墨液滴离散地布置在衬底的前表面上的布置步骤；通过使印模接触布置在衬底的前表面上的墨液滴来将功能墨填充在印模和衬底之间的接触步骤；固化所填充的功能墨以便产生功能膜的固化步骤；分离印模与功能膜的分离步骤；测量功能膜的厚度的测量步骤；以及基于所测量的厚度来校正来自喷嘴的喷射量的校正步骤。
【专利说明】用于喷墨头的喷射量校正方法、喷射量校正装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及用于喷墨头的喷射量校正方法、喷射量校正装置、功能墨布置装置和纳米压印(nano-1mprinting)系统,且更具体地涉及用于通过经由喷墨方法喷射功能墨来将墨液滴布置在介质例如衬底上的液体沉积技术。
【背景技术】
[0002]随着近年来半导体集成电路的集成度增加，对于布线图案的细度等的要求也在增力口。纳米压印光刻(NIL)已知为用于在衬底上形成微结构的技术。纳米压印光刻包括将形成有所需的突出-凹陷图案的印模(mold)压在涂敷到衬底的抗蚀剂(UV固化树脂)上，通过使用UV辐射进行照射来固化在这个状态下的抗蚀剂，以及将印模与位于衬底上的抗蚀剂分离(取回)，从而将在印模上形成的微结构转移到衬底(抗蚀剂)。
[0003]在使用喷墨方法的NIL中，严重的问题是实现被转移到抗蚀剂的图案的均匀膜厚度(残留膜厚度)。
[0004]针对这一问题，PTLl公开了用于通过改变与由于印模图案的粗糙度而造成的残留膜厚度的变化有关的喷墨液滴喷射密度和液滴喷射量来实现均匀膜厚度的技术。
[0005]此外，PTL2公开了用于通过响应于由衬底上的抗蚀剂液滴的蒸发的量的变化造成的残留膜厚度的变化而改变喷墨液滴喷射密度和液滴喷射量来实现均匀膜厚度的技术，衬底上的抗蚀剂液滴的蒸发的量的变化是由于从抗蚀剂液滴喷射到衬底上起直到压印为止的时间差造成的。
[0006]根据PTLl和PTL2，可能实现衬底的平面中的均匀膜厚度。
[0007]引用列表
[0008]专利文献
[0009]PTLl =PCT申请号2008-502157的公布的日文翻译
[0010]PTL2:日本专利申请号2009-88376
【发明内容】
[0011]技术问题
[0012]经过认真研究，本 申请人:发现喷墨系统中的喷射液滴量受到不同批次的抗蚀剂之间粘度的轻微差异的影响。这并不引起衬底的平面中的残留膜厚度的变化，但是当抗蚀剂改变时，因为衬底之间的残留膜厚度出现差异，这会是有问题的。此外，在由于喷墨头的损坏而更换头或诸如此类的情况下，喷射墨量改变，且因此衬底之间出现膜厚度差异。
[0013]然而，在PTLl和PTL2中公开的膜厚度校正技术目的在于实现衬底的平面中的均匀膜厚度，但当抗蚀剂的批次改变或头被更换时不能实现衬底之间的均匀膜厚度。
[0014]对问题的解决方案
[0015]鉴于这些情况设计了本发明，其目的是提供喷墨头的喷射量校正方法、校正量计算装置和功能墨布置装置，由此，可在衬底之间实现均匀的膜厚度。[0016]为了实现上述目的，用于喷墨头的喷射量校正方法的实施例包括喷射功能墨作为来自喷墨头的喷嘴的墨液滴以便将墨液滴离散地布置在衬底的前表面上的布置步骤；通过使印模接触布置在衬底的前表面上的墨液滴来将功能墨填充在印模和衬底之间的接触步骤；固化所填充的功能墨以便产生功能膜的固化步骤；分离印模与功能膜的分离步骤；测量功能膜的厚度的测量步骤；以及基于所测量的厚度来校正来自喷嘴的喷射量的校正步骤。
[0017]根据本实施例，因为固化的功能墨的厚度被测量且基于所测量的厚度校正来自喷嘴的喷射量，可在衬底之间实现均匀膜厚度，即使粘度在功能墨(抗蚀剂材料)的批次之间改变且即使喷墨头被更换。
[0018]期望地，在布置步骤中，通过改变在衬底的前表面上的每个指定区域中的来自喷嘴的喷射量来布置墨液滴，以及在测量步骤中，在每个区域中测量功能膜的厚度。
[0019]期望地，在布置步骤中，通过改变在衬底的前表面上的每个指定区域中的来自喷嘴的喷射量来布置墨液滴，以及在测量步骤中，在每个区域中测量功能膜的厚度。
[0020]期望地，与墨液滴接触的印模的表面具有由图案形成的多个区域，且在布置步骤中，通过改变对应于由图案形成的多个区域的相应区域中的来自喷嘴的喷射量来布置墨液滴。
[0021]以这种方式，通过在与墨液滴接触的印模的表面上形成多个区域，可适当地在每个区域中测量功能墨的厚度。
[0022]由图案形成的多个区域可以是由在与墨液滴接触的印模的表面中形成的凹槽围绕的区域，或由亲液和排斥图案形成的区域，亲液和排斥图案形成在与在墨液滴接触的印模的表面上。以这种方式，可在与墨液滴接触的印模的表面上适当地形成多个区域。
[0023]期望地，在布置步骤中通过改变喷嘴的驱动电压来改变来自喷嘴的喷射量，且在校正步骤中校正喷嘴的驱动电压。通过以这种方式改变驱动电压，可适当地改变来自喷嘴的喷射量。
[0024]期望地，多个喷嘴在指定方向上以指定间隔布置在喷墨头中，且在布置步骤中，墨液滴以比指定间隔短的间隔布置。通过以这种方式布置墨液滴，实施厚度测量的范围变得更窄，且可缩短测量时间。
[0025]期望地，在布置步骤中，墨液滴布置成墨液滴之间的间隔大于墨液滴的直径。通过以这种方式布置墨液滴，可防止着陆干扰。
[0026]在布置步骤中，从所有喷嘴喷射的墨液滴可布置在衬底的前表面上的对应于多个区域的区域中的每个区域中。通过以这种方式布置墨液滴，可测量包括喷嘴之间的变化的平均膜厚度。
[0027]期望地，在布置步骤中，从不同喷嘴喷射的墨液滴布置在衬底的前表面上的对应于多个区域的区域中的每个区域中，且在校正步骤中，基于所测量的厚度针对每个喷嘴校正喷射量。通过以这种方式布置墨液滴，可测量对于每个喷嘴的膜厚度，所以可调节对于每个喷嘴的喷射量。
[0028]期望地，多个喷嘴在指定方向上以指定间隔布置在喷墨头中，且在布置步骤中，墨液滴以比指定间隔短的间隔布置。
[0029]期望地，在布置步骤中，墨液滴布置成墨液滴之间的间隔大于墨液滴的直径。[0030]期望地，该方法还包括测量从喷嘴喷射的墨液滴的喷射速度的速度测量步骤；以及将所测量的喷射速度和所测量的厚度之间的关系存储在存储器中的存储步骤，其中在校正步骤中，基于所测量的喷射速度来校正来自喷嘴的喷射量。通过预先存储所测量的喷射速度和所测量的厚度之间的关系，可仅仅通过测量喷射速度来校正来自喷嘴的喷射量。因此，可迅速地校正喷射量而无需测量膜厚度。
[0031]期望地，在测量步骤中使用原子力显微镜来测量功能膜的厚度。以这种方式，可以高精度进行测量。
[0032]期望地,在测量步骤中使用椭圆偏光仪(elIipsometer)来测量功能膜的厚度。以这种方式，可相对容易和精确地进行测量。
[0033]为了实现上述目的，纳米压印系统的实施例包括:从喷嘴朝向衬底喷射功能墨作为墨液滴的喷墨头；引起衬底和喷墨头的相对移动的扫描设备；通过在指定条件下从喷墨头的喷嘴喷射墨液滴同时通过扫描设备相对地移动衬底和喷墨头来将墨液滴离散地布置在衬底上的布置设备；通过使印模接触布置在衬底的前表面上的墨液滴来将功能墨填充在印模和衬底之间的接触设备；固化所填充的功能墨以便产生功能膜的固化设备；分离印模与功能膜的分离设备；测量功能膜的厚度的测量设备；以及基于所测量的厚度来校正来自喷嘴的喷射量的校正设备。
[0034]根据本实施例，因为产生功能膜且基于所产生的功能膜的厚度校正来自喷嘴的喷射量，可在衬底之间实现均匀的膜厚度。
[0035]为了实现上述目的，功能墨布置装置的实施例包括:从喷嘴朝向衬底喷射功能墨作为墨液滴的喷墨头；引起衬底和喷墨头的相对移动的扫描设备；布置设备，通过在指定条件下从喷墨头的喷嘴喷射墨液滴，同时通过扫描设备相对地移动衬底和喷墨头来将墨液滴离散地布置在衬底上，并通过改变在衬底的前表面上的每个指定区域中的来自喷嘴的喷射量来布置墨液滴；以及通过基于存储在存储设备中的关系表校正指定条件来校正来自喷嘴的喷射量的校正设备。
[0036]根据本实施例，因为通过改变在衬底的前表面上的每个指定区域中的来自喷嘴的喷射量来改变墨液滴，所以可容易计算关系表。此外，因为基于存储在存储设备中的关系表来校正来自喷嘴的喷射量，可在衬底之间实现均匀膜厚度。
[0037]为了实现上述目的，用于喷墨头的喷射量校正装置的实施例包括:获取在指定的纳米压印系统中产生的功能膜的厚度的获取设备；计算在所获取的厚度和指定条件之间的关系表的计算设备，在所述指定条件下，墨液滴从在指定的纳米压印系统中的喷墨头的喷嘴喷射；以及存储所计算的关系表的存储设备，其中指定的纳米压印系统包括:从喷嘴朝向衬底喷射功能墨作为墨液滴的喷墨头；引起衬底和喷墨头的相对运动的扫描设备；布置设备，通过在指定条件下从喷墨头的喷嘴喷射墨液滴，同时通过扫描设备相对地移动衬底和喷墨头来将墨液滴离散地布置在衬底上，并通过改变在衬底的前表面上的每个指定区域中的来自喷嘴的喷射量来改变墨量；通过使印模接触布置在衬底的前表面上的墨液滴来将功能墨填充在印模和衬底之间的接触设备；固化所填充的功能墨以便产生功能膜的固化设备；以及分离印模与功能膜的分离设备。
[0038]根据本实施例，因为获取功能膜的厚度且计算所获取的厚度和指定条件的关系表以及存储所计算的关系表，于是可通过使用这个关系表来适当地校正喷墨头的喷射量。因此，可在衬底之间实现均匀膜厚度。
[0039]发明的有利效果
[0040]根据本发明，可在衬底之间实现均匀膜厚度，即使粘度随着功能墨的批次而改变，或即使喷墨头被更换。
【专利附图】
【附图说明】
[0041]将参考附图在下文中解释本发明的性质以及其它目的和其优点，其中相似的参考符号在全部附图中表示相同或相似的部件且其中:
[0042]图1是示出纳米压印方法的步骤图；
[0043]图2是示出与第一实施例有关的校正喷墨喷射量的方法的流程图；
[0044]图3A是不出用于I旲厚度测量的衬底和喷墨头的不意图；
[0045]图3B是示出喷墨头的喷嘴和从喷嘴喷射并布置在衬底上的墨液滴的示意图；
[0046]图4是示出用于膜厚度测量的印模的图；
[0047]图5是示出分别具有不同的驱动电压的多个喷射波形的图；
[0048]图6是示出具有四个喷射波形作为相应的波形元素的波形的图；
[0049]图7是示出喷射波形输出单元的方框图；
[0050]图8是衬底、印模和布置在衬底上的墨液滴的横截面图；
[0051]图9是示出所创建的表的图；
[0052]图10是示出与第二实施例有关的用于膜厚度测量的衬底和喷墨头的示意图；
[0053]图11是示出与第二实施例有关的印模的压印表面的图；
[0054]图12是在衬底的前表面侧上形成的抗蚀剂的图；
[0055]图13是示出与第三实施例有关的喷墨喷射量校正方法的流程图；以及
[0056]图14是示出功能墨布置装置的结构的方框图。
【具体实施方式】
[0057][纳米压印方法的解释]
[0058]首先，根据本实施例的纳米压印方法将参考图1通过跟踪其过程顺序来解释。使用在本例中示出的纳米压印方法，在印模(例如，Si印模)上形成的突出-凹陷图案被转移到通过固化在衬底(石英衬底等)上形成的功能墨(光可固化树脂液体)而得到的光可固化树脂膜，且通过使用光可固化树脂膜在衬底上形成微图案作为主图案。
[0059]首先，制备在图1的(a)中示出的石英衬底10 (在下文中被简单地称为“衬底”)。硬掩模层11在图1的(a)中所示的衬底10的前表面IOA上形成，且微图案在前表面IOA上形成。衬底10具有允许衬底透射诸如UV辐射的光的预定透射率，并可具有等于或大于
0.3mm的厚度。这样的光透射率使从衬底10的后表面IOB进行曝光变得可能。
[0060]适当衬底，例如当使用Si印模时所使用的衬底10的例子包括在其表面上覆盖有硅烷偶联剂的衬底、以由Cr、W、T1、N1、Ag、Pt、Au等构成的金属层层积的衬底、以例如Cr02、W02和Ti02的金属氧化物层层积的衬底、以及在其表面上覆盖有硅烷偶联剂的这样的层积片。
[0061]因此，层积片(覆盖材料)，例如前述金属膜或金属氧化物膜用作图1的(a)中示出的硬掩模层11。在层积片的厚度超过30nm的场合，光透射率降低且在光可固化树脂中容易出现固化缺陷。因此，层积片厚度等于或小于30nm,优选地等于或小于20nm。
[0062]如在本文中提到的“预定透射率”确保来自衬底10的后表面IOB的光将从前表面IOA出射以及在前表面IOA上形成的功能墨(例如，包括由图1的(c)中的参考数字14表示的光可固化树脂的液体)将被充分固化。例如，来自后表面IOB的具有等于或大于200nm的波长的光的透射率可等于或大于5%。
[0063]衬底10的结构可以是单层结构或层积结构。除了石英以外，诸如硅、镍、铝、玻璃和树脂的材料可适用于衬底10。这些材料可单独地使用或可在适当时以其中两个或多个的组合使用。
[0064]衬底10的厚度优选地等于或大于0.05mm,更优选地等于或大于0.1mm。在衬底10的厚度小于0.05mm的场合，可行的是，偏斜将出现在衬底侧，且当图案将被形成的情况下印模和主体紧密接触时将不会得到均匀接触状态。此外，为了在处理期间或在压印期间的压力下避免断裂，衬底10的厚度等于或大于0.3mm是更加优选的。
[0065]引出光可固化树脂的多个液滴14离散地从喷墨头12喷射到衬底10的前表面IOA上(图1的(b):喷射步骤)。表述“液滴离散地喷射出”在本文意指多个液滴以预定的间隔着陆，而不与在衬底10上的相邻喷射位置处着陆的其它液滴接触(引起着陆干扰)。
[0066]液滴14的液滴喷射量、喷射液滴密度和液滴的释放(飞行)速度在图1的(b)所示的喷射步骤中被预先设定(调节)。例如，液滴量和喷射液滴密度被调节为在具有印模的突出-凹陷图案的凹陷的大空间体积的区域(由图1的(C)中的参考数字16表示)中相对大，而在具有凹陷的小空间体积的区域或没有凹陷的区域中相对小。在调节之后，液滴14根据预定的着陆布置(图案)布置在衬底10上。
[0067]在图1的(b)所示的喷射步骤之后，突出-凹陷图案被形成的印模16的突出-凹陷图案表面通过预定的压紧力压抵衬底10的前表面10A，存在于衬底10上的液滴14膨胀，且形成由结合在一起的多个膨胀的液滴14构成的光可固化树脂膜18 (图1的(c):光可固化膜形成步骤)。
[0068]在光可固化树脂膜形成步骤中，在印模16和衬底10之间的大气被减压或抽真空之后，可通过将印模16压抵衬底10来减少残留气体的量。然而，在高真空大气下，未固化的光可固化树脂膜18挥发，且会难以保持均匀膜厚度。因此，可通过以氦(He)气或He减压气代替印模16和衬底10之间的大气来减少残留气体的量。因为He渗透石英衬底10，被吸收的残留气体(He)的量逐渐减少。因为He渗透需要一定的时间，He减压气是优选的。
[0069]印模16的压紧力在从IOOkPa到IOMPa的范围内。相对高的压紧力增强树脂流动，也增强光可固化树脂中的残留气体的压缩和残留气体的溶解和衬底10中的He渗透，并导致提高的节拍时间。然而，在压紧力太高的场合，可能的是，异物将被压入印模16中且当印模16与衬底10接触时衬底16被损坏。由于这个原因，印模16的压紧力被设定在上述范围内。
[0070]印模16的压紧力的范围更优选地从IOOkPa到5MPa，甚至更优选地从IOOkPa到IMPa0压紧力被设定为等于或高于IOOkPa的值，使得印模16和衬底10之间的空间填充有液滴14，且当在大气下执行压印时印模16和衬底10之间的空间在大气压力(大约IOlkPa)下被加压。[0071]随后从衬底10的后表面IOB执行使用UV辐射进行照射，对光可固化树脂膜18进行曝光，并固化光可固化树脂膜18 (图1的(c):光可固化树脂膜固化步骤)。在本例中，示出光可固化系统，其中光可固化树脂膜18由光(UV辐射)固化，但也可使用另一固化系统。例如，可通过使用包括热可固化树脂的液体来形成热可固化树脂膜并可通过加热来固化热可固化树脂膜。
[0072]在光可固化树脂膜18已经充分固化之后，印模16与光可固化树脂膜18分离(图1的(d):分离步骤)。不可能损坏光可固化树脂膜18的图案的任何方法可用于分离印模16。因此，印模可逐渐与衬底10的边缘部分分离，或可执行分离，同时从印模16的侧面施加压力，以便减小施加到边界线上的光可固化树脂膜18的力，在边界线处，印模16与光可固化树脂膜18分离(加压分离方法)。此外，也可使用一种方法(加热辅助分离)，其中光可固化树脂膜18的附近区域被加热，光可固化树脂膜18和印模16之间的在印模16和光可固化树脂膜18的界面处的粘附力减小，光可固化树脂膜18的杨氏模量减小，耐脆化力提高，且由变形引起的断裂被抑制。也可使用上述方法适当组合的复合方法。
[0073]在图1的(a)到(d)所示的步骤中，在印模16上形成的突出-凹陷图案被转移到在衬底10的前表面IOA上形成的光可固化树脂膜18。在衬底10上形成的光可固化树脂膜18中，根据包括光可固化树脂的液体的物理特性和印模16的突出-凹陷状态来优化将形成光可固化树脂膜18的液滴14的喷射液滴密度。因此，改善了残留厚度的均匀性，且形成了没有缺陷的所需突出-凹陷图案。通过使用光可固化树脂膜18作为掩模，精细的图案随后形成在衬底10 (或覆盖衬底10的金属膜)上。
[0074]在位于衬底10上的光可固化树脂膜18的突出-凹陷图案被转移的场合，在光可固化树脂膜18的凹陷内部的光可固化树脂被去除，且衬底10的前表面IOA或在前表面IOA上形成的金属膜被暴露(图1的(e):灰化步骤)。
[0075]在之后通过使用光可固化树脂膜18作为掩模来执行干蚀刻(图1的(f):蚀刻步骤)且光可固化树脂膜18被去除的场合，在衬底10上形成对应于光可固化树脂膜18上形成的突出-凹陷图案的精细图案10C。在金属膜或金属氧化物膜形成在衬底10的前表面IOA上的场合，预定的图案形成在金属膜或金属氧化物膜上。
[0076]任何方法可用于干蚀刻，假定该方法可使用光可固化树脂膜作为掩模。适当的方法的特定例子包括离子纟先削(ion milling)方法、反应离子蚀刻(RIE)和派射蚀刻。在这些方法当中，离子铣削方法和反应离子蚀刻(RIE)是特别优选的。
[0077]离子铣削方法也被称为离子束蚀刻。在这种方法中，通过将惰性气体例如Ar引入离子源中来产生离子。所产生的离子在穿过栅格并与样本衬底碰撞时被加速，从而蚀刻衬底。可使用Kaufman型、高频型、电子碰撞型、双等离子管型、Freeman型和ECR (电子回旋共振)型的离子源。Ar气可在离子束蚀刻中用作工艺气体，且含氟气体或含氯气体可用作RIE的蚀刻剂。
[0078]如在上文中所述的，通过使用光可固化树脂膜18作为掩模并通过使用没有由剩余膜的厚度不均匀性和残留气体引起的缺陷的掩模执行干蚀刻来形成使用在本例中示出的纳米压印方法的精细图案，印模16的突出-凹陷图案被转移到光可固化树脂膜18。因此，可以以高精度和良好产量在衬底10上形成精细图案。
[0079]通过使用上面描述的纳米压印方法，可以制造石英衬底印模用于该纳米压印方法中。
[0080](校正喷射量的方法:第一实施例)
[0081]如上所述，在印模16中形成的凹凸图案被转移到光可固化树脂膜18。在随后的灰化步骤中，光可固化树脂膜18的厚度必须是均匀的，以便使灰化条件在衬底之间总是保持一致。换句话说，从喷墨头喷射的液滴14必须具有一致的量。
[0082]然而，从喷墨头喷射的液滴14的量随着不同批次的树脂之间的树脂材料的粘度的变化而改变。因此，这引起衬底间的光可固化树脂膜18的厚度的变化。此外，在更换喷墨头时，也出现类似的问题。为了解决这个问题，喷墨头的喷射量应被校正，以便每当抗蚀剂的批次改变时或每当更换喷墨头时保持一致。
[0083]图2是示出与本实施例有关的校正喷墨喷射量的方法的流程图。在这里，实际产生用于膜厚度测量的膜，且测量所产生的膜的厚度，且根据所测量的厚度来校正喷射量。
[0084]首先，印刷用于膜厚度测量的液滴喷射布置图案(步骤SI)。
[0085]图3A是用于膜厚度测量的衬底(衬底)100和喷墨头300的示意图，喷墨头300通过喷射功能墨的液滴将功能墨液滴离散地布置在衬底100的前表面上，同时借助于扫描设备(未不出)移动。
[0086]衬底100是具有指定透射率的薄板形基底材料，对于该衬底，使用例如石英。四个区域102、104、106和108设定在衬底100的前表面上，以便对应于在下文中描述的印模的区域。
[0087]喷墨头300被构成为能够借助于扫描设备(未示出)在衬底100的前表面上执行在X和Y方向上的扫描动作。喷射功能墨的128个喷嘴在一个方向上(在一行中)布置在喷墨头300的下表面。对喷嘴的数量和布置没有特定的限制，且可以包括更大数量的喷嘴并以交错配置或矩阵配置布置喷嘴。
[0088]区域102到108每个均具有覆盖喷墨头300的所有喷嘴的宽度(Y方向长度)。换句话说，当墨被喷射同时喷墨头300执行在X方向上的扫描动作时，从所有喷嘴喷射的墨可被喷射，以便布置在一个区域内。
[0089]图3B是示出喷墨头300的喷嘴rv nm+1和Iv2以及通过从喷嘴喷射而布置在衬底100上的墨液滴dm、dm+1和dm+2的不意图。
[0090]如图3B所示，喷墨头300的相应喷嘴以Pn的喷嘴间距(喷嘴间隔)布置。此外，喷墨头300布置成使得喷嘴布置方向从Y方向倾斜角度Θ。
[0091]此外，在图3B中，墨液滴dm是从喷嘴nm喷射的墨液滴，墨液滴dm+1是从喷嘴nm+1喷射的墨液滴，以及墨液滴dm+2是从喷嘴nm+2喷射的墨液滴。在Y方向(液滴喷射间隔)Pdy上在墨液滴之间的喷嘴间距Pn和液滴喷射间距具有关系Pdy=Pn X cos Θ。在这里，因为Θ古0，于是Pn>Pdy。以这种方式，通过使液滴喷射间距小于喷嘴间距，可以使液滴被喷射的区域变得更窄。因此，下面描述的膜厚度测量的范围可变得更窄。
[0092]在X方向和Y方向上的墨液滴的液滴喷射间距大于墨液滴的直径Wd。换句话说，如果在X方向上的液滴喷射间距是Pdx，则存在关系Pdx>wd和Pdy>Wd。通过以这种方式离散地喷射液滴，可以防止着陆干扰。
[0093]墨液滴的布置图案如上所述地设置。在这里，在所设置的布置图案中的每单位表面积的墨液滴的数量(液滴喷射密度)称为D。[0094]接下来，构成用于膜厚度测量的印模(步骤S2 )。在本实施例中，使用图4所示的用于膜厚度测量(印模)200的印模。印模200是具有与衬底100基本相同的尺寸的结构的薄板形基底材料。
[0095]图4的(a)是示出印模200的接触表面的图，图4的(b)是示出在Y方向上的印模200的横截面的图，且图4的(c)是示出在X方向上的印模200的横截面的图。凹槽210在印模200的接触表面中形成，且形成凹槽210所围绕的区域202、204、206和208。
[0096]上面描述的衬底100的区域102、104、106和108设定为对应于印模200的区域202、204、206和208。换句话说，当印模200的接触表面设置为与衬底100的前表面相对时，衬底100的区域102、104、106和108与印模200的区域202、204、206和208设置为分别叠加。
[0097]接下来，喷墨喷射条件设定成使得喷射量在每个区域中是不同的(步骤S3)。喷墨头的喷嘴被构成为其驱动电压可改变。在这里，如图5所示，喷墨头被构成为可为每个喷嘴选择具有驱动电压V1的喷射波形402、具有驱动电压V2的喷射波形404、具有驱动电压V3的喷射波形406和具有驱动电压V4的是方波的喷射波形408的一个喷射波形。
[0098]例如，如图6的(a)所示，可以采用一种构成，其中一个喷射周期的波形是一个连续波形，其中四个喷射波形402、404、406和408用作相应的波形元素，并且通过使用使能信号选择任一个喷射波形元素而输出一个喷射波形。图6的(b)示出使能信号的一个例子。此外，图6的(c)示出由在图6的(b)中示出的使能信号输出的喷射波形，且输出具有驱动电压V2的喷射波形404。
[0099]通过采用这种构成，可以为每个喷嘴选择并输出四个喷射波形402、404、406和408中的任一个喷射波形。
[0100]此外，也可以采用一种构成，其中作为喷射波形的基础的数字波形数据被设定成对于每个喷嘴输出基于所设定的数据的波形。
[0101]图7是示出在这种情况下使用的喷射波形输出单元410的方框图。喷射波形输出单元410包括数字波形产生单元412、D/A转换器414和放大器416。
[0102]首先，在数字波形产生单元412中设定所需的数字波形数据。数字波形产生单元412以功能墨喷射时序输出所设定的数字波形。所输出的数字波形通过D/A转换器4转换成模拟波形，并在电流由放大器416放大之后提供到喷嘴(在这里，压电元件418)。
[0103]通过采用这种构成，可以容易地实现兼容性，即使存在许多类型的波形。
[0104]在这里，喷墨头300的喷嘴的喷射波形被设置为当液滴喷射到区域102上时的喷射波形402、当液滴喷射到区域104上时的喷射波形404、当液滴喷射到区域106上时的喷射波形406和当液滴喷射到区域108上时的喷射波形408。换句说，在驱动电压V1下执行到区域102、在驱动电压V2下执行到区域104、在驱动电压V3下执行到区域106、以及在驱动电压V4下执行到区域108上的液滴喷射。
[0105]接下来，从使用实际使用的批次的功能墨的喷嘴喷射墨液滴，且测量喷射液滴的速度(喷射速度)(步骤S4)。在这种情况下，对于每个喷嘴分别测量在喷射波形402、404、406和408的情况中的喷射速度。通过例如当在与喷射波形同步的喷射之后过去指定时间段时发射选通脉冲(strobe)并观察喷射的液滴的投射位置来测量喷射速度。测量喷射速度的方法不限于此，且可使用其它公共已知的方法，例如基于以指定间隔分开地布置的相应激光光束之间的交叉的时序进行测量。
[0106]接下来，图3A和3B所示的衬底100设置在指定位置上(步骤S5)，且功能墨的液滴从喷墨头300喷射到衬底100的前表面侧的相应区域102到108 (步骤S6:布置步骤)。
[0107]喷墨头300首先以喷射波形402将墨液滴喷射到衬底100的区域102上以便实现在步骤SI中规定的布置图案，同时执行在X方向上的扫描动作。在这种情况下，墨头300执行扫描动作，使得从喷墨头300的所有喷嘴喷射的墨液滴布置在区域102内部。
[0108]在将墨的液滴喷射到区域102上之后，喷墨头300执行在Y方向上的扫描动作，直到到达从所有喷嘴喷射的墨液滴可布置在区域104内部的位置。因此，喷墨头300以喷射波形404将墨液滴喷射到区域104上以便实现在步骤SI中规定的布置图案，同时再次执行在X方向上的扫描动作。
[0109]在将墨的液滴喷射到区域104上之后，喷墨头300执行在Y方向上的扫描动作，直到到达从所有喷嘴喷射的墨液滴可布置在区域106内部的位置。因此，喷墨头300以喷射波形406将墨液滴喷射到区域106上以便实现在步骤SI中规定的布置图案，同时再次执行在X方向上的扫描动作。
[0110]在将墨液滴喷射到区域106上之后，喷墨头300以类似的方式以喷射波形408将墨液滴喷射到区域108上以便实现在步骤SI中规定的布置图案。
[0111]当墨液滴的喷射在整个区域上完成时，在图4的(a)到(C)中示出的印模200的表面(接触表面)(其中凹槽210被形成)与布置在衬底100的前表面上的功能墨的液滴接触(步骤S7:接触步骤)。
[0112]图8的(a)是衬底100、印模200和布置在衬底100上的墨液滴310的横截面图。如图8的(a)所示,墨液滴310被布置为避免对应于凹槽210的位置。
[0113]图8的(b)是印模200与衬底100上的墨液滴310接触的状态的横截面图。如图8的(b)所示，当印模200以适当的压力接触(压印)衬底100上的墨液滴310时，由填充在印模200和衬底100之间的墨液滴310 (功能膜312)形成液体桥。
[0114]湿润和散布的墨液滴310 (功能膜312)由印模200中形成的凹槽210固定住，且因此由凹槽210划界的不同区域的墨液滴310 (功能膜312)绝不混合在一起。
[0115]以这种方式，形成凹槽210，以防止布置在相应区域中的墨液滴310 (功能膜312)混合。除了形成凹槽210以外，也可以将区域之间的间隔增加到墨液滴310 (功能膜312)不混合在一起的程度，且也可以通过亲液和排斥图案形成区域。当使用这些方法时，也可获得类似的有益效果。
[0116]接下来，从衬底100的后表面侧照射紫外光，从而固化功能膜312 (步骤S8:固化步骤)。在固化功能膜312之后，将印模200与固化的功能模312分离(步骤S9:分离步骤)。
[0117]图8的(C)是示出在分离印模200之后功能膜312和衬底100的横截面图。以这种方式，由已喷射到相应区域上的墨液滴310形成具有指定厚度的功能膜312。
[0118]接下来，测量分别在四个区域102、104、106和108中形成的功能膜312的厚度(步骤S10:测量步骤)。使用原子力显微镜(AFM)来实施膜厚度测量。通过使用AFM，可以以原子级别观察膜，且高度精确的测量是可能的。此外，也可以使用椭圆偏光仪。使用椭圆偏光仪可相对容易和精确地测量膜厚度。
[0119]在每个区域中的多个位置处测量膜厚度，且取这些测量值的平均值作为相应区域的膜厚度。
[0120]接下来，创建示出喷射波形的驱动电压、喷射速度和膜厚度之间的对应性的表(步骤 S11)。
[0121]图9是示出在步骤Sll中创建的表500的一个例子的图。表500的第一象限示出喷射波形的驱动电压和液滴的喷射速度之间的关系。
[0122]从步骤S4的测量结果中，可以针对每个喷嘴绘制四个喷射波形402、404、406和408的驱动电压和与每个相应的喷射波形有关的喷射速度。图9示出针对喷嘴nm、喷嘴nm+1和喷嘴IV2绘制的结果的例子。
[0123]对于除了测量点以外的数据，通过从测量点的数据内插或外插来创建表。
[0124]而且，表500的第三象限指示喷射液滴量和所产生的功能膜的膜厚度之间的关系O
[0125]如上所述，在驱动电压V1下执行到衬底100的区域102上、在驱动电压V2下执行到区域104上、在驱动电压V3下执行到区域106上、以及在驱动电压V4下执行到区域108上的液滴喷射。此外，在步骤SlO中，测量相应区域102、104、106和108的功能膜的厚度。因此，确定喷射波形的驱动电压和膜厚度之间的关系。
[0126]此外，可以根据区域102、104、106和108的表面积、每个区域中的功能膜的膜厚度和步骤SI中设定的液滴喷射密度来计算每个区域中的喷射液滴量。因此，确定喷射波形的驱动电压和喷射液滴量之间的关系。
[0127]根据这两个关系，可以绘制膜厚度和喷射液滴量之间的关系。因为液滴喷射密度和膜厚度具有成比例关系，于是可以绘制对应于液滴喷射密度的关系。图9中的例子除了液滴喷射密度D以外还绘制对应于2D的液滴喷射密度的直线和当液滴喷射密度为0.5D时的关系。
[0128]此外，表500中的第二象限示出喷射液滴量和喷射速度之间的关系。
[0129]在第一象限中，可以根据在第一象限中绘制的喷射波形的驱动电压和喷射速度之间的关系以及上面描述的喷射波形的驱动电压和喷射液滴量之间的关系，绘制喷射液滴量和喷射速度之间的关系。
[0130]以这种方式，创建示出喷射波形的驱动电压、喷射速度和膜厚度之间的对应性的表 500。
[0131]接下来，使用该表500计算喷射波形的驱动电压(步骤S12)。在这里，实际纳米压印所需的膜厚度是Itl,且液滴喷射密度是D。
[0132]从表500的第三象限，当所需的膜厚度是Itl和液滴喷射密度是D时的喷射液滴量被发现是Qci。而且，从表500的第二象限,与qd的喷射液滴量有关的喷射速度被发现是V。。
[0133]从表500的第一象限中找到对应于Vtl的喷射速度的每个喷嘴的驱动电压。在图9中的例子中，喷嘴IV nm+1和Iv2的驱动电压分别是\、Vb和\。
[0134]最后，每个喷嘴的驱动电压被设置为在步骤S12计算的驱动电压(步骤S13:校正步骤)。存在用于膜厚度测量的喷射波形的四种类型的驱动电压，即，V1到V4，如图5所示，但在实际纳米压印期间的喷射波形的驱动电压可被设定为任何所需值。
[0135]除了校正喷嘴的驱动电压以外，也可以采用校正液滴喷射密度的模式。
[0136]通过使用以这种方式设定的驱动电压的喷射波形来驱动喷嘴并执行在图1的(a)至Ij(f)中示出的纳米压印，可以实现衬底间的均匀残留膜厚度。
[0137]步骤SI中设置在衬底100上的用于膜厚度测量的液滴喷射布置图案布置成使得从喷墨头300的所有喷嘴喷射的墨液滴包含在一个区域内。因此，可以测量包括喷嘴之间的变化的平均膜厚度。
[0138]当抗蚀剂材料的生产批次改变时，重新创建图9所示的表500。此外，当更换喷墨头时，也重新创建这个表。通过这种方式，无论抗蚀剂材料的批次和喷墨头如何，都可以实现衬底间的均匀膜厚度。
[0139][第二实施例]
[0140]在第一实施例中，液滴从所有喷嘴喷射到一个区域上，但在本实施例中，对于每个喷嘴，液滴喷射到不同的区域上。
[0141]图10是示出与本实施例有关的用于膜厚度测量的衬底(衬底120)和通过喷射功能墨将功能墨液滴布置在衬底120上同时借助于扫描设备(未不出)移动的喷墨头320的不意图。
[0142]32 个区域 122-1、122-2、122-3、122-4、124-1、…、136-3 和 136-4 设置在衬底 120的前表面上，以便对应于下面描述的印模的区域。
[0143]喷墨头320被构成为能够借助于扫描设备(未示出)在衬底120的前表面上执行在X和Y方向上的扫描动作。喷射功能墨的8个喷嘴II1到n8在一个方向上布置在喷墨头320的下表面。
[0144]当喷墨头320在X方向上扫描时，喷嘴II1将墨液滴喷射到区域122-1、122-2,122-3和122-4上。类似地，喷嘴n2将墨液滴喷射到区域124-1到124-4上，喷嘴n3将墨液滴喷射到区域126-1到126-4上，以及喷嘴n8将墨液滴喷射到区域136-1到136-4上。
[0145]此外，喷嘴Ii1到n8被设定到喷射条件，由此，使用图5所示出的喷射波形402，将墨液滴喷射在区域中122-1、124-1、126-1、…和136-1中。类似地，喷射条件被设定成使用喷射波形404将墨液滴喷射在区域中122-2、124-2、126-2、…和136-2中，使用喷射波形406将墨液滴喷射在区域中122-3、124-3、126-3、…和136-3中，以及使用喷射波形408将墨液滴喷射在区域中122-4、124-4、126-4、…和136-4中。
[0146]因此，例如，喷嘴Ii1通过喷射波形402在区域122-1中喷射墨、通过喷射波形404在区域122-2中喷射墨、通过喷射波形406在区域122-3中喷射墨并通过喷射波形408在区域122-4中喷射墨。此外，喷嘴n2通过喷射波形402在区域124-1中喷射墨、通过喷射波形404在区域124-2中喷射墨、通过喷射波形406在区域124-3中喷射墨并通过喷射波形408在区域124-4中喷射墨。
[0147]以这种方式，通过改变喷嘴和喷射波形的驱动电压以矩阵方式在每个区域中喷射墨。与第一实施例类似地，预先测量每个喷嘴的喷射波形的驱动电压和喷射速度之间的关系O
[0148]图11的(a)是示出与本实施例有关的印模220的接触表面的图，图11的(b)是示出在Y方向上的印模220的横截面的图，且图11的(C)是示出在X方向上的印模220的横截面的图。凹槽230形成在印模220的接触表面中，且创建由凹槽230围绕的32个区域222-1、222-2、222-3、222-4、224-1、224-2、…、236-3 和 236-4。
[0149]上面描述的衬底120的区域122-1到136_4被设定为对应于印模220的区域222_1到236-4。换句话说，当印模220的接触表面被设置为与衬底120的前表面相对时，衬底120的区域122-1到136-4和印模220的区域222-1到236-4被设置为分别重叠。
[0150]使用指定的压紧力使印模220的接触表面与布置在衬底120的前表面上的功能墨液滴接触。而且，通过从衬底120的后表面照射紫外光来固化功能墨(功能膜)，且将印模220与固化的功能膜分离。
[0151]图12是示出以这种方式在衬底120的前表面上形成的功能膜312的一个部分的图。如图12所示，通过由形成在印模220上的凹槽230划分分别设置在衬底120上的相应区域来产生功能膜312。
[0152]通过测量相应区域中的功能膜312的膜厚度，为每个喷嘴创建指示喷射波形的驱动电压、喷射速度和膜厚度之间的对应性的表。换句话说，在图9所示的表500中,可以为每个喷嘴确定第三象限中的喷射液滴量和功能膜的厚度之间的关系和第二象限中的喷射液滴量和喷射速度之间的关系。
[0153]以这种方式，根据本实施例，因为可为每个喷嘴创建表，可以校正每个喷嘴的墨喷射量，且可在衬底之间实现均匀的残留膜厚度。
[0154][第三实施例]
[0155]在本实施例中，当实际上实施纳米压印时，通过测量喷射速度来校正喷射量。在这里，第一实施例中的表500被预先创建并存储在诸如存储器的存储设备中。
[0156]图13是示出与本实施例有关的校正喷墨喷射量的方法的流程图。
[0157]首先，基于用于所使用的印模的图案信息来设置液滴喷射布置图案(步骤S21)。在这里使用的印模是用于实际实 施纳米压印的印模而不是用于膜厚度测量的印模。
[0158]接下来，设置喷墨喷射条件(步骤S22)。在这里，应临时设置喷射条件。
[0159]此后，通过相应的喷射波形(驱动电压)从每个喷嘴喷射墨液滴并测量喷射速度(步骤23)。
[0160]因此，根据存储在存储器中的表500确定对应于所需膜厚度(例如Itl)的喷射液滴量(?),且确定对应于这个喷射液滴量的喷射速度(％)。根据驱动电压和在步骤S23中测量的喷射速度之间的关系，计算对应于该喷射电压(％ )的驱动电压。
[0161]通过使用以这种方式规定的驱动电压的喷射波形，将墨喷射到衬底上(步骤S25)。因此，印模被压印到墨所布置的衬底上(步骤S26)，墨被曝光并固化(步骤S27)，且印模被分离(步骤S28)。
[0162]通过以这种方式预先存储表，可以校正每个喷嘴的喷射量，使得可简单地通过预先测量喷射速度来形成适当的膜厚度，且因此可在衬底之间实现均匀的残留膜厚度。
[0163]即使使用同一喷嘴，由于压电元件的劣化等，驱动电压和喷射速度之间的对应性也会随着时间的推移而改变。然而，在每个场合创建根据第一和第二实施例的表500是复杂的。因此，当操作开始或装置的电源被接通等时，应实施根据本实施例的喷射量校正处理。根据本实施例，即使在创建表之后驱动电压和喷射速度之间的对应性改变的情况下，也可以仅仅通过测量喷射速度来适当地校正喷射量。
[0164](纳米压印系统的概述)
[0165]图14是示出在第一到第三实施例中使用的纳米压印系统600的构成的方框图。如图14所示，纳米压印系统600由喷墨头300、控制单元610、速度测量单元620、扫描单元630、接触单元640、紫外光照射单元650、分离单元660、厚度测量单元670、计算单元680、存储器690和控制总线700构成。
[0166]纳米压印系统600总体上由控制单元610控制。控制信号通过控制总线700从控制单元610发送到系统的相应部分。
[0167]在喷墨头300中，喷射功能墨的多个喷嘴在指定方向上以指定间隔布置在下表面。
[0168]速度测量单元620通过例如选通脉冲观察来测量从喷墨头300的喷嘴喷射的墨液滴的喷射速度。
[0169]扫描单元630通过在水平方向上移动喷墨头300来引起喷墨头300和衬底(未在图14中示出)的相对运动。
[0170]控制单元610通过经由扫描单元630在衬底上移动喷墨头300将墨液滴离散地布置在衬底上，同时从喷墨头300的喷嘴喷射功能墨的液滴。在这种情况下，喷嘴的驱动电压被控制为使得喷射量在设置在衬底上的每个区域中是不同的。
[0171]接触单元640使用指定的压紧力使印模(未在图14中示出)与布置在衬底的前表面上的墨液滴接触。
[0172]紫外光照射单元650从衬底的后表面侧照射紫外光，以便固化布置在衬底的前表面上的墨液滴并产生功能膜。如果印模具有透射特性，则紫外光可从衬底的前表面侧照射。
[0173]分离单元660将印模与固化的功能膜分离。分离方法并无特别限制，且可使用一般方法，例如加压分离方法。
[0174]厚度测量单元670是例如椭圆偏光仪，并测量功能膜的厚度(膜厚度)。
[0175]计算单元680基于每个区域中的喷嘴的驱动电压、由速度测量单元620测量的喷射速度和由厚度测量单元670测量的功能膜的厚度来创建指示驱动电压、喷射速度和膜厚度之间的对应性的表。
[0176]存储器690是非易失性存储器，例如闪存。控制单元610将计算单元680创建的表存储在存储器690中。
[0177]根据以这种方式构成的纳米压印系统600，可以创建并存储指示驱动电压、喷射速度和膜厚度之间的对应性的表。在这里，通过提供喷墨头300中的内置存储器690，即使喷墨头300安装在不同的功能墨布置装置(未示出)中，也可以使用存储在存储器690中的表在该功能墨布置装置中实施喷射量校正过程。因此，可以在功能墨布置装置中实现衬底之间的均匀残留膜厚度。
[0178]本发明的技术范围不限于在上面描述的实施例中规定的范围。在相应的实施例中的构成等可在不偏离本发明本质的范围内在相应的实施例之间适当地组合。
[0179]然而，应理解，没有将本发明限制到所公开的特定形式的意图，而是相反，本发明涵盖落在如在所附权利要求中表述的本发明的精神和范围内的所有修改、可选的结构和等效形式。
[0180]参考符号列表
[0181]10:石英衬底;12、300:喷墨头；14:液滴；16:印模；18:光可固化树脂膜；100、120:用于膜厚度测量的衬底(衬底)；102、104、106、108:区域；200、220:用于膜厚度测量的印模;210、230:凹槽；310:功能墨液滴；312:功能墨;402、404、406、408:喷射波形；410: 喷射波形输出单元；500:表；600:纳米压印系统
【权利要求】
1.一种用于喷墨头的喷射量校正方法，包括: 布置步骤，喷射功能墨作为来自喷墨头的喷嘴的墨液滴以便将所述墨液滴离散地布置在衬底的前表面上； 接触步骤，通过使印模接触布置在所述衬底的所述前表面上的所述墨液滴来将所述功能墨填充在所述印模和所述衬底之间； 固化步骤，固化所填充的功能墨以便产生功能膜； 分离步骤，将所述印模与所述功能膜分离； 测量步骤，测量所述功能膜的厚度；以及 校正步骤，基于所测量的厚度来校正来自所述喷嘴的喷射量。
2.如权利要求1所述的用于喷墨头的喷射量校正方法， 其中，在所述布置步骤中，通过改变在所述衬底的所述前表面上的每个指定区域中的来自所述喷嘴的所述喷射量来布置所述墨液滴，以及 在所述测量步骤中，在每个所述区域中测量所述功能膜的厚度。
3.如权利要求2所述的用于喷墨头的喷射量校正方法， 其中，所述印模的与所 述墨液滴接触的表面具有由图案形成的多个区域，以及在所述布置步骤中，通过改变在与由所述图案形成的所述多个区域相对应的相应区域中的来自所述喷嘴的所述喷射量来布置所述墨液滴。
4.如权利要求3所述的用于喷墨头的喷射量校正方法，其中由所述图案形成的所述多个区域是由在与所述墨液滴接触的所述印模的表面中形成的凹槽围绕的区域。
5.如权利要求3所述的用于喷墨头的喷射量校正方法，其中，由所述图案形成的所述多个区域是由亲液和排斥图案形成的区域，所述亲液和排斥图案形成在所述印模的与所述墨液滴接触的所述表面上。
6.如权利要求2到5中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法， 其中，通过在所述布置步骤中改变所述喷嘴的驱动电压来改变来自所述喷嘴的所述喷射量，以及 在所述校正步骤中校正所述喷嘴的所述驱动电压。
7.如权利要求2到6中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法，其中在所述布置步骤中，从所有所述喷嘴喷射的墨液滴布置在所述衬底的所述前表面上的与所述多个区域相对应的所述区域中的每个区域中。
8.如权利要求2到7中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法， 其中，在所述布置步骤中，从不同喷嘴喷射的墨液滴布置在所述衬底的所述前表面上的与所述多个区域相对应的所述区域中的每个区域中，以及 在所述校正步骤中，基于所测量的厚度，针对每个所述喷嘴校正所述喷射量。
9.如权利要求1到8中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法， 其中，多个嗔嘴在指定方向上以指定间隔布直在所述嗔墨头中，以及 在所述布置步骤中，以比所述指定间隔短的间隔布置所述墨液滴。
10.如权利要求1到9中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法， 其中，在所述布置步骤中，所述墨液滴布置成使所述墨液滴之间的间隔大于所述墨液滴的直径。
11.如权利要求1到10中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法，还包括: 速度测量步骤，测量从所述喷嘴喷射的所述墨液滴的喷射速度；以及 存储步骤，将所测量的喷射速度和所测量的厚度之间的关系存储在存储器中， 其中，在所述校正步骤中，基于所测量的喷射速度来校正来自所述喷嘴的所述喷射量。
12.如权利要求1到11中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法，其中，在所述测量步骤中使用原子力显微镜来测量所述功能膜的所述厚度。
13.如权利要求1到11中的任一项所述的用于喷墨头的喷射量校正方法，其中，在所述测量步骤中使用椭圆偏光仪来测量所述功能膜的所述厚度。
14.一种纳米压印系统，包括: 喷墨头，从喷嘴朝向衬底喷射功能墨作为墨液滴； 扫描设备，引起所述衬底与所述喷墨头的相对移动； 布置设备，通过以指定条件从所述喷墨头的所述喷嘴喷射所述墨液滴，同时通过所述扫描设备相对地移动所述衬底和所述喷墨头，来将所述墨液滴离散地布置在所述衬底上；接触设备，通过使印模接触布置在所述衬底的前表面上的所述墨液滴来将所述功能墨填充在所述印模和所述衬底之间； 固化设备，固化 所填充的功能墨以便产生功能膜； 分离设备，将所述印模与所述功能膜分离； 测量设备，测量所述功能膜的厚度；以及 校正设备，基于所测量的厚度来校正来自所述喷嘴的喷射量。
15.一种功能墨布置装置，包括: 喷墨头，从喷嘴朝向衬底喷射功能墨作为墨液滴； 扫描设备，引起所述衬底与所述喷墨头的相对移动； 布置设备，通过以指定条件从所述喷墨头的所述喷嘴喷射所述墨液滴，同时通过所述扫描设备相对地移动所述衬底和所述喷墨头，来将所述墨液滴离散地布置在所述衬底上，并且通过改变在所述衬底的前表面上的每个指定区域中的来自所述喷嘴的喷射量来布置所述墨液滴；以及 校正设备，通过基于存储在存储设备中的关系表校正所述指定条件来校正来自所述喷嘴的所述喷射量。
16.一种用于喷墨头的喷射量校正装置，包括: 获取设备，获取在指定的纳米压印系统中产生的功能膜的厚度； 计算设备，计算所获取的厚度和用以从在所述指定的纳米压印系统中的喷墨头的喷嘴喷射墨液滴的指定条件之间的关系表；以及存储设备，存储所计算的关系表， 其中，所述指定的纳米压印系统包括:所述嗔墨头，从所述嗔嘴朝向衬底嗔射功能墨作为所述墨液滴；扫描设备，引起所述衬底与所述喷墨头的相对移动；布置设备，通过以所述指定条件从所述喷墨头的所述喷嘴喷射所述墨液滴，同时通过所述扫描设备相对地移动所述衬底和所述喷墨头，来将所述墨液滴离散地布置在所述衬底上，并且通过改变在所述衬底的前表面上的每个指定区域中的来自所述喷嘴的喷射量来布置所述墨液滴；接触设备，通过使印模接触布置在所述衬底的所述前表面上的所述墨液滴来将所述功能墨填充在所述印模和所述衬底之间；固化设备，固化所填充的功能墨以便产生所述功能膜；以及分离设备，将所述 印模与所述功能膜分离。
【文档编号】H01L21/027GK103797561SQ201280044806
【公开日】2014年5月14日 申请日期:2012年9月13日 优先权日:2011年9月15日
【发明者】儿玉宪一, 大松祯 申请人:富士胶片株式会社