一种对位标记的制作方法及基板的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种对位标记的制作方法及基板，所述方法包括：在基板的第一表面形成第一对位标记，并以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，其中，所述第一对位标记由不透光材料所形成。在本方案中，由于可将在基板一侧形成的对位标记作为相应的掩膜，将基板另一侧的图形图案化，从而实现了在基板上下表面制作双面对位标记，使得基板上下表面的图形能够精确对位的目的，在未增加掩模工艺的基础上，达到了提高产品良率及性能以及降低成本的效果。
【专利说明】一种对位标记的制作方法及基板
【技术领域】
[0001]本发明涉及对位标记制作领域，尤其涉及一种对位标记的制作方法及具备相应对位标记的基板。
【背景技术】
[0002]随着触控面板技术以及3D显示技术的不断发展，在显示装置相应衬底基板的上下表面均进行图案化的需求越来越高。例如，在On Cell Touch(外挂在显示面板之外的触控面板)以及3D Barrier on Cell (光屏障式3D面板)等领域,均需要在相应衬底基板的上下表面进行图案化，以实现特定的触控功能或显示效果。
[0003]但是，由于在现有技术中，通常是采用粗对位(如Glass边缘对位，即在玻璃基板等衬底基板的边缘进行对位)的方式来对衬底基板的上下表面进行相应的图案化的，导致其所形成的图案精度并不高，并不能够适用于对显示分辨率以及显示性能要求相对较高的显示装置等显示产品中，因此，亟需提供一种能够在衬底基板上下表面实现精确对位的双面对位标记的制作方法，以解决目前存在的采用粗对位的方式进行衬底基板上下表面的图案化时，导致显示装置等显示产品的显示分辨率并不高、进而降低显示产品的产品性能的问题。
【发明内容】
[0004]本发明实施例提供了一种对位标记的制作方法及基板，以解决目前存在的采用粗对位的方式进行基板双面图案化时，导致显示装置的显示分辨率以及显示性能并不高的问题。
[0005]本发明实施例提供了一种对位标记的制作方法，包括:
[0006]在基板的第一表面形成第一对位标记；并
[0007]以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记；
[0008]其中，所述第一对位标记由不透光材料所形成。
[0009]在本发明实施例所述技术方案中，由于可将在基板一侧形成的对位标记作为相应的掩膜，将基板另一侧的图形图案化，从而实现了在基板上下表面制作双面对位标记，使得基板上下表面的图形能够精确对位的目的，在未增加掩|旲工艺的基础上，达到了提闻广品良率及性能以及降低成本的效果。
[0010]进一步地，所述第一对位标记以及所述第二对位标记分别包括至少一个对位子标记；
[0011]所述第二对位标记与所述第一对位标记相互对应、且所述第二对位标记所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内，是指:
[0012]所述第二对位标记的对位子标记分别与所述第一对位标记的对位子标记一一对应，且所述第二对位标记的对位子标记所对应的水平投影区域分别位于所述第一对位标记的对位子标记所对应的水平投影区域之内。
[0013]进一步地，所述不透光材料为金属材料。
[0014]进一步地，在所述基板的第一表面形成第一对位标记，包括:
[0015]在所述基板的第一表面形成由所述不透光材料所形成的遮光层，并在所述遮光层之上形成第一光刻胶涂层；
[0016]对所述第一光刻胶涂层进行曝光、显影操作，得到具备特定图案结构的第一光刻胶涂层；
[0017]对覆盖有所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层的所述遮光层进行刻蚀操作，并在刻蚀操作之后，剥离所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层，得到相应的具备特定图案结构的遮光层，并将所述具备特定图案结构的遮光层作为所述第一对位标记。
[0018]进一步地，所述第一光刻胶涂层为正型光刻胶涂层或负型光刻胶涂层。
[0019]进一步地，在所述基板的第一表面形成第一对位标记之前，所述方法还包括:
[0020]在所述基板的第二表面形成第二光刻胶涂层，其中，所述第二光刻胶涂层为负型光刻胶涂层；
[0021]以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，包括:
[0022]对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作；并
[0023]在曝光操作之后，对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作，得到具备特定图案结构的第二光刻胶涂层；
[0024]在覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的所述基板的第二表面形成对位材料层；
[0025]剥离所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层，得到相应的具备特定图案结构的对位材料层，并将所述具备特定图案结构的对位材料层作为所述第二对位标记。
[0026]进一步地，所述对位材料层由不透光材料或透光材料所形成。也就是说，在本发明实施例所述技术方案中，在所述基板的上下表面所形成的第一对位标记与所述第二对位标记可均为不透光对位标记，也可分别为不透光对位标记和透光对位标记，以达到提高对位标记的组合灵活性的目的。
[0027]进一步地,所述透光材料为无机材料。
[0028]进一步地，在所述基板的第二表面形成第二光刻胶涂层之前，所述方法还包括:
[0029]在所述基板的第二表面形成保护层，所述保护层由透光材料所形成；
[0030]以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，包括:
[0031]对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作；并
[0032]在曝光操作之后，对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作，得到具备特定图案结构的第二光刻胶涂层；
[0033]对覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的保护层进行刻蚀操作，并形成过刻；之后，
[0034]在覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的所述基板的第二表面形成对位材料层；
[0035]剥离所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层，并刻蚀剩余的保护层，得到相应的具备特定图案结构的对位材料层，并将所述具备特定图案结构的对位材料层作为所述第二对位标记。
[0036]进一步地，为了便于取材，所述基板通常为玻璃基板。
[0037]进一步地，本发明实施例还提供了一种基板，所述基板的上下表面形成有利用本发明实施例中所述的对位标记制作方法所形成的第一对位标记以及第二对位标记。
[0038]本发明有益效果如下:
[0039]本发明实施例提供了一种对位标记的制作方法及具备相应对位标记的基板，所述方法包括:在基板的第一表面形成第一对位标记，并以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，其中，所述第一对位标记由不透光材料所形成。在本发明实施例所述技术方案中，由于可将在基板一侧形成的对位标记作为相应的掩膜，将基板另一侧的图形图案化，从而实现了在基板上下表面制作双面对位标记，使得基板上下表面的图形能够精确对位的目的，在未增加掩模工艺的基础上，达到了提高产品良率及性能以及降低成本的效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0040]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0041]图1所示为本发明实施例一中所述对位标记的制作方法的流程示意图；
[0042]图2所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法的流程示意图；
[0043]图3 (a)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图
[0044]图3 (b)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图-* ;
[0045]图3 (C)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图
[0046]图3 (d)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图四；
[0047]图3 (e)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图五；
[0048]图3 (f)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图六；
[0049]图3 (g)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图七；
[0050]图3 (h)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图八；
[0051]图3 (i)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图九；
[0052]图3 (j)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图十;
[0053]图3 (k)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图1^一 ；
[0054]图3 (I)所示为本发明实施例二中所述对位标记的制作方法所对应的工艺示意图十二。
【具体实施方式】
[0055]本发明实施例提供了一种对位标记的制作方法及具备相应对位标记的基板，所述方法包括:在基板的第一表面形成第一对位标记，并以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，其中，所述第一对位标记由不透光材料所形成。在本发明实施例所述技术方案中，由于可将在基板一侧形成的对位标记作为相应的掩膜，将基板另一侧的图形图案化，从而实现了在基板上下表面制作双面对位标记，使得基板上下表面的图形能够精确对位的目的，在未增加掩模工艺的基础上，达到了提高产品良率及性能以及降低成本的效果。
[0056]为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0057]实施例一:
[0058]如图1所示，其为本发明实施例一中所述对位标记的制作方法，所述制作方法具体可包括以下步骤:
[0059]步骤101:在基板的第一表面形成第一对位标记，其中，所述第一对位标记由不透光材料所形成。
[0060]具体地，在本发明所述实施例中，如无特殊说明，所述基板通常指的是透明基板。进一步地，为了便于取材，所述基板通常可选取为玻璃基板；当然需要说明的是，所述基板还可以选取为陶瓷基板或塑料基板等，本发明实施例对此不作任何限定。
[0061]进一步地，在本发明所述实施例中，在所述基板的第一表面形成所述第一对位标记，可包括以下步骤:
[0062]S1:在所述基板的第一表面形成由不透光材料所形成的遮光层，并在所述遮光层之上形成第一光刻胶涂层；
[0063]具体地,可采用PVD (Physical Vapor Deposition,物理气相沉积)等方法在所述基板的第一表面之上形成由所述不透光材料所形成的遮光层，本发明实施例对此不作赘述。其中，所述不透光材料(即所述遮光层)通常可以为金属材料，如可以为铝层、钨层、铬层或其他金属及金属化合物导电层等，本发明实施例对此不作任何限定。
[0064]进一步地，可采用物理涂敷的方式在所述遮光层之上形成所述第一光刻胶涂层，本发明实施例对此也不作赘述。其中，所述第一光刻胶涂层可以为正型光刻胶涂层或负型光刻胶涂层等，本发明实施例对此也不作任何限定。
[0065]S2:对所述第一光刻胶涂层进行曝光、显影等操作，得到具备特定图案结构的第一光刻胶涂层；
[0066]S3:对覆盖有所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层的所述遮光层进行刻蚀操作，并在刻蚀操作之后，剥离所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层，得到相应的具备特定图案结构的遮光层，并将所述具备特定图案结构的遮光层作为所述第一对位标记。
[0067]需要说明的是，在本发明所述实施例中，所形成的所述第一对位标记可包括至少一个对位子标记，本发明实施例对此不作任何限定。
[0068]步骤102:以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记。
[0069]也就是说，在本发明所述实施例中，可将在基板一侧形成的对位标记作为相应的掩膜，将基板另一侧的图形图案化，从而实现了在基板上下表面制作双面对位标记，使得基板上下表面的图形能够精确对位的目的，在未增加掩|旲工艺的基础上，达到了提闻广品良率及性能以及降低成本的效果。
[0070]需要说明的是，在本发明所述实施例中，由于所形成的所述第一对位标记可包括至少一个对位子标记，因此，在以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应的第二对位标记时，所形成的所述第二对位标记也可包括至少一个对位子标记，本发明实施例对此也不作任何限定。
[0071]相应地，所述第二对位标记与所述第一对位标记相互对应、且所述第二对位标记所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内，可以是指:所述第二对位标记的对位子标记分别与所述第一对位标记的对位子标记一一对应，且所述第二对位标记的对位子标记所对应的水平投影区域分别位于所述第一对位标记的对位子标记所对应的水平投影区域之内。
[0072]再有需要说明的是，所形成的第二对位标记(或第二对位标记的对位子标记)的大小通常可小于与其相对应的第一对位标记(或第一对位标记的对位子标记)的大小，即所形成的第二对位标记(或第二对位标记的对位子标记)所对应的水平投影区域的面积通常小于与其相对应的第一对位标记(或第一对位标记的对位子标记)所对应的水平投影区域的面积，本发明实施例对此不作赘述。
[0073]进一步地，在本发明所述实施例中，在所述基板的第一表面形成所述第一对位标记之前，所述方法通常还可以包括以下步骤:
[0074]在所述基板的第二表面形成第二光刻胶涂层，其中，所述第二光刻胶涂层为负型光刻胶涂层；
[0075]相应地，以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，可包括以下步骤:
[0076]S1:对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作；
[0077]S2:在对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作之后，对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作，得到具备特定图案结构的第二光刻胶涂层；
[0078]S3:在覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的所述基板的第二表面形成对位材料层；
[0079]其中，所述对位材料层可由不透光材料或透光材料所形成，本发明实施例对此不作任何限定。具体地，所述不透光材料通常可以为金属材料，如可以为铝层、钨层、铬层或其他金属及金属化合物导电层等；所述透光材料通常可为无机材料等，本发明实施例对此也不作任何限定。
[0080]S4:剥离所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层，得到相应的具备特定图案结构的对位材料层，并将所述具备特定图案结构的对位材料层作为所述第二对位标记。
[0081]需要说明的是，在本发明所述实施例中，在所述基板的第二表面形成第二光刻胶涂层之后，通常还可以对其进行相应的前烘操作，以增加膜胶与基板表面的粘附性，本发明实施例对此不作赘述。
[0082]进一步地，在本发明所述实施例中，在所述基板的第二表面形成所述第二光刻胶涂层之前，所述方法通常还可以包括以下步骤:
[0083]在所述基板的第二表面形成保护层，所述保护层由透光材料所形成；其中，所述透光材料通常可为无机材料等，本发明实施例对此不作任何限定。相应地，此时，所述第二光刻胶涂层通常可形成在所述保护层之上，本发明实施例对此不作赘述。
[0084]进一步地，以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，可包括以下步骤:
[0085]S1:对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作；
[0086]S2:在对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作之后，对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作，得到具备特定图案结构的第二光刻胶涂层；
[0087]S3:对覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的保护层进行刻蚀操作，并形成过刻(udercut)；
[0088]S4:在覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的所述基板的第二表面形成对位材料层；
[0089]S5:剥离所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层，并刻蚀剩余的保护层，得到相应的具备特定图案结构的对位材料层，并将所述具备特定图案结构的对位材料层作为所述第二对位标记。
[0090]需要说明的是，在本发明所述实施例中，在进行对位标记的制作时，可根据实际情况，对所述基板进行相应的翻面操作，如在所述基板的第二表面形成第二光刻胶涂层之后，可将所述基板进行翻面，以便更加方便地在所述基板的第一表面制作所述第一对位标记；或在所述基板的第一表面形成所述第一对位标记、且对形成有所述第一对位标记的基板的第一表面进行曝光操作之后，可将所述基板再次进行翻面，以便更加方便地对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作等，本发明实施例对此不再赘述。
[0091]进一步地，本发明实施例一还提供了一种可适用于各种显示装置，如液晶显示面板、电子纸、OLED (Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具备显示功能的产品或部件中的基板，其中，所述基板的上下表面形成有利用本发明实施例中所述的对位标记制作方法所形成的第一对位标记以及第二对位标记，本发明实施例对此不再赘述。
[0092]本发明实施例一提供了一种对位标记的制作方法及具备相应对位标记的基板，在本发明实施例所述技术方案中，由于可将在基板一侧形成的对位标记作为相应的掩膜，将基板另一侧的图形图案化，从而实现了在基板上下表面制作双面对位标记，使得基板上下表面的图形能够精确对位的目的，在未增加掩模工艺的基础上，达到了提高产品良率及性能以及降低成本的效果。
[0093]实施例二:
[0094]下面结合图2、图3 (a)?图3 (I)对本发明实施例一中所述对位标记的制作方法进行进一步地说明。具体地，在本发明所述实施例二中，假设所形成的第一对位标记以及第二对位标记均包括一个对位子标记。
[0095]具体地,如图2所示,所述对位标记的制作方法可包括以下步骤:
[0096]步骤201:在基板的第二表面形成保护层，所述保护层由透光材料所形成；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (a)所示。
[0097]具体地,可采用CVD (Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)等方法在所述基板的第二表面之上形成所述保护层，本发明实施例对此不作赘述。其中，所述透光材料(即所述保护层)通常可为无机材料等，本发明实施例对此不作任何限定。
[0098]步骤202:在所述保护层之上形成第二光刻胶涂层，其中，所述第二光刻胶涂层为负型光刻胶涂层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (b)所示。
[0099]需要说明的是，在本发明所述实施例中，在所述保护层之上形成第二光刻胶涂层之后，通常还可以对其进行相应的前烘操作，以增加膜胶与相应保护层表面的粘附性，本发明实施例对此不作赘述。
[0100]步骤203:将所述基板进行翻面，并在所述基板的第一表面形成由不透光材料所形成的遮光层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (c)所示。
[0101]具体地，可采用PVD等方法在所述基板的第一表面之上形成由所述不透光材料所形成的遮光层，本发明实施例对此不作赘述。其中，所述不透光材料(即所述遮光层)通常可以为金属材料，如可以为铝层、钨层、铬层或其他金属及金属化合物导电层等，本发明实施例对此不作任何限定。
[0102]步骤204:在所述遮光层之上形成第一光刻胶涂层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 Cd)所示。
[0103]其中，所述第一光刻胶涂层可为正型光刻胶涂层或负型光刻胶涂层等，本发明实施例对此也不作任何限定。并且，需要说明的是，在本发明所述实施例中，在所述遮光层之上形成第一光刻胶涂层之后，通常还可以对其进行相应的前烘操作，以增加膜胶与相应遮光层表面的粘附性，本发明实施例对此不作赘述。[0104]步骤205:对所述第一光刻胶涂层进行曝光、显影等操作，得到具备特定图案结构的第一光刻胶涂层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (e)所示。
[0105]具体地，由于在本发明所述实施例二中，假设即将形成的第一对位标记以及第二对位标记均包括一个对位子标记，因此，在采用相应的掩膜板对所述第一光刻胶涂层进行曝光时，可采用能形成一个对位标记的掩膜板，因此，此时，在经过曝光、显影等操作之后，所得到第一光刻胶涂层可具备一个特定的图案结构，即可如图3 (e)所示，本发明实施例对此不作赘述。
[0106]步骤206:对覆盖有所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层的所述遮光层进行刻蚀操作，得到相应的覆盖有所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层的、具备特定图案结构的遮光层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (f)所示。
[0107]具体地，在本发明所述实施例中，由于所述遮光层通常可为金属材料层，因此，通常可采用干法刻蚀的方式对所述遮光层进行相应的刻蚀操作，本发明实施例对此不作赘述。
[0108]步骤207:剥离所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层，得到相应的具备特定图案结构的遮光层，并将所述具备特定图案结构的遮光层作为所述第一对位标记；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (g)所示。
[0109]步骤208:对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作，并将所述基板进行翻面，以及，对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作，得到具备特定图案结构的第二光刻胶涂层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (h)所
/Jn ο
[0110]步骤209:对覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的保护层进行刻蚀操作，并形成过刻；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (i)所示。
[0111]具体地，可采用干法刻蚀或湿法刻蚀的方式对所述保护层进行相应的刻蚀操作，本发明实施例对此不作赘述。
[0112]步骤210:在覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的所述基板的第二表面形成对位材料层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (j)所示。
[0113]其中，所述对位材料层可由不透光材料或透光材料所形成，本发明实施例对此不作任何限定。具体地，所述不透光材料通常可以为金属材料，如可以为铝层、钨层、铬层或其他金属及金属化合物导电层等；所述透光材料通常可为无机材料等，本发明实施例对此也不作任何限定。
[0114]步骤211:剥离所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层，得到未被刻蚀掉的剩余保护层以及具备特定图案结构的对位材料层；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (k)所
/Jn ο
[0115]步骤212:刻蚀剩余的保护层，得到相应的具备特定图案结构的对位材料层，并将所述具备特定图案结构的对位材料层作为所述第二对位标记；此时，所对应的工艺示意图可如图3 (I)所示。
[0116]至此，即可在所述基板上形成能够精确对位的双面对位标记。
[0117]本发明实施例二提供了一种对位标记的制作方法，在本发明实施例所述技术方案中，由于可将在基板一侧形成的对位标记作为相应的掩膜，将基板另一侧的图形图案化，从而实现了在基板上下表面制作双面对位标记，使得基板上下表面的图形能够精确对位的目的，在未增加掩模工艺的基础上，达到了提高产品良率及性能以及降低成本的效果。
[0118]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种对位标记的制作方法，其特征在于，包括: 在基板的第一表面形成第一对位标记；并 以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记； 其中，所述第一对位标记由不透光材料所形成。
2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于， 所述第一对位标记以及所述第二对位标记分别包括至少一个对位子标记； 所述第二对位标记与所述第一对位标记相互对应、且所述第二对位标记所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内，是指: 所述第二对位标记的对位子标记分别与所述第一对位标记的对位子标记一一对应，且所述第二对位标记的对位子标记所对应的水平投影区域分别位于所述第一对位标记的对位子标记所对应的水平投影区域之内。
3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于， 所述不透光材料为金属材料。
4.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述基板的第一表面形成第一对位标记，包括: 在所述基板的第一表面形成由所述不透光材料所形成的遮光层，并在所述遮光层之上形成第一光刻胶涂层； 对所述第一光刻胶涂层进行曝光、显影操作，得到具备特定图案结构的第一光刻胶涂层； 对覆盖有所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层的所述遮光层进行刻蚀操作，并在刻蚀操作之后，剥离所述具备特定图案结构的第一光刻胶涂层，得到相应的具备特定图案结构的遮光层，并将所述具备特定图案结构的遮光层作为所述第一对位标记。
5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于， 所述第一光刻胶涂层为正型光刻胶涂层或负型光刻胶涂层。
6.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，在所述基板的第一表面形成第一对位标记之前，所述方法还包括: 在所述基板的第二表面形成第二光刻胶涂层，其中，所述第二光刻胶涂层为负型光刻胶涂层； 以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，包括: 对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作；并在曝光操作之后，对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作，得到具备特定图案结构的第二光刻胶涂层； 在覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的所述基板的第二表面形成对位材料层； 剥离所述具备特定图案结构的 第二光刻胶涂层，得到相应的具备特定图案结构的对位材料层，并将所述具备特定图案结构的对位材料层作为所述第二对位标记。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于， 所述对位材料层由不透光材料或透光材料所形成。
8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于， 所述透光材料为无机材料。
9.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，在所述基板的第二表面形成第二光刻胶涂层之前，所述方法还包括: 在所述基板的第二表面形成保护层，所述保护层由透光材料所形成； 以所述第一对位标记为掩膜，在所述基板的第二表面形成与所述第一对位标记相互对应、且所对应的水平投影区域位于所述第一对位标记所对应的水平投影区域之内的第二对位标记，包括: 对形成有所述第一对位标记的所述基板的第一表面进行曝光操作；并 在曝光操作之后，对形成在所述基板的第二表面的第二光刻胶涂层进行显影操作，得到具备特定图案结构的第二光刻胶涂层； 对覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的保护层进行刻蚀操作，并形成过刻；之后， 在覆盖有所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层的所述基板的第二表面形成对位材料层； 剥离所述具备特定图案结构的第二光刻胶涂层，并刻蚀剩余的保护层，得到相应的具备特定图案结构的对位材料层，并将所述具备特定图案结构的对位材料层作为所述第二对位标记。
10.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于， 所述基板为玻璃基板。
11.一种基板，其特征在于，所述基板的上下表面形成有利用权利要求1~10任一所述的方法所形成的第一对位标记以及第二对位标记。
【文档编号】H01L23/544GK103839923SQ201410065169
【公开日】2014年6月4日 申请日期:2014年2月25日 优先权日:2014年2月25日
【发明者】舒适, 周春苗, 徐传祥, 张锋 申请人:京东方科技集团股份有限公司