薄膜形成方法及薄膜形成装置制造方法
【专利摘要】本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置，所述薄膜形成方法中，即使基板的表面为憎液性，也能够使薄膜材料覆盖应涂布的区域的整个区域。本发明的薄膜形成方法中，在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜。通过在第1膜上涂布液状的薄膜材料，来形成液状的第2膜。在形成第2膜之后，照射光而使第2膜固化。
【专利说明】薄膜形成方法及薄膜形成装置
[0001]本申请主张基于2013年7月25日申请的日本专利申请第2013-154082号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。
【技术领域】
[0002]本发明涉及一种将液状的薄膜材料涂布在基板后，通过使其固化来形成薄膜的薄膜形成方法及薄膜形成装置。
【背景技术】
[0003]通过在I张封装基板搭载多个半导体芯片，能够实现半导体装置的小型化、高性能化。在专利文献I中公开有在封装基板搭载电子组件的技术。以下，对专利文献I中公开的电子组件的搭载方法进行说明。
[0004]在封装基板的搭载电子组件的区域使用液滴吐出头涂布粘结剂。通过向涂布在封装基板的液状的粘结剂照射紫外线，使粘结剂半固化。通过在半固化的粘结剂上搭载电子组件并进行加热，使粘结剂固化。由此，将电子组件通过粘结剂粘结于封装基板。
[0005]专利文献1:日本特开2008-117997号公报
[0006]当封装基板的表面为憎液性时，若在表面涂布液状的粘结剂，则粘结剂会集合在一部分区域中。因此，难以用粘结剂覆盖应涂布粘结剂的区域的整个区域。若在搭载电子组件的区域中存在未被粘结剂覆盖的区域，则导致电子组件的粘结强度下降。若在封装基板与电子组件之间，形成有锁住空气的空洞，则有时因空气的热膨胀导致电子组件从封装基板脱落。
【发明内容】
[0007]本发明的目的在于提供一种即使基板的表面为憎液性，也能够使薄膜材料覆盖应涂布的区域的整个区域的薄膜形成方法及薄膜形成装置。
[0008]根据本发明的一观点，提供一种薄膜形成方法，其具有:
[0009]在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向所述表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在所述表面的应涂布薄膜材料的区域形成第I膜的工序；
[0010]通过在所述第I膜上涂布液状的所述薄膜材料，形成液状的第2膜的工序；及
[0011]在形成所述第2膜之后，照射光而使所述第2膜固化的工序。
[0012]根据本发明的另一观点，提供一种薄膜形成装置，其具有:
[0013]载物台，保持基板；
[0014]喷嘴头，具有朝向保持于所述载物台的基板吐出光固化性的液状的薄膜材料的多个喷嘴孔；
[0015]移动机构，使所述基板和所述喷嘴头中的一个相对于另一个移动；
[0016]光源，向附着于保持在所述载物台的基板的液状的所述薄膜材料照射固化用光；及
[0017]控制装置，控制所述喷嘴头、所述光源及所述移动机构，
[0018]所述控制装置中，
[0019]一边使所述喷嘴头及所述基板中的一个相对于另一个移动，一边从所述喷嘴头吐出液状的薄膜材料而使液状的薄膜材料附着于所述基板的一部分区域，并且从所述光源向附着于所述基板的液状的所述薄膜材料照射固化用光，从而使所述薄膜材料固化，由此形成第I膜，
[0020]在形成所述第I膜之后，一边使所述喷嘴头及所述基板中的一个相对于另一个移动，一边从所述喷嘴头吐出液状的所述薄膜材料而使液状的所述薄膜材料附着于所述第I膜上，从而形成液状的第2膜，
[0021]在形成所述第2膜之后，向所述第2膜照射固化用光，从而使所述第2膜固化。
[0022]在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向所述表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在着落后能够在短时间内使薄膜材料固化。因此，即使表面为憎液性，也能够在薄膜材料集合在一部分的区域之前，使薄膜材料固化。由固化的薄膜材料构成的第I膜的表面显示亲液性或比憎液性的表面更弱的憎液性。因此，在第I膜上进一步涂布薄膜材料时，能够容易使薄膜材料覆盖第I膜的表面的整个区域。
【专利附图】
【附图说明】
[0023]图1是实施例的薄膜形成装置的涂布站的示意图。
[0024]图2A是喷嘴单元的立体图，图2B是喷嘴单元的仰视图。
[0025]图3A是使用实施例的薄膜形成装置而制作的半导体元件的俯视图，图3B是图3A的单点划线3B-3B中的剖视图。
[0026]图4是实施例的薄膜形成装置的载物台及喷嘴单元的俯视图。
[0027]图5是实施例的薄膜形成装置整体的示意图。
[0028]图6A及图6B是通过实施例的薄膜形成方法形成薄膜的中途阶段的喷嘴单元及基板的示意侧视图。
[0029]图6C是通过实施例的薄膜形成方法形成薄膜的中途阶段的喷嘴单元及基板的示意侧视图，图6D是形成有第I膜的基板的剖视图。
[0030]图6E是通过实施例的薄膜形成方法形成薄膜的中途阶段的喷嘴单元及基板的示意侧视图，图6F是形成有第I膜及液状的第2膜的基板的剖视图，图6G是使第2膜固化时的固化用光源及基板的侧视图。
[0031]图7A是利用比较例的方法使薄膜材料着落时的刚着落之后的基板的剖视图，图7B是待机到薄膜材料的表面平坦化之后的基板的剖视图。
[0032]图中:10_底板，11-移动机构，12-载物台，13-喷嘴单元，14-摄像机，20-控制装置，30-支承板，31-喷嘴头，32-固化用光源，33-喷嘴孔，50-基板(封装基板)，51-粘结剂层，52-第I半导体芯片，53-粘结剂层，54-第2半导体芯片，55-金属线，58-涂布区域，60-搬入站,61-临时定位站,62-涂布站,63-固化站,64-输送装置,65-第I输送棍,66-第2输送辊，67-挡块，68-固化用光源，70-导向件，71、72-升降机，80-薄膜材料，81-第I膜， 82-第2膜。
【具体实施方式】
[0033]图1表示实施例的薄膜形成装置的涂布站的示意图。在底板10上经由移动机构
11支承有载物台12。载物台12保持作为形成薄膜的对象的基板50。定义将平行于基板50表面的面设为xy面，并将基板50的表面的法线方向设为z方向的xyz直角坐标系。在载物台12的上方支承有喷嘴单元13及摄像机14。移动机构11使基板50及喷嘴单元13中的一个相对于另一个沿X方向及I方向移动。图1中，表不使喷嘴单兀13相对于底板10静止，并使基板50移动的结构，但相反也可以是使基板50静止，并使喷嘴单元13移动的结构。
[0034]喷嘴单元13具有与基板50对置的喷嘴头。使光固化性的液状的薄膜材料液滴化并从形成于喷嘴头的多个喷嘴孔朝向基板50吐出。从喷嘴孔吐出薄膜材料的时间通过控制装置20来控制。在基板50的表面形成粘结剂层时，例如使用液状的粘结剂作为液状的薄膜材料。摄像机14拍摄形成于基板50的对准标记，并将图像数据发送到控制装置20。
[0035]图2A中示出喷嘴单元13的立体图，图2B中示出喷嘴单元13的仰视图。在支承板30安装有2个喷嘴头31及3个固化用光源32。2个喷嘴头31沿y方向并排配置。在
2个喷嘴头31之间及喷嘴头31外侧分别配置有固化用光源32。若着眼于I个喷嘴头31，则在喷嘴头31的y方向的正侧及负侧分别配置有固化用光源32。
[0036]在各个喷嘴头31形成有沿X方向等间隔排列的多个喷嘴孔33。在图2A及图2B中，示出各个喷嘴头31的多个喷嘴孔33排列成2列的例子。2个喷嘴头31相互沿x方向错开固定。形成于2个喷嘴头31的4列喷嘴孔33整体沿X方向等间隔排列。
[0037]固化用光源32向涂布在基板50(图1)的液状的薄膜材料照射固化用光。例如，若一边使基板50 (图1)沿y方向移动，一边从喷嘴头31吐出薄膜材料，则涂布在基板50的薄膜材料通过来自配置在比吐出薄膜材料的喷嘴头31更靠下游侧的固化用光源32的光被固化。
[0038]在图2A及图2B中，虽将喷嘴头31的搭载数设为2个，但喷嘴头31的搭载数也可以为I个，还可以为3个以上。固化用光源32配置在各个喷嘴头31的两侧即可。若增加喷嘴头31的搭载数，则在X方向上的喷嘴孔33的排列间距变小。由此，能够提高应形成的薄膜的图案的分辨率。
[0039]在图3A中示出使用实施例的薄膜形成装置而制作的半导体元件的俯视图。在图3B中示出图3A的单点划线3B-3B中的剖视图。在封装基板50上通过粘结剂层51粘结有第I半导体芯片52。在第I半导体芯片52上通过粘结剂层53粘结有第2半导体芯片54。形成在第I半导体芯片52及第2半导体芯片54的垫片通过金属线55连接于形成在封装基板50的垫片。通过实施例的薄膜形成装置，形成粘结剂层51及粘结剂层53。
[0040]在图3A及图3B中，示出第I半导体芯片52和第2半导体芯片54堆叠的结构，但也可以在I张封装基板50仅安装I个半导体芯片。并且，还可以在I张封装基板50的表面的多处分别搭载半导体芯片。
[0041]在图4中示出实施例的薄膜形成装置的载物台12及喷嘴单元13的俯视图。在载物台12上保持有基板50。在基板50的表面划定有应涂布粘结剂的多个涂布区域58。涂布区域58相当于图3B所示的应形成粘结剂层51的区域。
[0042]在基板50的上方配置有喷嘴单元13。喷嘴单元13包括喷嘴头31及固化用光源
32。一边通过移动机构11使基板50沿y方向移动，一边从喷嘴头31吐出薄膜材料，由此能够在基板50涂布薄膜材料。控制装置20控制基于移动机构11的基板50的移动及从喷嘴头31吐出薄膜材料的时间。由此,能够在涂布区域58涂布由粘结剂构成的薄膜材料。涂布区域58的图案信息预先存储于控制装置20。
[0043]通过将基板50沿X方向移动并重复进行相同处理，从而能够在基板50的表面的任意区域涂布薄膜材料。
[0044]在图5中示出实施例的薄膜形成装置的整体的示意图。基于实施例的薄膜形成装置包括搬入站60、临时定位站61、涂布站62、固化站63及输送装置64。定义xyz直角坐标系，该xyz直角坐标系中将水平面设为xy面，将铅直上方设为z轴的正方向。搬入站60、临时定位站61、涂布站62及固化站63朝向X轴的正方向依次配置。控制装置20控制搬入站60、临时定位站61、涂布站62、固化站63内的各装置及输送装置64。
[0045]第I输送棍65将作为处理对象的基板50沿X轴的正方向从搬入站60输送至临时定位站61。通过第I输送棍65输送的基板50的前端接触于挡块67,由此进行基板50在输送方向上的粗定位。
[0046]输送装置64将基板50从临时定位站61输送至涂布站62，及从涂布站62输送至固化站63。输送装置64包括导向件70及2台升降机71、72。升降机71、72由导向件70引导并沿X方向移动。升降机71、72例如具有与基板50的底面接触并支承基板50的L字型的支承臂。一个升降机71将基板50从临时定位站61输送至涂布站62，另一个升降机72将基板50从涂布站62输送至固化站63。
[0047]如图1所示，涂布站62包括底板10、移动机构11及载物台12。图5中未表示喷嘴单元13(图1)。
[0048]在固化站63配置有第2输送棍66。在涂布站62被处理的基板50通过输送装置64输送至固化站63,并搭载于第2输送棍66上。第2输送棍66沿x轴的正方向输送基板50。在基板50的输送路径的上方配置有固化用光源68。固化用光源68向通过第2输送棍66输送的基板50照射包含使薄膜材料固化的波长成分的光。
[0049]参考图6A?图6F，对使用实施例的薄膜形成装置的薄膜形成方法进行说明。
[0050]图6A表示喷嘴单元13及基板50的示意侧视图。一边使基板50沿y轴的正方向移动，一边使液状的薄膜材料80液滴化并从上游侧(y轴的负侧)的喷嘴头31朝向基板50的涂布区域58(图4)吐出。在涂布区域58形成由液状的薄膜材料构成的第I膜81。
[0051]如图6B所示，液状的第I膜81在通过固化用光源32的下方时，被固化用光照射而固化。其中，“固化”意味着具有充分的粘着性，但无法在基板50的表面上进行移动程度的固化。薄膜材料80从着落于基板50之后到固化的时间取决于从喷嘴头31的喷嘴孔到其下游侧的固化用光源32为止的距离以及基板50的移动速度。
[0052]涂布区域58 (图4)在通过下游侧(y轴的正侧)的喷嘴头31的下方时，从下游侧的喷嘴头31朝向涂布区域58吐出液状的薄膜材料80。
[0053]由从上游侧的喷嘴头31吐出的薄膜材料80形成的第I膜81覆盖涂布区域58的整个区域时，从下游侧的喷嘴头31吐出的薄膜材料80着落于已固化的第I膜81上。由此，获得具有已固化的薄膜材料和液状的薄膜材料这2层结构的第I膜81。
[0054]由从上游侧的喷嘴头31吐出的薄膜材料80形成的第I膜81未覆盖涂布区域58的整个区域，在涂布区域58内分散地分布有露出基板50的表面的部位时，从下游侧的喷嘴头31吐出的薄膜材料80着落于基板50的露出部位。由此，第I膜81利用固化的薄膜材料和液状的薄膜材料覆盖涂布区域58的整个区域。此时，第I膜81具有已固化的部分和液状的部分分布在面内的结构。
[0055]如图6C所示，涂布区域58(图4)通过最下游侧的固化用光源32的下方时，第I膜81中液状的部分被固化。
[0056]如图6D所示，通过最下游侧的固化用光源32 (图6C)的涂布区域58的整个区域被固化的第I膜81覆盖。
[0057]如图6E所示，一边使基板50沿y轴的负方向移动，一边从喷嘴头31吐出薄膜材料80，在第I膜81上涂布液状的薄膜材料。由此，在第I膜81上形成由液状的薄膜材料构成的第2膜82。形成第2膜82时，固化用光源32处于消灯状态。
[0058]如图6F所示，第I膜81的表面的整个区域被液状的第2膜82覆盖。
[0059]如图6G所不,形成第2膜82后,将基板50输送至固化站63 (图5)。在固化站63中，基板50通过第2输送辊66被输送，并通过固化用光源68的下方。此时，液状的第2膜82被来自固化用光源68的光照射而固化。固化的第I膜81及第2膜82相当于图3B所示的粘结剂层51。利用相同的方法能够形成第I半导体芯片52上的粘结剂层53。
[0060]基于实施例的方法中，在第I膜81 (图6E)上涂布液状的薄膜材料80时，固化用光源32处于消灯状态。液状的第2膜82通过图5所示的输送装置64从涂布站62输送至固化站63后被固化。因此，液状的第2膜82固化为止的经过时间较长。第2膜82在固化之前，液状的薄膜材料沿面内方向扩展，使第2膜82的表面平坦化。
[0061]相对于此，第I膜81通过一边移动着落地点一边重复进行使薄膜材料着落于基板50的表面的处理、和着落后向基板50表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理来形成。因此，无法确保液状的薄膜材料沿面内方向扩展而使其表面平坦化的充分的时间。由于液状的第I膜81的表面在被平坦化之前已固化，因此在第I膜81的表面残留有与薄膜材料的着落地点相对应的位置的表面相对隆起的凹凸。
[0062]仅将第I膜81用作图3B所示的粘结剂层51时，在粘结剂层51的表面存在凹凸。若用该粘结剂层51粘结第I半导体芯片52，则在粘结剂层51与第I半导体芯片52之间的界面会残留有包含空气的空洞。该空洞会导致第I半导体芯片52的粘结强度下降。而且，通过空洞内的空气膨胀，有时导致第I半导体芯片52从基板50脱落。
[0063]在实施例中，由于第2膜82的表面被平坦化，因此在粘结剂层51与第I半导体芯片52之间的界面难以产生空洞。由此，能够防止第I半导体芯片52的粘结强度的下降及第I半导体芯片52的脱落。
[0064]接着，对为了形成第2膜82而形成第I膜81 (图6F)作为第2膜82的基底的效果进行说明。
[0065]图7A中示出液状的薄膜材料80刚着落于基板50的涂布区域58之后的基板50的剖视图。着落之后，紧接着在各着落地点附着有薄膜材料80。当基板50的表面为憎液性时，如图7B所示，若经过从薄膜材料着落于基板50之后到使其表面平坦化的时间，则液状的薄膜材料80集合在一部分区域中。由此，在涂布区域58内形成基板50的表面露出的区域。若在该状态下固化薄膜材料80，则基板50露出的区域会残留。
[0066]如实施例，若预先形成第I膜81 (图6F)作为第2膜82的基底，则不受基板50的表面为憎液性的影响，能够利用第I膜81及第2膜82覆盖涂布区域58的整个区域。为了利用第I膜81覆盖涂布区域58的整个区域，在形成第I膜81的工序(图6A、图6B)中，优选在附着于着落地点的薄膜材料通过表面的憎液性从着落地点移动之前，使薄膜材料固化。
[0067]在上述实施例中，分别准备了使第I膜81固化的光源32 (图6B)和使第2膜82 (图6F)固化的光源68 (图5、图6G)，但也可以使用光源32固化第2膜82。此时，在图6E所示的工序中，形成液状的第2膜82之后，在载物台12上等待到第2膜82的表面平坦化为止。之后，点亮固化用光源32，并使基板50移动。第2膜82在通过固化用光源32的下方时，被固化用光照射，从而第2膜82得以固化。
[0068]以上，根据实施例对本发明进行了说明，但本发明并不限于此。例如，能够进行各种変更、改良及组合等，这对本领域技术人员来说是显而易见的。
【权利要求】
1.一种薄膜形成方法，其具有: 在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向所述表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在所述表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜的工序； 通过在所述第1膜上涂布液状的所述薄膜材料，形成液状的第2膜的工序；及 在形成所述第2膜之后，照射光而使所述第2膜固化的工序。
2.根据权利要求1所述的薄膜形成方法，其中， 在形成所述第1膜的工序中，在所述薄膜材料的液滴通过所述表面的憎液性从着落地点移动之前，使所述薄膜材料固化。
3.根据权利要求1或2所述的薄膜形成方法，其中， 在形成所述第2膜的工序中，使液状的所述薄膜材料覆盖所述第1膜的表面的整个区域。
4.一种薄膜形成装置，其具有: 载物台，保持基板； 喷嘴头，具有朝向保持于所述载物台的基板吐出光固化性的液状的薄膜材料的多个喷嘴孔； 移动机构，使所述基板和所述喷嘴头中的一个相对于另一个移动； 光源，向附着于保持在所述载物台的基板的液状的所述薄膜材料照射固化用光；及 控制装置，控制所述喷嘴头、所述光源及所述移动机构， 所述控制装置中， 一边使所述喷嘴头及所述基板中的一个相对于另一个移动，一边从所述喷嘴头吐出液状的薄膜材料而使液状的薄膜材料附着于所述基板的一部分区域，并且从所述光源向附着于所述基板的液状的所述薄膜材料照射固化用光，从而使所述薄膜材料固化，由此形成第1膜， 在形成所述第1膜之后，一边使所述喷嘴头及所述基板中的一个相对于另一个移动，一边从所述喷嘴头吐出液状的所述薄膜材料而使液状的所述薄膜材料附着于所述第1膜上，从而形成液状的第2膜， 在形成所述第2膜之后，向所述第2膜照射固化用光，从而使所述第2膜固化。
【文档编号】H01L21/50GK104349602SQ201410341806
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年7月17日 优先权日:2013年7月25日
【发明者】冈本裕司 申请人:住友重机械工业株式会社