技术总结
本发明提供一种可形成缺陷少的二氧化硅质膜的全氢聚硅氮烷以及包含该全氢聚硅氮烷的固化用组合物。本发明提供一种全氢聚硅氮烷以及包含其的固化用组合物，其特征在于，其为重均分子量为5,000以上17,000以下的全氢聚硅氮烷，其中，对通过将前述全氢聚硅氮烷溶解于二甲苯而得到的17重量％溶液的1H‑NMR进行了测定时，以二甲苯的芳香族环氢的量为基准的SiH1,2的量的比为0.235以下，NH的量的比为0.055以下。本发明也提供一种二氧化硅质膜的形成方法，其包含如下的工序：将该固化用组合物涂布于基材上，进行加热。
技术研发人员：冈村聪也;神田崇;樱井一成;B·B·巴尼科尔;青木宏幸;
受保护的技术使用者：AZ电子材料(卢森堡)有限公司;
文档号码：201480066142
技术研发日：2014.12.08
技术公布日：2016.07.20