一种SAW温度传感器的结构及制作方法与流程

文档序号:11837146阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种SAW温度传感器结构,其特征在于,包括:位于底层的衬底材料;位于衬底材料之上的传感器叉指电极;位于叉指电极同一层,在叉指电极周围的氧化区域;位于叉指电极及电极周围氧化区域之上的二氧化硅保护层。

2.根据权利要求1所述的传感器结构,其特征在于,所述衬底材料采用压电衬底,具体衬底材料可以包括石英压电晶体、铌酸锂压电晶体、钽酸锂压电晶体。

3.根据权利要求1所述的器件结构,其特征在于,所述电极材料采用铝、铜导电性较好的材料。

4.根据权利要求1所述的SAW温度传感器结构,其制作方法包括:

(1)所述压电衬底材料经清洗烘干后,在其之上生长一层Al电极层;

(2)采用微电子工艺经过涂胶、光刻、显影、氧化、去胶等步骤形成电极图形;

(3)所述电极图形经过等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)或溅射工艺,形成一层5-20纳米的SiO2层,作为电极的保护层;

(4)将基片切割成分立器件,然后用铝丝焊线机将分立器件键合至封装用基座上,进行封装测试,形成完整的传感器。

5.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述衬底材料分别先后分别用丙酮、乙醇、去离子水清洗,氮气吹干,在80度高温环境下烘干衬底,烘干时间60秒。

6.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述电极层厚度根据设计的声表面波波长而定,为波长的5%~10%,生长方法采用电子束蒸发。

7.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,步骤(2)中所述氧化过程采用等离子氧化方法,使器件表面没有光刻胶(图形区)的Al被氧化为Al2O3,有光刻胶的部分仍为Al。

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