1.一种基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置包括：
基板旋转部，其一边保持基板一边使所述基板旋转；
处理液供给部，其向所述基板供给处理液；以及
置换液供给部，其向所述基板供给与从所述处理液供给部供给来的所述处理液置换的置换液，
在所述置换液供给部向所述基板供给所述置换液时，所述处理液供给部向比从所述置换液供给部供给的所述置换液的所述基板上的供给位置靠所述基板的外周侧的位置供给所述处理液而形成所述处理液的液膜。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理液供给部和所述置换液供给部以所述基板的整个表面被所述处理液、所述置换液或所述处理液与所述置换液的混合液的液膜覆盖的方式供给所述处理液和所述置换液，
所述处理液供给部向由所述置换液供给部形成的所述置换液的外侧以能够维持由所述处理液供给部供给来的所述处理液的液膜的方式供给所述处理液。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述置换液供给部向所述基板的中央部供给所述置换液，
所述处理液供给部一边朝向所述基板的外周方向移动一边供给所述处理液。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理液供给部一移动到所述基板的周缘部就停止所述处理液的供给。
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理液供给部具有朝向所述基板的中央部供给所述处理液的处理液主供给喷嘴和向比所述置换液的所述基板上的供给位置靠所述基板的外周侧的位置供给所述处理液的处理液辅助供给喷嘴。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理液供给部在所述处理液主供给喷嘴和所述处理液辅助供给喷嘴同时供给所述处理液时使来自所述处理液辅助供给喷嘴的所述处理液的供给流量小于来自所述处理液主供给喷嘴的所述处理液的供给流量。
7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理液供给部在从所述置换液供给部开始向所述基板供给所述置换液之前开始向比所述置换液的所述基板上的供给位置靠所述基板的外周侧的位置供给所述处理液。
8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理液供给部在向所述基板上供给所述置换液且没有向所述基板的外周侧的位置供给所述处理液的情况下，向所述基板的与由所述置换液覆盖整体的区域同心的圆形区域内供给所述处理液。
9.一种基板处理方法，其特征在于，
该基板处理方法包括：
处理液主供给工序，在该处理液主供给工序中，向旋转的基板供给处理液；
置换液供给工序，在该置换液供给工序中，将用于置换在所述处理液主供给工序中供给到所述基板的所述处理液的置换液向所述基板供给而在所述基板上形成置换液的液膜；
处理液辅助供给工序，在该处理液辅助供给工序中，在向所述基板供给所述置换液时，向比所述基板上的所述置换液的供给位置靠所述基板的外周侧的位置供给所述处理液而在所述基板上形成所述处理液的液膜。
10.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述处理液主供给工序中，在所述基板的整个表面形成所述处理液的液膜，
在所述处理液辅助供给工序中，在所述基板的表面上的比由所述置换液覆盖的区域靠外周侧的区域形成所述处理液的液膜。
11.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述置换液供给工序中，朝向所述基板的中央部供给所述置换液，
在所述处理液辅助供给工序中，一边使所述处理液的供给位置朝向所述基板的外周侧移动一边供给所述处理液。
12.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述处理液辅助供给工序中，以比在所述处理液主供给工序中供给的所述处理液的供给流量少的供给流量供给所述处理液。
13.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述处理液辅助供给工序中，于在所述置换液供给工序中开始向所述基板供给所述置换液之前，开始所述处理液的供给。
14.一种记录有基板处理程序的计算机可读取的记录介质，其特征在于，
基板处理程序的内容如下：使用具有一边保持基板一边使基板旋转的基板旋转部、向所述基板供给处理液的处理液供给部以及向所述基板供给与从所述处理液供给部供给来的所述处理液置换的置换液的置换液供给部的基板处理装置，利用所述基板旋转部使所述基板旋转，利用所述处理液供给部向所述基板供给所述处理液，之后，利用所述置换液供给部向所述基板供给所述置换液而形成置换液的液膜、并且利用所述处理液供给部向比所述基板上的所述置换液的供给位置靠外周侧的位置供给所述处理液而形成处理液的液膜。