1.一种OLED器件，包括：依次设置的透明电极层、发光层以及反射电极层；其特征在于，所述OLED器件还包括绝缘层以及辅助电极层；所述绝缘层设置在所述反射电极层之上；所述辅助电极层设置在所述绝缘层之上，并且与所述透明电极层电连接。
2.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，所述的OLED器件还包括像素定义层；所述像素定义层设置在所述透明电极层之上，并且划分出像素定义区域；所述发光层、反射电极层以及所述绝缘层设置在所述像素定义区域中；所述像素定义层具有过孔，所述辅助电极层通过所述像素定义层的过孔与所述透明电极层电连接。
3.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，所述的OLED器件还包括像素定义层；所述像素定义层设置在所述透明电极层之上，并且划分出像素定义区域；所述发光层以及反射电极层设置在所述像素定义区域中；所述绝缘层设置在所述像素定义区域中以及所述像素定义层上；所述像素定义层和所述绝缘层具有过孔，所述绝缘层的过孔设置于所述像素定义层的过孔的上方；所述辅助电极层通过所述绝缘层的过孔以及所述像素定义层的过孔与所述透明电极层电连接。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的OLED器件，其特征在于，所述透明电极层是阳极层，所述反射电极层是阴极层。
5.一种OLED器件的制作方法，其特征在于，包括：
形成透明电极层；
在所述透明电极层上，形成像素定义层，所述像素定义层划分出像素定义区域；
在像素定义层形成过孔；
在所述透明电极层上，在所述像素定义区域中，形成发光层、反射电极层；
在所述反射电极层上，在所述像素定义区域中，形成绝缘层；
在所述绝缘层上，形成辅助电极层，通过所述像素定义层的过孔电连接所述辅助电极层与透明电极层。
6.根据权利要求5所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，还包括：在像素定义层上形成绝缘层，所述绝缘层包括过孔，所述绝缘层的过孔在所述像素定义层的过孔的上方；
其中，在形成所述辅助电极层时，通过所述绝缘层的过孔和所述像素定义层的过孔电连接所述辅助电极层与所述透明电极层。
7.根据权利要求5-6中任一所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，使用采用了开放式掩模的化学气相沉积法形成所述绝缘层。
8.根据权利要求5-6中任一所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，使用蒸镀法形成所述辅助电极层。
9.根据权利要求8所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，使用采用了开放式掩模或精细金属掩模的蒸镀法形成所述辅助电极层。
10.一种显示面板，其特征在于，包括基板，以及在基板上设置的多个根据权利要求1至4中任一项所述的OLED器件。
11.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求10所述的显示面板。