等离子体系统、等离子体处理方法以及等离子体刻蚀方法与流程

技术特征：

技术总结
一种等离子体系统，包括：源电极、RF源功率生成单元、RF源功率输出单元以及源功率输出管理单元。源功率输出管理单元基于关于连续波RF源功率的幅度的信息来确定脉冲RF源功率的幅度和占空比。

技术研发人员：吴世真;禹济宪;赵忠镐;成德镛;梁章奎;郑在哲
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：2016.12.23
技术公布日：2017.07.04