技术总结
本发明公开了一种湿法刻蚀排气系统及湿法刻蚀装置，涉及湿法刻蚀技术领域，解决了现有湿法刻蚀设备的腔体的抽换气系统调节能力有限，无法在保证湿法刻蚀工艺需求的情况下，保证腔体内的压力平衡，从而导致挥发性酸性气体以及反应副产物气体泄漏到腔体外部，对技术人员造成伤害，对环境造成污染的技术问题。该湿法刻蚀排气系统包括：抽换气管道和罩在湿法刻蚀设备的腔体的腔门上的真空罩体；其中，抽换气管道与所述腔体相连，真空罩体与所述抽换气管道相连；抽换气管道通过第一阀控单元与腔体连通，抽换气管道通过第二阀控单元与所述真空罩体连通。本发明应用于湿法刻蚀。
技术研发人员：李明晖;杨晓峰;吕耀军;张超;王彬;李桂
受保护的技术使用者：成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
文档号码：201710104091
技术研发日：2017.02.24
技术公布日：2017.06.20