1.一种有机电致发光显示装置的制作方法，其特征在于，包括：
提供下支撑基板和上支撑基板；
在下支撑基板上依次制作下柔性基板和有机电致发光器件层，且在上支撑基板上依次制作上柔性基板和粘合层；
对位下支撑基板和上支撑基板，以使粘合层与有机电致发光器件层粘合；
剥离下支撑基板和上支撑基板。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在下支撑基板上制作下柔性基板的方法包括：利用涂布工艺在下支撑基板上涂覆柔性材料，并对所述柔性材料进行固化，或者将已制作完成的下柔性基板通过粘附剂贴附在下支撑基板上；
在上支撑基板上制作上柔性基板的方法包括：利用涂布工艺在上支撑基板上涂覆柔性材料，并对所述柔性材料进行固化，或者将已制作完成的上柔性基板通过粘附剂贴附在上支撑基板上。
3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，剥离下支撑基板的方法包括：在下柔性基板与下支撑基板之间设置离型膜层，以使下支撑基板和下柔性基板自动分离，或者利用准分子镭射使下支撑基板和下柔性基板分离；
剥离上支撑基板的方法包括：在上柔性基板与上支撑基板之间设置离型膜层，以使上支撑基板和上柔性基板自动分离，或者利用准分子镭射使上支撑基板和上柔性基板分离。
4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在上柔性基板上制作粘合层之前，所述制作方法还包括：在上柔性基板上制作钝化层，所述钝化层用于提高所述上柔性基板的水氧阻隔能力。
5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在下支撑基板上制作下柔性基板之前，所述制作方法还包括：在下柔性基板上制作光提取层，所述光提取层用于提高所述下柔性基板的水氧阻隔能力且能够提高光透过率。
6.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，在离型膜层上设置下柔性基板之前，所述制作方法还包括：在离型膜层上制作光提取层，所述光提取层用于提高所述下柔性基板的水氧阻隔能力且能够提高光透过率。
7.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述离型膜层的制作材料为感光光阻或有机硅。
8.根据权利要求3或6所述的制作方法，其特征在于，所述光提取层的制作材料为二氧化钛。
9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述粘结层的制作材料为紫外光固化胶。
10.一种由权利要求1至9中任一项所述的制作方法制作的有机电致发光显示装置。