滚轮衬套与用于处理腔室的基板支撑件的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及在处理腔室中的基板支撑件，且更特定而言，基板支撑件具有滚轮衬套用于导引升举销以定位基板。
【背景技术】
[0002]多年以来，电子装置例如薄膜晶体管(TFT)、光伏(PV)装置或太阳能电池及其他电子装置是制造于薄介质上。薄介质通常为离散的砖(tile)、晶圆、薄片或其他基板，基板具有主侧且表面面积小于I平方米。然而，目前持续致力于在表面面积远大于I平方米的基板上制造电子装置，例如在2平方米或更大的基板上制造电子装置，以产生具有较大尺寸的终端产品及(或)降低每装置(例如，像素、薄膜晶体管、光伏装置或太阳能电池等等)的制造成本。
[0003]这些基板的尺寸持续增加却带来众多处理上的挑战。薄介质在室温下为高度可挠的，且薄介质在提高的处理温度下变得更为可挠的。薄介质的可挠性伴随着增加的表面面积会导致更大挠曲，及(或)需要用以避免过度挠曲而必须支撑的额外面积。由于增加额外的支撑点会增加微粒污染的可能性，仅仅增加额外的支撑点并非理想的选择。
[0004]此外，在处理中有时需要使用升举销来动态地定位基板，升举销相对于基板支撑表面是可移动的。在此动态定位期间，基板可能意外地弯曲、弓起或挠曲。此随机挠曲可能在升举销上产生扭转力及(或)侧向力。这些作用在升举销上的力可能导致一或更多个升举销黏合基板、使基板破裂、失效、刮伤或损害基板，这些作用可能产生微粒。升举销及(或)基板损害会导致系统停工时间及(或)耗费产品的成本，而减少生产量和利润。虽然已知已知衬套具有可移动升举销来支撑基板，但衬套通常是由与沉积腔室内的环境不匹配的材料所制成。举例而言，制成已知衬套的材料可能无法抵抗超过1000°c的温度，及(或)制成已知衬套的材料可能与处理化学物起反应。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型有关于能抵抗高温、不与处理化学物起反应且能抵抗基板挠曲及作用在升举销上的扭转力及侧向力的基板支撑件。
[0006]本实用新型提供一种滚轮衬套。滚轮衬套包括外壳、至少四个滚道以及第一盖及第二盖。外壳具有沿着纵向轴通过外壳所形成的内孔，用以容纳升举销。该等至少四个滚道至少部分在外壳内所形成，该等至少四个滚道包含移动地设置于该等至少四个滚道中的数个轴承元件。该等至少四个滚道的各者皆包括第一通道及第二通道，第二通道与第一通道平行且径向分隔，第二通道包含纵向切口，从而允许数个轴承元件的至少一部分延伸进入内孔。第一盖设置于外壳的第一端处且第二盖设置于外壳的第二端处，各盖皆包含形成于盖中的回流凹槽，回流凹槽连接第一通道与第二通道，以促进数个轴承元件在第一通道与第二通道之间移动。
[0007]在一个实施例中，第一通道设置于相对于纵向轴的径向平面中，且第二通道设置于该径向平面中而在第一通道的内侧处。
[0008]滚轮衬套进一步包括数个固定构件，该等数个固定构件各者皆具有第一端及第二端，第一端经由第一固定环而留存于第一盖中，且第二端经由第二固定环而留存于第二盖中。在一个实施例中，第一盖经由数个固定构件而通过外壳耦合至第二盖。在一个实施例中，外壳包含形成于外壳的外部表面中的数个纵向凹槽，该等数个纵向凹槽的各者皆适于容纳数个固定构件的对应的一者。在一个实施例中，至少四个滚道的各者皆由数个纵向凹槽的一者所分隔。
[0009]在一个实施例中，外壳在相反端上皆具有环形背脊，该环形背脊分隔第一通道与第二通道。在一个实施例中，各盖包含环形通道，该环形通道容纳该环形背脊。
[0010]在一个实施例中，数个轴承元件的各者皆由滚轮元件、针状轴承、球体或它们的组合所组成的群组中选出。
[0011 ] 在一个实施例中，外壳及数个轴承元件是由陶瓷材料所制作。
[0012]本实用新型还提供一种用于处理腔室的基板支撑件。基板支撑件包括主体及滚轮衬套。主体具有形成于该主体的两主侧边之间的数个开口，滚轮衬套设置于该等数个开口的至少一者中。滚轮衬套包括圆筒状主体、至少四个滚道以及第一盖及第二盖。圆筒状主体具有外壳及沿着纵向轴通过外壳所形成以容纳升举销的内孔。该等至少四个滚道至少部分在外壳内所形成，该等至少四个滚道包含移动地设置于该等至少四个滚道中的数个轴承元件。该等至少四个滚道的各者皆包括第一通道及第二通道，第二通道与第一通道平行且径向分隔，第二通道包含纵向切口，从而允许数个轴承元件的至少一部分延伸进入内孔。第一盖设置于外壳的第一端处且第二盖设置于外壳的第二端处，各盖皆包含形成于盖中的回流凹槽，回流凹槽连接第一通道与第二通道，以促进数个轴承元件在第一通道与第二通道之间移动。
[0013]在一个实施例中，基板支撑件进一步包括底盖，该底盖耦合至主体且将圆筒状主体固定于数个开口的该至少一者内。
【附图说明】
[0014]如以上简要总结的本实用新型的更特定描述可参考本文的实施例而得到，使得以此方式可详细了解本文的实施例的该等特征，本文某些实施例绘示于附图中。然而，应注意，附图仅绘示本文的典型实施例且因此不应视为限制本文的范畴，因为本文可承认其他同等有效实施例。
[0015]图1A为具有基板支撑件的处理系统的一个实施例的横截面示意图。
[0016]图1B为图1A的处理系统中基板支撑件处于传送位置的横截面示意图。
[0017]图1C为图1A的滚轮衬套及基板支撑件的一部分的放大视图。
[0018]图2A为根据本案的一个实施例的滚轮衬套的顶面示意图。
[0019]图2B为图2A的滚轮衬套沿着线段AA擷取的侧向横截面示意图。
[0020]图2C为图2A的滚轮衬套沿着线段BB擷取的侧向横截面示意图。
[0021]图3为图2A至图2C的滚轮衬套的等角示意图。
[0022]为了促进了解，尽可能使用相同的元件符号来指称图式中共用的相同元件。本文考量到在一个实施例中所揭示的元件在没有特定描述下可有益地利用于其他实施例上。
[0023]符号说明:
[0024]100处理系统
[0025]101基板
[0026]102腔室主体
[0027]104基板支撑件
[0028]105射频电源
[0029]106温度控制装置
[0030]107支撑表面
[0031]108盖
[0032]109AU09B电性返回装置
[0033]110A、110B、110C、110D 升举销
[0034]111处理空间
[0035]112处理区域
[0036]114喷头组件
[0037]117侧壁
[0038]118排气系统
[0039]119底部
[0040]122处理气源
[0041]123传送口
[0042]125滚轮衬套
[0043]128开口
[0044]134导管
[0045]135绝缘体
[0046]138致动器
[0047]150机器人的叶片
[0048]160圆筒状主体
[0049]165内孔
[0050]168升举销的外部表面
[0051]170轴承元件
[0052]175AU75BU75CU75D 圆形轨道或滚道
[0053]178纵向切口
[0054]180头
[0055]182杆
[0056]184底盖
[0057]200纵向轴
[0058]205外壳
[0059]210A、210B 端盖
[0060]212A、212B、212B，、212B，，、212B，，，、212B，，，，回流凹槽
[0061]214突起物或背脊
[0062]215A、215B、215C、2iro 固定构件
[0063]220 头
[0064]222 杆
[0065]225 U 型通道
[0066]230固定环
[0067]235A 第一通道
[0068]235B 第二通道
[0069]240径向平面
[0070]260 直径接口
[0071]305环形凹槽
[0072]310 U型凹槽或通道
[0073]320圆周凹槽
[0074]400环形突起物或背脊
【具体实施方式】
[0075]本文的实施例大致上关于经由滚动摩擦来导弓I升举销的基板支撑件。在一个实施例中，描述用于支撑、传送及(或)处理可挠介质的系统。系统包含基板支撑件，基板支撑件特别适用于矩形介质，矩形介质具有主侧且表面面积可大于约I平方米，例如大于约2平方米，或更大。在一个实施例中，基板支撑件用以导引升举销，基板支撑件用以支撑可挠、矩形介质或促使可挠、矩形介质的传送。基板支撑件可用于处理腔室中，处理腔室适用于在介质上沉积材料以形成电子装置，例如薄膜晶体管、有机发光二极管、光伏装置或太阳能电池。本文所述的可挠介质可为金属薄片、塑胶薄片