硅片的上表面。喷淋装置30具有进液管道。优选地，进液管道外接到一个存储纯水的装置上，这样喷出的水为纯水。纯水在硅片上表面形成水膜。上表面形成水膜的硅片传输到第一传输装置20上，进行刻蚀。由上述内容可知，第二传输装置40的设置使得硅片实现了自动化传输，进而提高了效率。
[0028]如图1所示，在本实施例的技术方案中，刻蚀装置还包括:压水结构50，压水结构50设置在喷淋装置30和工艺槽10之间，压水结构50位于第二传输装置40的上方并与第二传输装置40之间形成硅片通过通道。压水结构50的设置，一方面保证了需要刻蚀的硅片上形成均匀的水膜，另一方面保证了不会有过多的水被带到工艺槽10的内部。
[0029]如图1所示，在本实施例的技术方案中，压水结构50为压轮。压轮结构简单、造价低且操作维护简单，不但保证硅片上水膜的完整，而且能保证除掉硅片的表面上过多的纯水，使其在进入主体设备时，在传输过程中由于传动等原因导致的震动，使大量的水分掉落到硅片的下表面及槽体内而导致使刻蚀不完全。具体地，在本实施例中，压轮可以由传输滚轮形成。
[0030]如图1所示，在本实施例的技术方案中，刻蚀装置还包括:收集槽60，位于喷淋装置30的下方，喷淋装置30的进液管道与收集槽60内连通，该进液管道上设置有水泵31。上述结构保证了喷淋水的重复利用，不仅有利于节能环保，还能降低成本。优选地，压水结构50同样设置在收集槽60上方。这样，挤压掉的纯水会重复利用，此结构有利于节约用水。
[0031]如图1所示，在本实施例的技术方案中，喷淋装置30还包括设置在进液管道上的阀门32，阀门32位于喷淋口和水泵31之间。阀门的设置能够控制喷淋液流量的大小以保证喷淋效果。为了获得更好的喷淋效果，喷淋口到硅片的高度设置在5mm到25mm之间。
[0032]如图1所示，在本实施例的技术方案中，喷淋装置30还包括设置在进液管道上的储水槽33，储水槽33位于阀门32和水泵31之间。储水槽33的设置能起到缓冲作用，保证了喷淋液的稳定性。优选地，储水槽33的容量控制在15L以上。
[0033]如图1所示，在本实施例的技术方案中，刻蚀装置还包括设置在工艺槽10内的第一过滤结构11。硅片的处理需要较高的洁净度，第一过滤结构11的设置能有效地过滤掉刻蚀后留下的杂质，保证工艺槽内溶液的洁净。
[0034]如图1所示，在本实施的技术方案中，刻蚀装置还包括设置在收集槽60内的第二过滤结构61。硅片的处理需要较高的洁净度，第二过滤结构61的设置，保证了收集槽60内水的洁净。
[0035]如图1所示，在本实施例的技术方案中，第一传输装置20包括多个平行设置的第一滚轮，第二传输装置40包括多个平行设置的第二滚轮。平行设置的第一滚轮和平行设置的第二滚轮，保证了硅片传输的稳定性和连续性，另外，多个平行设置的第一滚轮结构还能保证硅片与药液的接触时间。
[0036]以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种刻蚀装置，包括工艺槽(10)和设置在所述工艺槽(10)内的第一传输装置(20)，其特征在于，所述刻蚀装置还包括: 喷淋装置(30)，设置在所述工艺槽(10)的上游侧，所述喷淋装置(30)具有朝向下方的喷淋口。
2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括:第二传输装置(40)，所述第二传输装置(40)设置在所述喷淋装置(30)的下方，所述第二传输装置(40)的上表面与所述第一传输装置(20)的上表面平齐。
3.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括:压水结构(50)，所述压水结构(50)设置在所述喷淋装置(30)和所述工艺槽(10)之间，所述压水结构(50)位于所述第二传输装置(40)的上方并与所述第二传输装置(40)之间形成硅片通过通道。
4.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述压水结构(50)为压轮。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括:收集槽(60)，位于所述喷淋装置(30)的下方，所述喷淋装置(30)还包括与所述收集槽(60)内连通的进液管道及设置所述进液管道上的水泵(31)。
6.根据权利要求5所述的刻蚀装置，其特征在于，所述喷淋装置(30)还包括设置在所述进液管道上的阀门(32)，所述阀门(32)位于所述喷淋口和所述水泵(31)之间。
7.根据权利要求6所述的刻蚀装置，其特征在于，所述喷淋装置(30)还包括设置在所述进液管道上的储水槽(33)，所述储水槽(33)位于所述阀门(32)和所述水泵(31)之间。
8.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括设置在所述工艺槽(10)内的第一过滤结构(11)。
9.根据权利要求5所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括设置在所述收集槽(60)内的第二过滤结构(61)。
10.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一传输装置(20)包括多个平行设置的第一滚轮，所述第二传输装置(40)包括多个平行设置的第二滚轮。
【专利摘要】本实用新型提供了一种刻蚀装置，包括工艺槽(10)和设置在工艺槽(10)内的第一传输装置(20)，刻蚀装置还包括：喷淋装置(30)，设置在工艺槽(10)的上游侧，喷淋装置(30)具有朝向下方的喷淋口。本实用新型的技术方案有效地解决了现有技术中的过度刻蚀的问题。
【IPC分类】H01L21-67
【公开号】CN204516730
【申请号】CN201520275087
【发明人】许明金, 邓清龙
【申请人】海南英利新能源有限公司
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2015年4月30日