电路板及其制作方法与流程

本发明涉及一种电路板及其制作方法。

背景技术：

目前，许多柔性电路板会有高复杂度，高精度，高密集度的布线要求。但是，在线路制作时，柔性电路板上的孔需要增加孔环以增强其连通功能，这就减少了柔性电路板排版的利用率，不利于高密度线路制作。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明提供一种避免孔环结构存在的电路板的制作方法。

还提供一种避免孔环结构存在的电路板。

一种电路板的制作方法，包括步骤：

提供一基板，所述基板包括基底层、第一底铜层及第二底铜层，所述第一底铜层及第二底铜层形成于所述基底层的相对两侧；

在所述基板上开设一通孔，所述通孔包括贯穿所述基底层的第一孔及贯穿所述第一底铜层且与所述第一孔连通的第二孔；

镀铜形成导电线路层，所述导电线路层至少包括填充于所述通孔内的第一部分及由第一部分朝远离所述基底层的方向凸伸的第二部分，所述导电线路层电连接所述第一底铜层及第二底铜层；以及

快速蚀刻所述基板以去除所述第一底铜层及第二底铜层未被导电线路层覆盖的区域，以将第一底铜层蚀刻成第一导电图形层，将第二底铜层蚀刻成第二导电图形层，并蚀刻去除所述第一部分与第一底铜层齐平且未被第二部分覆盖的区域。

一种电路板的制作方法，包括步骤：

提供一基板，所述基板包括基底层、第一底铜层及第二底铜层，所述第一底铜层及第二底铜层形成于所述基底层的相对两侧；

在所述基板上开设一通孔，所述通孔包括贯穿所述基底层的第 一孔及贯穿所述第一底铜层且与所述第一孔连通的第二孔；

对上述基板进行镀铜以形成电镀层，所述电镀层至少包括填充于所述通孔内的第一部分，所述基底层两侧的铜层分别为第一铜层与第二铜层；

镀铜以与所述第一部分共同形成导电线路层，所述导电线路层至少还包括与第一部分连结的第二部分，所述第二部分的直径小于所述第一孔的直径，所述导电线路层电连接所述第一底铜层及第二底铜层；以及

快速蚀刻所述基板以去除所述第一铜层及第二铜层未覆盖导电线路层的区域，以将第一铜层蚀刻成第一导电图形层，将第二铜层蚀刻成第二导电图形层，并蚀刻去除所述第一部分与第一底铜层齐平且未被第二部分覆盖的区域。

一种电路板，包括基底层、形成于所述基底层两侧的第一导电图形层及第二导电图形层，所述基底层未被所述第一导电图形层覆盖的区域开设有至少一贯穿所述基底层的第一孔，所述电路板还包括导电线路层，所述导电线路层至少包括第一部分及与所述第一部分连结的第二部分，所述第一部分填充于所述第一孔，所述第二部分由所述第一部分朝远离所述基底层的方向凸伸，所述第二部分的直径小于所述第一孔的直径，所述导电线路层电连接所述第一导电图形层与第二导电图形层。

本发明提供的柔性电路板的制作方法，运用填孔电镀技术，使得所述第一部分及第二部分填充于所述通孔中，有效地电连接所述第一导电图形层与第二导电图形层，且保证了所述第二部分与所述第一部分有效连结，提高了电路板的良率。另外，所述第二部分的直径小于所述第一部分的直径，避免了因孔环而占用柔性电路板的利用面积，从而增加了柔性电路板的排版利用率，满足了高密度线路制作需求，且保证了所述第二部分与所述第一部分有效连结，可使通孔在电路板表面的孔径减小，提高了电路板的良率也提高了柔性电路板的布线密度。

附图说明

图1是本发明第一实施例提供的基板的剖视图。

图2是对图1中的基板进行减薄铜工艺处理后的剖视图。

图3是在图1的基板上开通孔的剖视图。

图4是在图3的基板上压覆第一感光膜及第二感光膜的剖视图。

图5是在图4的基板曝光显影后的剖视图。

图6是在图5的基板上形成导电线路层的剖视图。

图7是将图6的基板上的第一感光膜及第二感光膜剥离后的剖视图。

图8是对图7的基板进行快速蚀刻后的剖视图。

图9是本发明第二实施例中在基板上形成电镀层的剖视图。

图10是对图9中的第一铜层及第二铜层进行减薄铜工艺处理后的剖视图。

图11是在图10的基板上压覆第一感光膜及第二感光膜的剖视图。

图12是本发明第二实施例中基板曝光显影后的剖视图。

图13是在图12中的基板上形成导电线路层剖视图。

图14是将图13的基板上的第一感光膜及第二感光膜剥离后的剖视图。

图15是对图14的基板进行快速蚀刻后的剖视图。

图16本发明第三及第四实施例中基板上开通孔的剖视图。

图17本发明第三实施例中电路板的剖视图。

图18本发明第四实施例中电路板的剖视图。

图19本发明第五实施例中电路板的剖视图。

图20本发明第六实施例中电路板的剖视图。

主要元件符号说明

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

下面将结合附图1～图20及实施例，对本技术方案提供的电路板100及其制作方法作进一步的详细说明。所述电路板100可用于高密度电路板(hdi板)、软硬结合板或芯片载板(ic载板)中。

请参阅图1至图8，本发明第一实施例提供一种电路板100的制作方法，包括如下步骤：

第一步，请参阅图1，提供一基板10。

所述基板10为双面板，所述基板10包括一基底层11、形成于所述基底层11相对两侧的第一底铜层12与第二底铜层13。

本实施例中，所述基底层11为柔性树脂层，如聚酰亚胺(polyimide,pi)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephthalate, pet)或聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate,pen)。

第二步，请参阅图2，对所述基板10进行减薄铜工艺处理。具体的，通过药水对所述第一底铜层12及第二底铜层13进行微蚀，使所述第一底铜层12及第二底铜层13厚度均匀减薄。

第三步，请参阅图3，在所述基板10上开设至少一通孔102。

本实施例中，所述通孔102为盲孔，其仅贯穿所述第一底铜层12及所述基底层11。所述通孔102为一直孔，其包括贯穿所述基底层11的第一孔104及贯穿所述第一底铜层12且与所述第一孔104连通的第二孔106。所述第一孔104及第二孔106均为直孔。所述通孔102通过激光镭射加工形成。在本实施例中，所述通孔102的孔径大于或等于50微米。在其他实施例中，所述通孔102的孔径大小可以根据具体的需求进行设置。

第四步，请参阅图4，在所述开设有通孔102的基板10相对两侧上压覆第一感光膜21及第二感光膜23，使得所述第一感光膜21覆盖所述第一底铜层12及通孔102的开口端，所述第二感光膜23覆盖所述第二底铜层13。

第五步，请参阅图5，对所述第一感光膜21及第二感光膜23进行曝光显影以在所述第一感光膜21及第二感光膜23上形成图案210。其中，所述图案210至少包括对应所述通孔102开设的开口211。

本实施例中，所述开口211的轴心线与所述通孔102的轴心线重合，所述开口211的孔径大于或等于所述通孔102孔径的一半，且小于所述通孔102的孔径。

本实施例中，所述图案210除开口211外，还形成于所述第一感光膜21的其他位置及第二感光膜23上。

第六步，请参阅图6，对应所述图案210进行镀铜以形成导电线路层31。所述导电线路层31至少包括填充于所述通孔102内的第一部分311及填充于所述开口211内且与第一部分311连结的第二部分312。在本实施例中，所述导电线路层31还形成于所述第一底铜层12远离所述基底层11的表面及所述第二底铜层13远离所述 基底层的表面。

第七步，请参阅图7，将所述曝光显影后的第一感光膜21及第二感光膜23剥离，以使所述第一底铜层12及第二底铜层13未覆盖导电线路层31的区域裸露。

第八步，请参阅图8，对基板100进行快速蚀刻处理以去除所述第一底铜层12与第二底铜层13未覆盖导电线路层31的区域，以及第一部分311与第一底铜层12齐平且未被第二部分312覆盖的区域，从而将所述第一底铜层12及所述第二底铜层13分别制成与所述导电线路层31对应的第一导电图形层120及第二导电图形层130，且使所述第一部分311与基底层11齐平，以获得所述电路板100。所述快速蚀刻处理是指仅沿铜层的层叠方向进行蚀刻。

上述电路板100的制作方法中，还可根据需要对所述基板10省略减薄铜工艺处理。

请参阅图8，上述实施例的制备方法制备的电路板100，包括基底层11、形成于所述基底层11两侧的第一导电图形层120及第二导电图形层130。所述基底层11未被所述第一导电图形层120覆盖的区域开设有至少一贯穿所述基底层11的第一孔104。所述电路板100还包括导电线路层31。所述导电线路层31至少包括填充于所述第一孔104内的第一部分311及与第一部分31连结的第二部分312。所述第二部分312凸设于所述第一部分311远离所述第二导电图形层130的表面中部，所述第二部分312的直径大于或等于所述第一部分311的直径的一半，且小于所述第一孔104的直径。本实施方式中，所述导电线路层31还形成于所述第一导电图形层120远离所述基底层11的表面及所述第二导电图形层130远离所述基底层11的表面。

请参阅图1、3及9-15，本发明第二实施例提供一种电路板100的制作方法，包括如下步骤：

第一步，请参阅图1，提供一基板10。

所述基板10为双面板，所述基板10包括一基底层11、形成于所述基底层11相对两侧的第一底铜层12与第二底铜层13。

本实施例中，所述基底层11为柔性树脂层，如聚酰亚胺(polyimide,pi)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephthalate,pet)或聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate,pen)。

第二步，请参阅图3，在所述基板10上开设至少一通孔102。

本实施例中，所述通孔102为盲孔，其仅贯穿所述第一底铜层12及所述基底层11。所述通孔102包括贯穿所述基底层11的第一孔104及贯穿所述第一底铜层12且与所述第一孔104连通的第二孔106。所述通孔102通过激光镭射加工形成。在实施例中，所述通孔102的孔径大于或等于50微米。在其他实施例中，所述通孔102的孔径大小可以根据具体的需求进行设置。

第三步，请参阅图9，对所述基板10进行电镀以形成电镀层30。所述电镀层30至少包括填充于所述通孔102内的第一部分311。在本实施例中，所述电镀层30还覆盖所述第一底铜层12及所述第二底铜层13，所述电镀层30与所述第一底铜层12共同构成第一铜层14，所述电镀层30与所述第二底铜层13共同构成第二铜层15。

第四步，请参阅图10，对第一铜层14及第二铜层15进行减薄铜工艺处理，以使得所述第一铜层14及第二铜层15均匀减薄。

第五步，请参阅图11，在所述带有电镀层30的基板10相对两侧上压覆第一感光膜21及第二感光膜23以至少覆盖所述电镀层30。

第六步，请参阅图12，对所述带有第一感光膜21及第二感光膜23的基板10进行曝光显影以在所述第一感光膜21及第二感光膜23上形成图案210。其中，所述图案210至少包括对应所述通孔102开设的开口211。

本实施例中，所述开口211的轴心线与所述通孔102的轴心线重合，所述开口211的孔径大于或等于所述通孔102孔径的一半，且小于所述通孔102的孔径。

本实施例中，所述图案210除开口211外，还形成于所述第一感光膜21的其他位置及第二感光膜23上。

第七步，请参阅图13，对应所述图案210进行电镀以与所述第 一部分311共同形成导电线路层31。所述导电线路层31至少还包括填满于所述开口211内的第二部分312，所述第二部分312与所述第一部分311连结。在本实施例中，所述导电线路层31还形成于所述第一铜层14远离所述基底层11的表面及所述第二铜层15远离所述基底层11的表面。

第八步，请参阅图14，将所述曝光显影后的第一感光膜21及第二感光膜23剥离。

第九步，请参阅图15，对基板100进行快速蚀刻处理，将所述第一铜层14及第二铜层15分别制成与所述导电线路层31对应的第一导电图形层120及第二导电图形层130，且使所述第一部分311与基底层11齐平，以获得所述电路板100。所述快速蚀刻处理是指仅沿铜层的层叠方向进行蚀刻。

上述第二实施例中的电路板100的制作方法中，还可根据需要省略对第一铜层14及第二铜层15进行减薄铜工艺处理。

请参阅图16及图17，本发明第三实施例提供一种电路板100的制作方法，其相较于所述第一实施例的电路板100的制作方法的区别在于：在第三步中形成的第一孔104为一阶梯孔，所述第一孔104包括一宽部107及一窄部108。所述宽部107与所述第二孔106连通且两者共同构成一直孔。所述窄部108与所述宽部107连通，且所述窄部108的孔径小于所述宽部107的孔径。

在实施例中，所述宽部107的深度小于或等于所述基底层11一半的厚度。

请参阅图16及图18，本发明第四实施例提供一种电路板100的制作方法，其相较于所述第二实施例的电路板100的制作方法的区别在于：在第三步中形成的第一孔104为一阶梯孔，所述第一孔104包括一宽部107及一与所述宽部107连通的窄部108。所述宽部107与所述第二孔106连通且两者共同构成一直孔。所述窄部108与所述宽部107连通，且所述窄部108的孔径小于所述宽部107的孔径。

请参阅图19，本发明第五实施例提供一种电路板100的制作方 法，其相较于所述第三实施例的电路板100的制作方法的区别在于：在第八步的快速蚀刻处理中进一步地去除填充于所述宽部107内且未被所述第二部分312覆盖的第一部分311。

请参阅图20，本发明第六实施例提供一种电路板100的制作方法，其相较于所述第四实施例的电路板100的制作方法的区别在于：在第九步的快速蚀刻处理中进一步地去除填充于所述宽部107内且未被所述第二部分312覆盖的第一部分311。

本发明提供的柔性电路板的制作方法，运用填孔电镀技术，使得所述第一部分311及第二部分312填充于所述通孔102中，有效地电连接所述第一导电图形层120与第二导电图形层130。而且，在曝光显影时对应所述通孔102形成一孔径小于所述通孔102孔径的开口211，从而在镀铜时使得所述第二部分312的直径小于所述第一孔104的直径，避免了因孔环而占用柔性电路板的利用面积，从而增加了柔性电路板的排版利用率，满足了高密度线路制作需求，且保证了所述第二部分312与所述第一部分311有效连结，可使通孔在电路板表面的孔径减小，提高了电路板的良率也提高了柔性电路板的布线密度。另外，所述第一孔104为一阶梯孔，所述宽部107的孔径大于所述窄部108的孔径，使得在曝光显影时允许所述宽部107在一定范围内的偏位，降低了因为曝光偏位而导致的不良。

可以理解的是，以上实施例仅用来说明本发明，并非用作对本发明的限定。对于本领域的普通技术人员来说，根据本发明的技术构思做出的其它各种相应的改变与变形，都落在本发明权利要求的保护范围之内。