半导体微波加热装置的制作方法

文档序号:11962107阅读:来源:国知局
技术总结
在本发明公开的半导体微波加热装置中,腔体呈长方体状,腔体的长度为300mm‑360mm,宽度为220mm‑280mm,高度为66mm‑126mm,腔体左侧壁开设有第一馈入口,腔体右侧壁开设有第二馈入口。第一馈入口设置有第一天线,第一天线的第一天线杆的馈入端的圆心距腔体的后面的距离为68mm‑78mm,距腔体的顶面的距离为40mm‑50mm,第一天线杆为圆锥天线。第二馈入口设置有第二天线,第二天线的第二天线杆与第二天线的第三天线杆垂直连接,第二天线杆的馈入端的圆心距腔体的后面的距离为145mm‑155mm,距腔体的顶面的距离为55mm‑65mm,第三天线杆与腔体的底面平行并指向腔体的前面板。上述半导体微波加热装置满足上述条件,可在两个馈入口获得较佳的驻波值,第一天线与第二天线的隔离度满足设计要求。

技术研发人员:张斐娜;孙宁;刘民勇;刘建伟;夏然;王轩;贾逾泽;史龙
受保护的技术使用者:广东美的厨房电器制造有限公司;美的集团股份有限公司
文档号码:201610562645
技术研发日:2016.07.13
技术公布日:2016.12.07

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