内容以及权利要求书，在实践要求保护的本发明时，能够理解并实现对所公开的实施例的其他变型。
[0108]在权利要求书中，词语“包括”不排除其他元件或步骤，并且词语“一”或“一个”不排除多个。
[0109]单个单元或设备可以满足权利要求中记载的若干项目的功能。尽管在互不相同的从属权利要求中记载了特定措施，但是这并不指示不能有利地使用这些措施的组合。
[0110]如对第一图像和第二图像中的导管的端部、跟踪设备的端部和虚拟辐射源的识另IJ、这些元件之间的空间关系的确定、导管的总长度的确定、导管的姿态和形状的确定、靶区域的姿态和形状的确定、处置计划的确定等由一个或若干单元或设备来执行的过程可以通过任何其他数量的单元或设备来执行。根据所述校准方法的这些过程和/或对校准装置的控制，和/或根据所述处置计划确定方法的对所述处置计划确定装置的控制可以被实现为计算机程序和/或专用硬件的程序代码单元。
[0111]计算机程序可以被存储/分布在适合的介质上，例如与其他硬件一起提供或作为其他硬件的部分提供的光学存储介质或固态介质，但是也可以被以其他形式分布，例如经由因特网或其他的有线或无线的电信系统。
[0112]权利要求中的任何附图标记都不应被解释为对范围的限制。
[0113]本发明涉及一种用于校准用于将如辐射源的影响元件引入到目标中的系统，具体用于校准近距离放射治疗系统的校准装置。第一图像和第二图像示出如导管的略长的引入设备和被尽可能远地插入到引入设备的跟踪设备(如电磁可跟踪导丝)，以及引入设备和具有与影响元件相同的尺寸并且被尽可能远地插入到引入设备中的校准元件。跟踪设备与校准元件之间的空间关系是基于用于校准所述系统的图像来确定的。对这种空间关系的知晓允许准确地确定如近距离放射治疗处置计划的影响计划，并且根据所述影响计划来准确地对所述影响元件进行定位，这继而允许对所述目标的更准确的影响。
【主权项】
1.一种用于校准用于将影响元件引入到目标中的系统(I)的校准装置，其中，所述影响元件适于影响所述目标内的靶区域，并且其中，所述校准装置(7)包括: -图像提供单元(8)，其用于提供示出略长的引入设备(12)和跟踪设备(16)的第一图像以及示出所述引入设备(12)和校准元件(46)的第二图像，所述略长的引入设备适于被插入到所述目标⑵中以将所述影响元件(10)引入到所述目标(2)中，所述跟踪设备适于跟踪所述引入设备(12)并且适于被尽可能远地插入到所述引入设备(12)中，所述校准元件具有与所述影响元件(10)相同的尺寸并且要被尽可能远地插入到所述引入设备(12)中， -识别单元(70)，其用于识别所述第一图像和所述第二图像中的所述引入设备(12)的端部、所述跟踪设备(16)和所述校准元件(46)， -空间关系确定单元(71)，其用于根据所述第一图像和所述第二图像来确定所述跟踪设备(16)与所述校准元件(46)之间的空间关系，在所述第一图像和所述第二图像中，所述引入设备(12)的所述端部、所述跟踪设备(16)和所述校准元件(46)已经被识别。
2.根据权利要求1所述的校准装置，其中，所述空间关系确定单元(71)适于: -根据所述第一图像来确定所述引入设备(12)的所述端部的位置与所述跟踪设备(16)的位置之间的距离，在所述第一图像中所述引入设备(12)的所述端部和所述跟踪设备(16)已经被识别， -根据所述第二图像来确定所述引入设备(12)的所述端部的位置与所述校准元件(46)的位置之间的距离，在所述第二图像中所述引入设备(12)的所述端部和所述校准元件(46)已经被识别，并且 -基于所确定的所述引入设备(12)的所述端部的位置与所述跟踪设备(16)的位置之间的距离、以及所述引入设备(12)的所述端部的位置与所述校准元件(46)的位置之间的距离来确定所述跟踪设备(16)的位置与所述校准元件(46)的位置之间的距离。
3.根据权利要求1所述的校准装置，其中，所述校准装置(7)还包括: -超声图像提供单元(40、42)，其用于提供所述引入设备(12)的所述端部的超声图像，以及 -跟踪设备位置提供单元(6)，其用于在所述跟踪设备(16)已经被尽可能远地插入到所述引入设备(12)中时提供所述跟踪设备(16)的位置， 其中，所述识别单元(70)适于识别所述超声图像中所述引入设备(12)的所述端部，并且其中，所述空间关系确定单元(71)适于基于具有识别出的所述引入设备(12)的所述端部和所提供的所述跟踪设备(16)的位置的所述超声图像来更新所述跟踪设备(16)与所述校准元件(46)之间的所述空间关系。
4.根据权利要求3所述的校准装置，其中，所述跟踪设备位置提供单元(6)适于提供以电磁形式或光纤形状感测形式跟踪的所述跟踪设备(16)的位置。
5.根据权利要求3所述的校准装置，其中，所述跟踪设备位置提供单元(6)适于在所述跟踪设备(16)在所述引入设备(12)内被朝向和/或远离所述引入设备(12)内的最远位置移动的同时提供所述跟踪设备(16)的位置，并且其中，所述校准装置(7)还包括长度确定单元(45)，所述长度确定单元用于基于所提供的位置来确定所述引入设备(12)的长度。
6.根据权利要求1所述的校准装置，其中，所述图像提供单元适于提供放射照相图像作为所述第一图像和所述第二图像。
7.—种用于校准用于将影响元件引入到目标中的系统(I)的校准设备，其中，所述影响元件适于影响所述目标内的靶区域，并且其中，所述校准设备(55)包括射线透射的块(56)，所述射线透射的块具有: -能在放射照相图像中识别的不透射线的基准点(58、59)，以及-用于接收引入设备(12)的通道(57)，所述引入设备适于被插入到所述目标(2)中以将影响元件(10)引入到所述目标(2)中。
8.根据权利要求7所述的校准设备，其中，所述基准点(59)中的至少一些被平行于所述通道(57)布置。
9.根据权利要求7所述的校准设备，其中，所述块(56)包括具有不同直径的若干通道(57)。
10.根据权利要求7所述的校准设备，其中，所述块(56)是超声波兼容的。
11.一种用于确定影响计划的影响计划确定装置，所述影响计划用于影响目标内的靶区域，所述装置包括:-跟踪设备位置提供单元￠)，其用于提供引入设备(12)内跟踪设备(16)的位置，所述引入设备已经被插入到所述目标⑵中以将影响元件(10)引入到所述目标(2)中，其中，所述位置沿所述引入设备(12)的长度并在所述引入设备(12)内的最远位置处被确定，-引入设备姿态和形状确定单元(44)，其用于根据所提供的所述跟踪设备(16)的位置来确定所述引入设备(12)的姿态和形状， -靶区域姿态和形状提供单元(43)，其用于提供所述目标(2)内的所述靶区域的姿态和形状， -影响计划确定单元(39)，其用于依据所述引入设备(12)的姿态和形状、所述靶区域的姿态和形状、所述引入设备(12)内所述跟踪设备的最远位置、以及由根据权利要求1所述的校准装置(7)确定的所述跟踪设备(16)与所述校准元件(46)之间的空间关系来确定所述影响计划。
12.—种用于校准用于将影响元件引入到目标中的系统⑴的校准方法，其中，所述影响元件适于影响所述目标内的靶区域，并且其中，所述校准方法包括: -由图像提供单元提供示出略长的引入设备(12)和跟踪设备(16)的第一图像以及示出所述引入设备(12)和校准元件(46)的第二图像，所述略长的引入设备适于被插入到活体目标⑵中以将影响元件(10)引入所述活体目标(2)内，所述跟踪设备适于跟踪所述引入设备(12)并且被尽可能远地插入到所述引入设备(12)中，所述校准元件具有与所述影响元件(10)相同的尺寸并且被尽可能远地插入到所述引入设备(12)中， -由识别单元(70)识别所述第一图像和所述第二图像中的所述引入设备(12)的端部、所述跟踪设备(16)和所述校准元件(46)， -由空间关系确定单元(71)根据所述第一图像和所述第二图像来确定所述跟踪设备(16)与所述校准元件(46)之间的空间关系，在所述第一图像和所述第二图像中，所述引入设备(12)、所述跟踪设备(16)和所述校准元件(46)已经被识别。
13.一种用于确定影响计划的影响计划确定方法，所述影响计划用于影响目标内的靶区域，所述影响计划确定方法包括: -由跟踪设备位置提供单元(6)提供引入设备(12)内跟踪设备(16)的位置，所述引入设备已经被插入到所述目标⑵中以将影响元件(10)引入到所述目标⑵中，其中，所述位置已经沿所述引入设备(12)的长度并在所述引入设备(12)内的最远位置处被确定， -由引入设备姿态和形状确定单元(44)根据提供的所述跟踪设备(16)的位置来确定所述引入设备(12)的姿态和形状， -由靶区域姿态和形状提供单元提供所述目标(2)内所述靶区域的姿态和形状， -由影响计划确定单元依据所述引入设备(12)的姿态和形状、所述靶区域的姿态和形状、各自的引入设备(12)内的所述跟踪设备(16)的最远位置、以及由根据权利要求1所述的校准装置(7)确定的所述跟踪设备(16)与所述校准元件(46)之间的空间关系来确定所述影响计划。
14.一种用于校准用于将影响元件引入到目标中的系统的校准计算机程序，其中，所述影响元件适于影响所述目标内的靶区域，所述校准计算机程序包括程序代码单元，所述程序代码单元用于在所述校准计算机程序在控制根据权利要求1所述的校准装置的计算机上运行时，令所述校准装置执行根据权利要求12所述的校准方法的步骤。
15.一种用于确定影响计划的影响计划确定计算机程序，所述影响计划用于影响目标内的靶区域，所述影响计划确定计算机程序包括程序代码单元，所述程序代码单元用于在所述影响计划确定计算机程序在控制根据权利要求11所述的影响计划确定装置的计算机上运行时令所述影响计划确定装置执行根据权利要求13所述的影响计划确定方法的步骤。
【专利摘要】本发明涉及一种用于校准用于将如辐射源的影响元件引入到目标中的系统，具体用于校准近距离放射治疗系统的校准装置。第一图像和第二图像示出如导管的略长的引入设备(12)和被尽可能远地插入到所述引入设备的跟踪设备(16)，如电磁可跟踪导丝，以及所述引入设备和具有与所述影响元件相同的尺寸并且被尽可能远地插入到所述引入设备中的校准元件(46)。所述跟踪设备与所述校准元件之间的空间关系是基于用于校准所述系统的图像来确定的。对这种空间关系的知晓允许准确地确定如近距离放射治疗处置计划的影响计划，并且根据所述影响计划准确地对所述影响元件进行定位，这继而允许对所述目标的更准确的影响。
【IPC分类】A61N5-10
【公开号】CN104837524
【申请号】CN201380063705
【发明人】S·巴拉特, J·克吕克尔, A·拉维, E·德赫甘马尔瓦斯特
【申请人】皇家飞利浦有限公司, 新宁健康医学中心
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2013年11月20日
【公告号】WO2014087289A2, WO2014087289A3