专利名称：液体处理装置和液体处理方法
技术领域：
本发明涉及用于将清洗液供给到由半导体晶圆等构成的被处理体的周缘部的液体处理装置和液体处理方法。
背景技术：
以往公知有一种基板处理装置(液体处理装置)(参照日本特开2006-41444号公 报)，该基板处理装置包括用于保持半导体晶圆等基板(被处理体)的基板保持部件(保 持部)；使由基板保持部件保持的基板旋转的旋转部件(旋转驱动部)；以及用于将处理液 供给到旋转的基板的上正面周缘部的喷嘴。不过，在日本特开2006-41444号公报所示那样的现有技术的结构中，用于处理边 缘部的处理空间被开放。因此，难以控制处理空间内的气氛，并且，清洗液的蒸发量变多。另 夕卜，需要用能够包围晶圆的周缘外方这样的大小设置用于回收被甩出的处理液的回收罩， 导致液体处理装置的大小变大。
发明内容
本发明提供一种能够容易控制被处理体的周缘部的处理空间的气氛、并且能够使水平方向的大小变小，还能够缩小用于处理被处理体的处理空间的液体处理装置以及使用 了这样的液体处理装置的液体处理方法。本发明的液体处理装置，包括第二壳体；第一壳体，其与上述第二壳体相对配置；保持部，其被配置在上述第二壳体的内方，用于保持被处理体；旋转驱动部，其用于使由上述保持部保持的上述被处理体旋转；正面侧处理液供给喷嘴，其用于将处理液供给到由上述保持部保持的上述被处理体的正面的周缘部，以及存储部，其被配置在由上述保持部保持的上述被处理体的背面侧，用于存储经过了该被处理体的处理液，上述第一壳体和上述第二壳体分别能向一个方向移动，该第一壳体和该第二壳体能抵接和分离开。本发明的液体处理方法是使用液体处理装置的液体处理方法，该液体处理装置包括第二壳体；第一壳体，其与上述第二壳体相对配置；保持部，其被配置在上述第二壳体 的内方，用于保持被处理体；以及存储部，其被配置在由该保持部保持的上述被处理体的背 面侧，该液体处理方法包括上述第一壳体和上述第二壳体互相分离开；由上述保持部保持上述被处理体；上述第一壳体和上述第二壳体分别互相接近而抵接；
使由上述保持部保持的上述被处理体旋转，将处理液供给到由上述保持部保持的上述被处理体的正面的周缘部；由上述存储部存储经过了上述被处理体的处理液。根据本发明，第一壳体和第二壳体分别能向一个方向移动，第一壳体和第二壳体 能够抵接和分离开。因此，能够缩小液体处理装置的水平方向的大小。另外，通过使第一壳 体和第二壳体抵接，形成用于处理晶圆的周缘部的处理空间，因此能缩小处理空间。因此， 能容易地控制处理空间内的气氛，并且，也能减少清洗液的蒸发量。
图1是表示本发明的实施方式的液体处理装置的概略纵剖视图。图2是表示本发明的实施方式的液体处理装置的俯视剖视图。图3是表示本发明的实施方式的液体处理装置的驱动状态的概略纵剖视图。
具体实施例方式实施方式下面参照附图对本发明的液体处理装置的实施方式进行说明。在此，图1 图 3(a)、(b)是表示本发明的实施方式的图。如图1所示，液体处理装置包括下方罩(第二壳体)20;上方罩(第一壳体)10， 其与下方罩20相对配置，能与下方罩20抵接；保持部1，其被配置在下方罩20的内方，用 于保持作为被处理体的半导体晶圆W(以下称为晶圆W)；旋转轴5，其从保持部1向下方延 伸；旋转驱动部60，其通过使该旋转轴5旋转而使由保持部1保持的晶圆W旋转。另外，保 持部1利用真空吸附来保持晶圆W。其中，如图1所示，旋转驱动部60包括被配置在旋转轴5的周缘外方的皮带轮 62 ；卷绕在该皮带轮62上的驱动带63 ；通过对驱动带63施加驱动力而借助皮带轮62使旋 转轴5旋转的电动机61。另外，在旋转轴5的周缘外方配置有轴承66。另外，如图1所示，在上方罩10上设有由0型密封圈等构成的密封构件30。另外， 上方罩10和下方罩20分别能向上下方向移动，上方罩10和下方罩20能相抵接、也能相离 开(参照图3的(a)、(b))。另外，上方罩10和下方罩20相抵接时，上方罩10和下方罩20 之间被密封构件30密封。另外，在本实施方式中，采用在上方罩10上设置密封构件30的 方式来进行说明(参照图3的(a))，但不限于此，也可以在下方罩20上设置密封构件30。另外，如图1所示，上方罩10在与由保持部1保持的晶圆W的正面的周缘部相对 的位置具有正面侧倾斜部11，该正面侧倾斜部11以随着朝向晶圆W的周缘方向去越来越远 离晶圆W的方式向上方倾斜。另外，在该正面侧倾斜部11上设有长孔10a、10b，在该长孔 IOaUOb内设有用于将清洗液(处理液)供给到晶圆W的正面的周缘部的正面侧处理液供 给喷嘴51a、52a。另外，在图1中，晶圆W的正面位于上方侧，晶圆W的背面位于下方侧。另外，如图2所示，在正面侧处理液供给喷嘴51a、52a上设有水平方向驱动部41a、 41b。并且，正面侧处理液供给喷嘴51a、52a能利用该水平方向驱动部41a、41b在长孔10a、 IOb内沿水平方向移动。 不过，在本申请中所谓清洗液是指药液、冲洗(rinse)液。并且，作为药液，例如能采用稀氟酸等。另一方面，作为冲洗液例如能采用纯水(DIW)等。
另外，如图2所示，该正面侧处理液供给喷嘴51a、52a由用于将从药液供给部(未图示)供给的药液供给到晶圆W的正面上的正面侧药液供给喷嘴51a、以及用于将从冲洗 液供给部(未图示)供给的冲洗液供给到晶圆W的正面上的正面侧冲洗液供给喷嘴52a构 成。另外，如图2所示，正面侧药液供给喷嘴51a借助连结构件51与水平方向驱动部 41a相连结，通过使该连结构件51沿水平方向移动，使正面侧药液供给喷嘴51a沿水平方向 移动。另外同样，正面侧冲洗液供给喷嘴52a借助连结构件52与水平方向驱动部41b相连 结，通过使该连结构件52沿水平方向移动，使正面侧冲洗液供给喷嘴52a沿水平方向移动。 并且，正面侧冲洗液供给喷嘴52a能比正面侧药液供给喷嘴51a移动到更靠晶圆W的内侧 (长孔IOb比长孔IOa延伸到晶圆W的内侧)。因此，正面侧冲洗液供给喷嘴52a能够将冲 洗液供给到比正面侧药液供给喷嘴51a将药液供给到晶圆W上的位置更靠晶圆W的内侧的 位置。另外，如图1所示，下方罩20在与由保持部1保持的晶圆W的背面的周缘部相对 的位置具有背面侧倾斜部27，该背面侧倾斜部27以随着朝向晶圆W的周缘方向去越来越远 离晶圆W的方式向下方倾斜。另外，在该背面侧倾斜部27中设有长孔20a、20b，在该长孔 20a、20b内设有用于将清洗液供给到晶圆W的背面的周缘部的背面侧处理液供给喷嘴56a、 57a0另外，背面侧药液供给喷嘴56a借助连结构件56与水平方向驱动部42a相连结， 通过使该连结构件56沿水平方向移动，使背面侧药液供给喷嘴56a沿水平方向移动。另外， 同样地，背面侧冲洗液供给喷嘴57a借助连结构件57与水平方向驱动部42b相连结，通过 使该连结构件57沿水平方向移动，使背面侧冲洗液供给喷嘴57a沿水平方向移动。另外，该背面侧处理液供给喷嘴56a、57a也由用于将从药液供给部(未图示)供 给的药液供给到晶圆W的背面的背面侧药液供给喷嘴56a、以及用于将从冲洗液供给部(未 图示)供给的冲洗液供给到晶圆W的背面的背面侧冲洗液供给喷嘴57a构成。并且，背面 侧冲洗液供给喷嘴57a能够比背面侧药液供给喷嘴56a移动到更靠晶圆W的内侧，能够将 冲洗液供给到比背面侧药液供给喷嘴56a将药液供给到晶圆W上的位置更靠晶圆W的内侧 的位置。另外，如图1所示，下方罩20包括正面侧引导部22，其被配置在由保持部1保持 的晶圆W的正面侧，用于对经过了晶圆W的正面的清洗液进行引导；背面侧引导部21，其被 配置在由保持部1保持的晶圆W的背面侧，对经过了晶圆W的背面的清洗液进行引导；存储 部23，其用于在该背面侧引导部21的下方侧(与上方罩10侧相反的一侧)对由正面侧引 导部22和背面侧引导部21引导的清洗液进行存储。另外，背面侧引导部21朝着周缘外方 突出，使得背面侧引导部21与下方罩20的内壁20i之间的间隙G变小。另外，在本实施方式中，做成使背面侧倾斜部27同时作为背面侧引导部21的结 构。不过，不限于此，也可以使背面侧倾斜部27和背面侧引导部21独立地构成，在这种情 况下，背面侧引导部21位于背面侧倾斜部27的周缘外方。另外，如图1所示，在下方罩20的正面侧引导部22的内方设有突起部29，该突起 部29用于防止被供给到晶圆W上的清洗液溅起而飞散。
另外，如图1所示，在下方罩20上设有背面侧氮气供给部(氮气供给部)47，该背面侧氮气供给部(氮气供给部)47用于将氮气供给到由保持部1保持的晶圆W的背面侧。另外，在背面侧氮气供给部47上设有加热部31，该加热部31用于对从该背面侧氮气供给部47供给的氮气进行加热。另外，如图1所示，在上方罩10的中央部设有正面侧氮气供给口 46a，该正面侧氮气供给口46a用于将氮气供给到由保持部1保持的晶圆W的正面侧。并且，该正面侧氮气供给口 46a与用于供给氮气的正面侧氮气供给部46相连结。另外，上方罩10具有下方倾斜部12，该下方倾斜部12的下表面向下方倾斜，使晶圆W和上方罩10之间的间隙缩小。另外，如图2所示，下方罩20上连结有排出管(排出部)36，该排出管(排出部)36在上方罩10和下方罩20之间被密封时，对由上方罩10和下方罩20形成的空间内的气体(氮气等)进行排气，并且对药液、冲洗液等清洗液进行排液。另外，在该排出管36的下游侧设有气液分离部(未图示)，该气液分离部用于对氮气等气体以及药液、冲洗液等清洗液(液体)进行分离。接着，对由这样的结构构成的本实施方式的作用进行说明。首先，上方罩10移动到上方而位于上方位置，并且下方罩20移动到下方而位于下方位置(参照图3的(a))(离隔工序)。之后，晶圆W被晶圆输送机械手(未图示)载置到保持部1上，由该保持部1保持(参照图3的(a))(保持工序)。这样，在本实施方式中，上方罩10移动到上方，并且，下方罩20移动到下方，因此能利用晶圆输送机械手容易地将晶圆W载置在保持部1上。因此，能容易地使晶圆W的周缘部位于规定的处理位置(与正面侧处理液供给喷嘴51a、52a和背面侧处理液供给喷嘴56a、57a相对的位置)。接着，上方罩10移动到下方而位于下方位置，并且下方罩20移动到上方而位于上方位置，上方罩10和下方罩20抵接(参照图3的(b))(抵接工序)。此时，上方罩10和下方罩20之间被设置在上方罩10上的密封构件30密封。接着，旋转轴5被旋转驱动部60驱动而旋转，从而被保持部1保持的晶圆W被旋转(参照图3的(b))(旋转工序)。此时，从电动机61借助驱动带63对皮带轮62施加驱动力，由此旋转轴5被驱动而旋转。接着，从正面侧氮气供给部46供给的氮气经由被设置在上方罩10上的正面侧氮气供给口 46a朝向晶圆W的正面侧供给氮气。此时，从背面侧氮气供给部47也朝向晶圆W的背面侧供给氮气。另外，以下的工序在朝向晶圆W的正面和背面供给氮气的期间进行。接着，从正面侧药液供给喷嘴51a朝向晶圆W的正面供给药液(正面侧药液供给工序)。另外，在这样地从正面侧药液供给喷嘴51a供给药液之前，能够利用水平方向驱动部41a使正面侧药液供给喷嘴51a沿着长孔IOa移动来进行定位(参照图2)。另外，不限于此，在从正面侧药液供给喷嘴51a供给药液期间，也可以利用水平方向驱动部41a使正面侧药液供给喷嘴51a沿着长孔IOa移动。在此，上方罩10在与由保持部1保持的晶圆W的正面的周缘部相对的位置具有正面侧倾斜部11，该正面侧倾斜部11随着朝向晶圆W的周缘方向越来越远离晶圆W地向上方倾斜，并且，在该正面侧倾斜部11上设有正面侧药液供给喷嘴51a (参照图1)。
这样，正面侧倾斜部11随着朝向晶圆W的周缘方向越来越远离W地向上方倾斜(随着朝向晶圆W的中心接近晶圆W地向下方倾斜)，因此能使从正面侧药液供给喷嘴51a 供给的药液以晶圆W的周缘部充满液体的状态处理该晶圆W的周缘部。因此，能防止处理 液通过与上方罩10接触而进入到比规定的范围更靠晶圆W的中心侧。结果，能高精度地对 晶圆W的正面中的、仅对预先规定的范围进行处理。另外，通常在晶圆W的正面侧形成有图 案，因此在处理晶圆W的周缘部时，要求不对预先规定的范围之外进行误处理，根据本实施 方式，能可靠地应对这样的要求。另外，能够在晶圆W的正面和上方罩10之间形成朝着晶圆W的周缘变宽的间隙(参照图1)，因此能以保持使药液附着在晶圆W的正面上的状态使晶圆W旋转。因此，能用 药液处理晶圆W的正面一定时间，能可靠地处理晶圆W的正面。另外，清洗液的液膜在作用 在晶圆W上的离心力的作用下而使厚度随着朝向周缘方向逐渐变厚，因此如本实施方式这 样优选形成随着朝向晶圆W的周缘变宽的间隙。并且，晶圆W的正面上的药液附着在上方罩10上，由此能够防止对下次以后处理的晶圆W带来不良影响。即，附着在晶圆W的正面上的药液附着在上方罩10的底面等上 时，就作为垃圾而残留，有时会对下次以后处理的晶圆W带来不良影响。不过，在本实施方 式中，在晶圆W的正面和上方罩10之间能形成随着朝向晶圆W的周缘变宽的间隙，因此，能 够防止晶圆W的正面上的药液附着在上方罩10上。因此，能防止对下次以后处理的晶圆W 带来不良影响。另外，能使正面侧药液供给喷嘴51a沿着长孔IOa移动，但该长孔IOa只设置在正面侧药液供给喷嘴51a移动的范围内即可。因此，能够缩小设置在上方罩10上的长孔IOa 的大小。结果，能防止因晶圆W旋转而产生的气流的流动在晶圆W的正面侧紊乱，进而能够 高精度地对晶圆W进行处理。在上述的正面侧药液供给工序期间，也从背面侧药液供给喷嘴56a朝着晶圆W的 背面供给药液(背面侧药液供给工序)。另外，这样从背面侧药液供给喷嘴56a供给药液 之前，能利用水平方向驱动部42a使背面侧药液供给喷嘴56a沿着长孔20a移动来进行定 位。另外，不限于此，在从背面侧药液供给喷嘴56a供给药液期间，也能利用水平方向驱动 部42a使背面侧药液供给喷嘴56a沿着长孔20a移动。在此，下方罩20也在与由保持部1保持的晶圆W的背面的周缘部相对的位置具有 背面侧倾斜部27，该背面侧倾斜部27随着朝向晶圆W的周缘方向越来越远离晶圆W地向下 方倾斜，且在该背面侧倾斜部27上设有背面侧药液供给喷嘴56a (参照图1)。因此，能防止从背面侧药液供给喷嘴56a供给的药液在表面张力等的作用下进入 到比规定的范围更靠晶圆W的中心侧。结果，能够高精度地对晶圆W的背面中的、仅预定的 规定的范围进行处理。另外，背面侧药液供给喷嘴56a能够沿着长孔20a移动，但该长孔20a只设置在背 面侧药液供给喷嘴56a移动的范围内即可。因此，与设置在上方罩10上的长孔IOa同样地 能够缩小设置在下方罩20上的长孔20a的大小。结果，能防止晶圆W旋转时产生的气流的 流动在晶圆W的背面侧紊乱，进而能高精度地对晶圆W进行处理。并且，如上所述，从正面侧药液供给喷嘴51a和背面侧药液供给喷嘴56a供给的药 液被存储于存储部23，之后，由排出管36排出。
接着，从正面侧冲洗液供给喷嘴52a朝向晶圆W的正面供给冲洗液(正面侧冲洗液供给工序)。此时，与正面侧药液供给工序同样地能够防止从正面侧冲洗液供给喷嘴52a供给的冲洗液在表面张力等的作用下进入到比规定的范围更靠晶圆W的中心侧。因此，能够将 冲洗液只供给到晶圆W的正面中的预先规定的范围内。结果，能防止冲洗液残留在晶圆W 上而在晶圆W的正面上形成水印。另外，也从背面侧冲洗液供给喷嘴57a将冲洗液供给到晶圆W的背面上(背面侧冲洗液供给工序)。并且，这样地从正面侧冲洗液供给喷嘴52a和背面侧冲洗液供给喷嘴57a供给的冲洗液被存储于存储部23，之后，由排出管36排出。在此，与背面侧药液供给工序同样地能够防止从背面侧冲洗液供给喷嘴57a供给的冲洗液在表面张力等的作用下进入到比规定的范围更靠晶圆W的中心侧。因此，能够将 冲洗液供给到晶圆W的背面中的预先规定的范围内。结果，能够防止冲洗液残留在晶圆W 上而在晶圆W的背面上形成水印等。另外，正面侧冲洗液供给喷嘴52a能够比正面侧药液供给喷嘴51a移动到更靠晶圆W的内方侧，能够将冲洗液供给到比正面侧药液供给喷嘴51a将药液供给到晶圆W上的 位置更靠晶圆W内方侧(参照图2)。因此，附着在晶圆W的正面上的药液能被从晶圆W的内方侧供给的冲洗液可靠地 除去。另外，背面侧冲洗液供给喷嘴57a也能够比背面侧药液供给喷嘴56a移动到更靠 晶圆W的内方侧，能够将冲洗液供给到比背面侧药液供给喷嘴56a将药液供给到晶圆W上 的位置更靠晶圆W的内方侧。因此，附着在晶圆W的背面上的药液能被从晶圆W的内方侧 供给的冲洗液可靠地除去。另外，也能够与长孔IOa和长孔20a同样地缩小长孔IOb和长孔20b的大小。因 此，能够防止在晶圆W旋转时产生的气流的流动在晶圆W的正面侧和背面侧紊乱。不过，在本实施方式中，对采用正面侧药液供给喷嘴51a和正面侧冲洗液供给喷 嘴52a独立地构成、并且背面侧药液供给喷嘴56a和背面侧冲洗液供给喷嘴57a独立地构 成的方式进行了说明，但不限于此。例如，药液的浓度小时，也可以从相同的供给部供给药 液和冲洗液。另外，即使是这样的情况下，也优选被供给冲洗液的晶圆W上的位置比被供给 药液的晶圆W上的位置更靠内方侧。另外，在上述的背面侧药液供给工序和背面侧冲洗液供给工序中，被加热部31加 热的氮气供给到晶圆W的背面侧。因此，能够在利用被加热的氮气使晶圆W升温的状态下 对晶圆W的背面进行处理。另外，上述说明中，对利用被加热部31加热的氮气使供给到晶圆W的背面侧的药 液和冲洗液升温的方式进行了说明，但不限于此。例如，替代加热氮气的加热部31，也可以 设置直接使供给到背面侧的药液和冲洗液升温的加热部，另外，也可以设置使供给到晶圆W 的正面侧的药液和冲洗液升温的加热部。另外，在上述的正面侧药液供给工序、背面侧药液供给工序、正面侧冲洗液供给工 序和背面侧冲洗液供给工序中，始终将氮气持续地供给到晶圆W的正面侧和背面侧。因此，能够可靠地防止被供给到晶圆W上的药液和冲洗液进入到比规定的范围更靠晶圆W的中心 侧。另外，如图1所示，上方罩10具有下方倾斜部12，该下方倾斜部12使晶圆W和上 方罩10之间的间隙与晶圆W的中心部相比在周缘部的方向上缩小，因此，在正面侧药液供 给工序和正面侧冲洗液供给工序中，能够使从正面侧氮气供给口46a供给的氮气的流速随着朝向晶圆W的周缘方向变快。因此，能可靠地防止被供给到晶圆W上的药液和冲洗液进入到比规定的范围更靠晶圆W的中心侧。另外，如图1所示，背面侧引导部21朝向周缘外方突出，使背面侧引导部21和下 方罩20的内壁20i之间的间隙G缩小。因此，将正面侧药液供给工序、背面侧药液供给工序、正面侧冲洗液供给工序和背面侧冲洗液供给工序中使用的氮气和清洗液引导到存储部23时，其流路被缩小。结果，能够利用排出管36将这些氮气、清洗液均勻地排出(参照图 2)。另外，如图2所示，排出管36沿着晶圆W的旋转方向排出被引导到存储部23的氮气、清洗液。因此，利用排出管36，能可靠地排出氮气、清洗液。如上所述那样开始将冲洗液供给到晶圆W的正面和背面上，在经过规定的时间时，就停止从冲洗液供给部(未图示)供给冲洗液。之后，在旋转驱动部60的驱动下，晶圆 W高速旋转，晶圆W的周缘部被干燥。(干燥工序)接着，上方罩10移动到上方而位于上方位置，并且下方罩20移动到下方而位于下方位置(参照图3的(a))(离开工序)。之后，利用晶圆输送机械手(未图示)将晶圆W从 保持部1取掉(取出工序)。这样，在本实施方式中，上方罩10移动到上方，并且，下方罩20移动到下方，因此 能利用晶圆输送机械手容易地将载置在保持部1上的晶圆W取掉。不过，在本实施方式中，通过上方罩10和下方罩20沿上下方向移动来进行晶圆W 的取出和放入，不需要如现有技术那样用围着晶圆W的周缘外方这样的大小来设置用于对在晶圆W上甩开的处理液进行回收的回收罩，因此能缩小液体处理装置的水平方向上的大小。另外，通过上方罩10和下方罩20抵接，在上方罩10和下方罩20之间形成处理空间，因此能够缩小用于处理晶圆W的周缘部的处理空间。因此，能容易地控制该处理空间内的气氛，并且，能减少清洗液的蒸发量，也能减少氮气的供给量和排气量。另外，在上方罩10和下方罩20抵接时，上方罩10和下方罩20之间被密封构件30密封，因此能防止药液流出到外部。因此，能够更可靠地防止药液附着在外围单元上，能更 加可靠地防止药液对人体产生不良影响。并且，能够这样防止药液流出到外部，因此只要对上方罩10、下方罩20、正面侧处理液供给喷嘴51a、52a和背面侧处理液供给喷嘴56a、57a实施耐药性即可，这些以外的部件可以不实施耐药性，因此能降低液体处理装置的制造成本。不过，在本实施方式中，由正面侧药液供给工序和正面侧冲洗液供给工序构成正面侧处理液供给工序，由背面侧药液供给工序和背面侧冲洗液供给工序构成背面侧处理液供给工序。关联申请的互相参照本申请对在2008年6月5日申请的日本特愿2008-148163号和日本特愿2008-148175号主张优先权，参照该日本特愿2008-148163号和日本特愿2008-148175号的全部内容被并将该全部内容编入本说明书中。
权利要求
一种液体处理装置，其包括第二壳体；第一壳体，其与上述第二壳体相对配置；保持部，其被配置在上述第二壳体的内方，用于保持被处理体；旋转驱动部，其用于使由上述保持部保持的上述被处理体旋转；正面侧处理液供给喷嘴，其用于将处理液供给到由上述保持部保持的上述被处理体的正面的周缘部；存储部，其被配置在由上述保持部保持的上述被处理体的背面侧，用于存储经过了该被处理体的处理液，上述第一壳体和上述第二壳体分别能向一个方向移动，该第一壳体和该第二壳体能抵接和分离开。
2.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于，该液体处理装置还具有背面侧引导部，该背面侧引导部在由上述保持部保持的上述被 处理体的背面侧朝着周缘外方突出地配置，用于对经过了该被处理体的处理液进行引导，上述存储部位于上述背面侧引导部的与上述第一壳体侧相反的一侧，用于存储被该背 面侧引导部引导的处理液。
3.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于，该液体处理装置还具有密封构件，该密封构件被配置在上述第一壳体和上述第二壳体 之间，用于对该第一壳体和该第二壳体之间进行密封。
4.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于，该液体处理装置还具有正面侧引导部，该正面侧引导部被配置在由上述保持部保持的 上述被处理体的正面侧，用于对经过了上述被处理体的正面的处理液进行引导。
5.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于，该液体处理装置还具有加热部，该加热部用于对上述被处理体进行加热。
6.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于， 该液体处理装置还具有氮气供给部和加热部，该氮气供给部用于将氮气供给到由上述保持部保持的上述被处理体上； 该加热部用于对从上述氮气供给部供给的氮气进行加热。
7.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于，该液体处理装置还具有排出部，该排出部用于排出由上述第一壳体和上述第二壳体形 成的空间内的气体或液体，上述排出部沿着上述被处理体的旋转方向排出上述空间内的气体或液体。
8.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于，上述第一壳体在与由上述保持部保持的上述被处理体的正面的周缘部相对的位置具 有正面侧倾斜部，该正面侧倾斜部以随着朝向该被处理体的周缘方向去越来越远离该被处 理体的方式倾斜，上述正面侧处理液供给喷嘴被设置在上述正面侧倾斜部上。
9.根据权利要求8所述的液体处理装置，其特征在于，上述第二壳体在与由上述保持部保持的上述被处理体的背面的周缘部相对的位置具有背面侧倾斜部和背面侧处理液供给喷嘴，该背面侧倾斜部以随着朝向该被处理体的周缘 方向去越来越远离该被处理体的方式倾斜，该背面侧处理液供给喷嘴被设置在该背面侧倾 斜部上，用于将处理液供给到上述被处理体的背面的周缘部上。
10.根据权利要求8所述的液体处理装置，其特征在于，上述正面侧处理液供给喷嘴由用于供给药液的正面侧药液供给喷嘴和用于供给冲洗 液的正面侧冲洗液供给喷嘴构成，上述正面侧冲洗液供给喷嘴将冲洗液供给到上述被处理体上的位置比上述正面侧药 液供给喷嘴将药液供给到上述被处理体上的位置更靠内方侧。
11.一种液体处理方法，其是使用液体处理装置的液体处理方法，该液体处理装置包 括第二壳体；第一壳体，其与上述第二壳体相对配置；保持部，其被配置在上述第二壳体 的内方，用于保持被处理体；以及存储部，其被配置在由上述保持部保持的上述被处理体的 背面侧，该液体处理方法包括上述第一壳体和上述第二壳体互相分离开； 由上述保持部保持上述被处理体； 上述第一壳体和上述第二壳体分别互相接近而抵接； 使由上述保持部保持的上述被处理体旋转，将处理液供给到由上述保持部保持的上述被处理体的正面的周缘部； 由上述存储部存储经过了上述被处理体的处理液。
全文摘要
本发明提供一种液体处理装置和液体处理方法，液体处理装置包括第二壳体(20)；能与第二壳体(20)抵接的第一壳体(10)；用于保持被处理体(W)的保持部(1)；使由保持部(1)保持的被处理体(W)旋转的旋转驱动部(60)；将处理液供给到由保持部(1)保持的被处理体(W)的正面的周缘部的正面侧处理液供给喷嘴(51a、52a)；被配置在由保持部(1)保持的被处理体(W)的背面侧并用于存储经过了被处理体(W)的处理液的存储部(23)。第一壳体(10)和第二壳体(20)分别能向一个方向移动，第一壳体(10)和第二壳体(20)能抵接和分离开。
文档编号G03F7/20GK101802982SQ200980100353
公开日2010年8月11日 申请日期2009年5月25日 优先权日2008年6月5日
发明者天野嘉文, 金子聪 申请人:东京毅力科创株式会社