光调节装置、光调节装置的基板间距离测定方法与流程

本发明涉及在基板彼此之间的空间配置有光调节部的光调节装置、光调节装置的基板间距离测定方法。

背景技术：

具有摄像功能的摄像设备在各种领域中被广泛地使用，但其中有形状比较小的小型摄像设备的领域。作为该小型摄像设备的几个例子，列举出包含显微视频内窥镜的电子内窥镜、具备摄像功能的光学显微镜、具备摄像功能的便携设备等。

以往的小型摄像设备，为了优先实现小型化，采用固定焦点透镜、固定孔径光阑、固定特性滤光器等，作为透镜、光圈、光学滤光器等光学要素。

相对于此，近年来，在该小型摄像设备中也要求高画质化，采用聚焦透镜、可变光圈、可变特性滤光器等作为上述的光调节装置的光学要素的要求、即作为进行光的调节的光调节装置发挥功能的要求提高。

因此，提出了很多谋求光调节装置的小型化的技术以便能够适用于小型摄像设备。

作为一例，在例如日本国特开平10－20360号公报中，记载了在上盖与下盖之间配置线圈体并使通过由此线圈体产生的磁场被极化为二极的转子旋转的构成。在此转子上通过旋转轴以一体转动的方式安装有光圈叶片部件，转子旋转，从而光圈叶片部件在光轴上出入，进行入射光的调节。

在为如上述日本国特开平10－20360号公报所记载那样的、以叶片部件被2枚基板所夹的状态进行旋转动作的构成的情况下，在2枚基板间构成的空间的间隔的精度对于进行顺畅的旋转动作是重要的。然而，在该公报所记载的构成中，在组装成装置后，不能短时间且高精度地测定叶片部件动作的空间的间隔，不能容易地确认必要的精度的空间是否得以确保。

技术实现要素：

本发明是有鉴于上述情况而做出的，目的在于，提供在组装成光调节装置后，能够以短时间、高精度地测定基板间的距离的光调节装置、光调节装置的基板间距离测定方法。

用于解决课题的手段

本发明的某方式的光调节装置，具备：第1基板；第2基板，配设为基板面与所述第1基板的基板面对置；间隔件，将所述第1基板与所述第2基板隔开，以在对置的所述基板面彼此之间构成空间；光调节部，以能够移动的方式配置于所述空间，用于调节光；及被测定部，被设置为，使为了测定所述空间的间隔而从与该基板面垂直的测定方向照射的测定光在该测定方向上通过所述第1基板与所述第2基板中的一方并到达另一方。

本发明的某方式的光调节装置的基板间距离测定方法，该光调节装置具备：第1基板；第2基板，配设为基板面与所述第1基板的基板面对置；间隔件，将所述第1基板与所述第2基板隔开，以在对置的所述基板面彼此之间构成空间；光调节部，以能够移动的方式配置于所述空间，用于调节光；及被测定部，被设置为，使为了测定所述空间的间隔而从与该基板面垂直的测定方向照射的测定光在该测定方向上通过所述第1基板与所述第2基板中的一方并到达另一方，所述被测定部具有用于测定从所述第1基板侧到所述间隔件的距离的第1被测定部、及用于测定从所述第1基板侧到所述第2基板的距离的第2被测定部，该光调节装置的基板间距离测定方法具有：通过经由所述第1被测定部照射测定光来测定距所述间隔件的距离的步骤；通过经由所述第2被测定部照射测定光来测定距所述第2基板的距离的步骤；及通过从距所述第2基板的距离减去距所述间隔件的距离来取得所述空间的间隔的步骤。

附图说明

图1是将本发明的实施方式1中的光调节装置的基本的构成在光轴方向上拉开表示的分解立体图。

图2是表示上述实施方式1中的光调节装置的基本的构成的立体图。

图3是表示在上述实施方式1中的光调节装置的第1基板与第2基板之间构成的空间的样子的剖视图。

图4是将上述实施方式1中的光调节装置的具体的构成在光轴方向上拉开表示的分解立体图。

图5是表示上述实施方式1中的光调节装置的具体的构成的立体图。

图6是用于说明上述实施方式1中的光调节装置的扫描方向的剖视图。

图7是表示对上述实施方式1的光调节装置进行扫描得到的输出波形的线图。

图8是表示上述实施方式1中的光调节装置的基板间距离测定方法的流程图。

图9是用于说明上述实施方式1中的光调节装置的第1变形例的剖视图。

图10是用于说明上述实施方式1中的光调节装置的第2变形例的剖视图。

图11是表示本发明的实施方式2中的光调节装置的构成的立体图。

图12是表示本发明的实施方式3中的光调节装置的构成的立体图。

图13是表示上述实施方式3的光调节装置中的第1基板、第2基板及间隔件的图12的13－13剖视图。

图14是表示本发明的实施方式4的光调节装置中的第1基板、第2基板及间隔件的剖视图。

图15是表示与上述各实施方式关联的参考例1的光调节装置中的第1基板、第2基板及间隔件的剖视图。

图16是表示与上述各实施方式关联的参考例2的光调节装置中的第1基板、第2基板及间隔件的剖视图。

图17是表示与上述各实施方式关联的参考例3的光调节装置中的第1基板、第2基板及间隔件的剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施的方式进行说明。

[实施方式1]

图1至图10表示本发明的实施方式1。

首先，参照图1～图3，对光调节装置的基本的构成进行说明。这里，图1是将光调节装置的基本的构成在光轴方向上拉开表示的分解立体图，图2是表示光调节装置的基本的构成的立体图，图3是表示在光调节装置的第1基板与第2基板之间构成的空间的样子的剖视图。

光调节装置是用于调节光的装置，就这里所说的调节而言，列举出基于光圈的光量调节及光瞳调节、基于ND滤光器的光量调节、基于透镜的聚光调节、基于偏振光滤光器的偏振光调节、基于滤色器的波段调节、基于快门的通过时间调节、或者它们的组合等作为几个例子，但并不限定于此，只要是光学的调节，就能够广泛适用。

以下，举出光调节是使用光圈的调节的情况为例进行说明。

光调节装置具备：第1基板1、第2基板2、间隔件3、包含线圈芯材5及线圈6的电磁驱动源4、旋转轴部件7及光调节部8。

第1基板1具有用于让光通过的开口1a、及用于将旋转轴部件7的轴向的一端侧插通的轴孔1b，在一面侧配设有电磁驱动源4。

第2基板2以隔着间隔件3与第1基板1具有指定间隔的空间且平行的方式配设为，基板面与第1基板1的另一面侧(即，与第1基板1的配设有电磁驱动源4的面相反一侧)的基板面对置，该第2基板2具有用于让光通过的开口2a、及用于将旋转轴部件7的轴向的另一端侧插通的轴孔2b。

第1基板1的开口1a及第2基板2的开口2a作为例如圆形的开口形成于各基板1、2的中央部，未图示的主光学系统的光轴O与第1基板1及第2基板2的基板面垂直地在上述开口1a、2a的例如中心通过。另外，开口1a及开口2a可以是实现作为未图示的主光学系统中的最大光圈的功能的光学开口。

轴孔1b及轴孔2b将旋转轴部件7安装并轴支成，能够绕与第1基板1及第2基板2的基板面垂直的(即与光轴O平行的)旋转中心轴转动。

间隔件3将上述第1基板1与第2基板2隔开，以便在第1基板1与第2基板2的对置的基板面彼此之间构成空间。此间隔件3上设置有确保光调节部8转动所用的空间的切口3a，此切口3a还规定光调节部8的转动范围。

电磁驱动源4配设于第1基板1上与间隔件3相反一侧的面，具有由磁性体形成的线圈芯材5及卷绕于线圈芯材5的线圈6，是将通过在线圈6中流通电流而产生的磁力经由线圈芯材5传递给旋转轴部件7由此将旋转轴部件7转动的驱动源。

这里旋转轴部件7构成为，被磁化为绕轴具有不同的磁极的棒状的(例如圆柱状的)永久磁铁(轴磁铁)。此旋转轴部件7例如成为二极构成，被磁化为圆柱状的一方的半圆柱部分为S极，另一方的半圆柱部分为N极。

线圈芯材5也称为线圈铁芯或者轭铁，通过强磁性铁镍合金、硅钢等磁性体形成为具有二个芯材端5a的开曲线状(即，在闭曲线的一部分具有断开处的形状)，在图示的例子中，形成大致三角形状且一个顶点成为开放端。并且，作为大致三角形状的开放端的一对芯材端5a将旋转轴部件7的外侧面的两侧(在图示的例子中，旋转轴部件7是圆柱形，因此为旋转轴部件7的周面的两侧)以非接触的方式夹入。这样，通过线圈芯材5和旋转轴部件7构成闭磁路，传递由线圈6产生的磁。

线圈6被卷绕于形成开曲线状的线圈芯材5的沿着磁路径的至少一个部位(在图示的例子中为二个部位)，通过流通电流而产生磁力。

光调节部8是将从开口1a或开口2a入射的光调节后(如上所述，使光发生光学性变化)出射的光调节用的部件，被固定为与上述的旋转轴部件7一体转动，并以能够移动的方式被配置于第1基板1与第2基板2之间的上述的指定间隔的空间内。因此，光调节部8伴随旋转轴部件7的转动而在空间内转动。这里，本实施方式中的光调节部8具备光圈开口8a，并如上所述，在被插入到未图示的主光学系统的光路上时成为使光束的通过范围变更的光圈叶片。

在如上所述的构成中，在线圈6中流通一方向的电流时，线圈芯材5的二个芯材端5a中的、一方被磁化为S极，另一方被磁化为N极，在线圈6中流通另一方向的电流时磁化的极相反。据此，在旋转轴部件7的N极/S极与芯材端5a的S极/N极之间产生引力，在旋转轴部件7的N极/S极与芯材端5a的N极/S极之间产生斥力。在这样的磁力的作用下，旋转轴部件7顺时针或逆时针地旋转。

此时，光调节部8通过与切口3a的一端侧抵接而被定位在从在开口1a、2a通过的光的光路上退避的退避位置，通过与切口3a的另一端侧抵接而被定位在被插入到在开口1a、2a通过的光的光路上的插入位置，退避位置与插入位置之间是可旋转范围。

这样，光调节部8与由电磁驱动源4所驱动的旋转轴部件7一起转动，并移位到退避位置和插入位置，从而调节光。

另外，在上述中，作为转动旋转轴部件7的驱动源，举出通过磁作用产生驱动力的电磁驱动源4为例，但也可以采用其他的构成的驱动源。

光调节部8在通过间隔件3的切口3a构成的第1基板1与第2基板2之间的空间中转动，因此该空间的光轴O方向的间隔x(参照图3)的精度对于进行顺畅的旋转动作而言是重要的。

构成光调节装置的各构件在构件的制造阶段以指定的精度被调整为预先确定的大小、形状，但上述的空间的间隔x变得重要是在使用构件组装成光调节装置之后。

因此，进行组装后的光调节装置的测定。作为光调节装置的测定方法，例如有，

(1)使用测定器手动从与光轴O垂直的侧面方向计测的方法

(2)通过激光移位计使用激光从与光轴O平行的方向扫描的方法

等，但它们中的(1)，是能够比较精确地计测空间但测定会耗费劳力和时间的方法。并且，测定耗费劳力和时间这一点不能够容易地解决。

因此，在本实施方式中，采用能够进行测定的自动化、且不耗费劳力和时间的(2)的方法。

此基于激光的扫描如例如图2所示那样进行。即，将光调节装置载置在测定台12(参照图3)上，从激光移位计11与光轴O平行地照射激光即测定光ML，并使激光移位计11沿与光轴O垂直的扫描方向SC移动，从而进行激光扫描。

其中，图1～图3所示的基本的构成能够将测定光ML照射到第1基板1的上面，但并不能照射到间隔件3及第2基板2，因此以此构成原封不动的话不能测定作为基板间距离的空间间隔x。因此，基于图1～图3的基本构成，参照图4及图5，对能够进行基于激光扫描的测定的光调节装置的构成进行说明。这里，图4是将本实施方式的光调节装置的具体的构成在光轴方向上拉开表示的分解立体图，图5是表示本实施方式的光调节装置的具体的构成的立体图。

即，本实施方式的光调节装置具备被测定部，该被测定部被设置为，使为了测定空间间隔x而从与第1基板1及第2基板2的基板面垂直的测定方向(与光轴O平行的方向)照射的测定光ML在测定方向上通过第1基板1与第2基板2中的一方并到达另一方。

在测定光ML的照射方向是从第1基板1侧向第2基板2侧的方向的情况下，此被测定部具有，用于测定从第1基板1侧到间隔件3的距离的第1被测定部、及用于测定从第1基板1侧到第2基板2的距离的第2被测定部，第1被测定部以测定光ML在测定方向上通过第1基板1并到达间隔件3的方式设置于第1基板1，第2被测定部以测定光ML在测定方向上通过第1基板1及间隔件3并到达第2基板2的方式设置于第2基板2。

第1被测定部是以在从测定方向观看时、间隔件3露出的方式设置于第1基板1的光通过部，第2被测定部是以在从测定方向观看时从第1基板1及间隔件3突出的方式设置于第2基板2的光反射部。

具体来讲，在第1基板1上，设置有使第1基板1的一部分欠缺而形成为切口1c的欠缺部作为光通过部，以在从光轴O方向的第1基板1侧观看时、间隔件3露出。另外，这里将使间隔件3露出的欠缺部(光通过部)作为切口1c，但当然也可以形成为孔。

并且，第2基板2构成为直径比第1基板1及间隔件3大，在从光轴O方向的第1基板1侧观看时，周缘部从第1基板1及间隔件3的周缘作为伸出周缘部2c而伸出并成为光反射部。

这样的构成的光调节装置如图6所示那样进行扫描。这里，图6是用于说明本实施方式的光调节装置的扫描方向的剖视图。

基于激光移位计11的扫描如上所述那样，在使激光移位计11沿与光轴O垂直的扫描方向SC移动的同时进行与光轴O平行的方向的测定光ML的照射。此时，作为与光轴O垂直的面内的、可选择的扫描方向SC，可选择测定光ML被照射到伸出周缘部2c进而被照射到从切口1c露出的间隔件3的上面的方向。

图7是表示对光调节装置进行扫描而得到的输出波形的线图。

若将光调节装置载置于测定台12上并进行如上所述的激光扫描，则当设测定台12的高度为0时，得到距第2基板2的上面的高度L1作为输出波形，并且得到距从切口1c露出的间隔件3的上面的高度L2作为输出波形，然后，得到距第1基板1的上面的高度L3及经由开口1a、2a的到测定台12的高度等。

接着，图8是表示光调节装置的基板间距离测定方法的流程图。

在使此处理开始后，首先，通过经由作为第1被测定部的切口1c照射测定光ML，测定从激光移位计11到间隔件3的距离x2(步骤S1)。若将从激光移位计11到测定台12的测定距离设为x0，则将测定台12的高度设为0时的间隔件3的高度L2为，L2＝(x0－x2)。

接下来，通过对作为第2被测定部的伸出周缘部2c照射测定光ML，测定从激光移位计11到第2基板2的距离x1(步骤S2)。此时，将测定台12的高度设为0时的第2基板2的高度L1为，L1＝(x0－x1)。

另外，步骤S1和步骤S2的处理并不限于按此顺序进行，也可以是相反的顺序。

然后，基于测定结果计算空间间隔x(步骤S3)。此运算通过x＝(L2－L1)＝x1－x2、即从距第2基板2的距离x1减去距间隔件3的距离x2来进行，因此从激光移位计11到测定台12的测定距离x0的信息是不需要的，仅仅有从激光移位计11到第2基板2的距离x1的信息和从激光移位计11到间隔件3的距离x2的信息这二个信息就足够。这样，通过使得到空间间隔x所必要的测定信息仅为二个，能够极力减少测定误差的混入，能够提高测定精度。

接着，图9是用于说明光调节装置的第1变形例的剖视图。

图4及图5所示的构成中，光调节装置具备专用的第2基板2，但此图9所示的例子，是将其他的单元10的基板面作为第2基板2的代用的例子。这里，在其他的单元10的与间隔件3抵接的上面，设置有在从光轴O方向的第1基板1侧观看时从第1基板1及间隔件3的周缘伸出的作为光反射部的伸出周缘部10c。

这样，第2基板2并不限于设为专用的基板。

另外，图10是用于说明光调节装置的第2变形例的剖视图。

此图10所示的构成例，为设置多个能够测定空间间隔x的被测定部的例子。

在图10所示的剖视图中，示出了在圆周方向的对置的位置所设置的二个切口1c，但也可以设置更多的切口1c。另外，伸出周缘部2c设置于第2基板2的整个圆周，因此即使在设置多个切口1c的情况下，在任意的切口1c的附近也有伸出周缘部2c存在。

如果采用此如图10所示的构成，则能够使用位置不同的多个被测定部测定空间间隔x，因此在第1基板1与第2基板2有倾斜的情况下也能够测定该倾斜。另外，即使在第1基板1与第2基板2平行的情况下，通过对多个被测定部的测定结果进行统计处理，也能够进一步提高测定精度。

另外，虽未特别图示，但也可以代替在第1基板1设置切口1c，而将第1基板1形成为直径比如图1～图3所示的基本的构成小。在此情况下，

(第1基板1的直径)＜(间隔件3的直径)＜(第2基板2的直径)。

并且，在此构成的情况下，无论将绕光轴O的哪个角度方向作为扫描方向SC都能够进行测定，能够进行更简便的测定。另外，也能够应对更多方向的测定，与图10所示的构成同样地、能够进行倾斜的测定，能够提高测定精度。

根据这样的实施方式1，设定被测定部以使测定光ML通过第1基板1与第2基板2中的一方并到达另一方，因此能够测定第1基板1与第2基板2的同一侧的面间距离，如果板厚已知则能够测定空间间隔x。

此时，由于设置有用于测定从第1基板1侧到间隔件3的距离的第1被测定部、及用于测定从第1基板1侧到第2基板2的距离的第2被测定部，因此即使板厚不是已知也能够测定空间间隔x。

并且，由于在第1基板1上设置第1被测定部以使测定光ML到达间隔件3，并在第2基板2上设置第2被测定部以使测定光ML到达第2基板2，因此能够通过测定直接取得作为得到空间间隔x所必要的二个信息的、从激光移位计11到间隔件3的距离x2的信息和从激光移位计11到第2基板2的距离x1的信息。

具体来讲，通过将第1被测定部设为以在从测定方向观看时、间隔件3露出的方式设置于第1基板1的光通过部，并将第2被测定部设为以在从测定方向观看时从第1基板1及间隔件3突出的方式设置于第2基板2的光反射部，仅仅改变第1基板1及第2基板2的形状、大小，就能够进行测定。

尤其在将光通过部设为使第1基板1的一部分欠缺的欠缺部中的例如切口1c的情况下，有形成容易的优点。

并且，通过设置多个被测定部，能够测定与光轴O垂直的面内的空间间隔x的分布，而且能够进一步提高测定精度。

并且，由于采用将光调节部8固定为与旋转轴部件7一体转动，并通过驱动源使旋转轴部件7旋转而使光调节部8移位到退避位置与插入位置来调节光的构成，因此能够在光路上插拔聚焦透镜、光圈、滤光器等光学要素来进行光的调节。

这样，在组装成光调节装置后，能够短时间且高精度地测定第1基板1与第2基板2之间的距离。

[实施方式2]

图11是表示本发明的实施方式2的图，是表示光调节装置的构成的立体图。在此实施方式2中，对于与上述的实施方式1同样的部分标注同一符号等并适当省略说明，主要仅对不同点进行说明。

在上述的实施方式1中，将第2基板2的直径设为比第1基板1的直径大，但本实施方式中，第2基板2的直径与第1基板1的直径基本相同，仅在与切口1c对应的部分使第2基板2向外径方向伸出来形成突设部2d。

根据这样的实施方式2，能够起到与上述的实施方式1几乎同样的效果，并且能够使第2基板2的大小小型化，因此适于制造更小型化的光调节装置。

另外，也可以是，关于组装后的光调节装置，在使用切口1c及突设部2d测定了空间间隔x后，将突设部2d作为向其他的部件例如主体部件、镜筒部件等装入时的嵌合用的形状部来利用。

[实施方式3]

图12及图13是表示本发明的实施方式3的图，图12是表示光调节装置的构成的立体图，图13是表示光调节装置中的第1基板1、第2基板2及间隔件3的图12的13－13剖视图。在此实施方式3中，对于与上述的实施方式1、2同样的部分，标注同一符号等并适当省略说明，主要仅对不同点进行说明。

上述的实施方式1、2中，将用于测定从第1基板1侧到间隔件3的距离的第1被测定部设定于第1基板1，并将用于测定从第1基板1侧到第2基板2的距离的第2被测定部设置于第2基板2，但在本实施方式中，设置于第1基板1的一个光通过部兼作第1被测定部和第2被测定部。

即，在第1基板1中的在从测定方向(光轴O方向)观看时、间隔件3与第2基板2这两者露出的部分，设置光通过部。在这样的构成中，第1被测定部是光通过部中的间隔件3露出的部分，第2被测定部是光通过部中的第2基板2露出的部分。

具体来讲，本实施方式的光通过部，是使第1基板1的一部分欠缺而形成为孔1d的欠缺部。但是，也可以代替孔1d，将光通过部设为以使间隔件3和第2基板2这两者露出的方式形成的切口。

根据这样的实施方式3，能够起到与上述的实施方式1、2几乎同样的效果，并且在第2基板2上不存在从第1基板1、间隔件3的周缘向与光轴O垂直的方向突出的部分，因此能够进一步使光调节装置小型化。

在相应于间隔件3、电磁驱动源4等配置能够将如本实施方式那样的光通过部设于间隔件3与第2基板2这两者露出的部分的情况下，从使光调节装置小型化的观点来看，是优选的构成。

[实施方式4]

图14是表示本发明的实施方式4的图，是表示光调节装置中的第1基板1、第2基板2及间隔件3的剖视图。在此实施方式4中，对于与上述的实施方式1～3同样的部分标注同一符号等并适当省略说明，主要仅对不同点进行说明。

本实施方式中，使光通过部为具有光透射性的透明部，具体来讲，通过透明的原料形成第1基板1。如果采用这样的构成，则透过透明的第1基板1能看到间隔件3的部分成为第1被测定部，透过透明的第1基板1能够看到第2基板2的部分成为第2被测定部。

另外，也可以将上述的实施方式1、2中的切口1c、或者上述的实施方式3中的孔1d构成为透明部而代替欠缺部。

根据这样的实施方式4，能够起到与上述的实施方式1～3几乎同样的效果，并且不需要使第1基板1及第2基板2的形状从基本的形状进行任何变更，仅仅将形成的原料变更为透明的原料就能够测定空间间隔x。

接下来，参照图15～图17，对与上述的各实施方式关联的参考例进行说明。在以下的参考例中，对于与上述的各实施方式同样的部分，标注同一符号等并适当省略说明，主要仅对不同点进行说明。

[参考例1]

图15是表示参考例1的光调节装置中的第1基板1、第2基板2及间隔件3的剖视图。

在此参考例1中，设置有上述的实施方式1、2中的切口1c，但实施方式1的伸出周缘部2c和实施方式2的突设部2d的任一个都没设置。

并且，在此参考例1的情况下，通过测定从激光移位计11到测定台12(参照图3等)的距离和从激光移位计11到间隔件3的上面的距离并取差分，来计算包含第2基板2的厚度和间隔件3的厚度这两者的长度。

另外，认为第2基板2的构件单体时的板厚与组装出光调节装置后的第2基板2的板厚几乎相同，因此也利用此板厚的信息。

即，通过从如上所述算出的包含第2基板2的厚度和间隔件3的厚度这两者的长度减去第2基板2的构件单体时的板厚，得到空间间隔x。

通过这样的参考例1的构成，也能够以某程度的精度测定空间间隔x。

[参考例2]

图16是表示参考例2的光调节装置中的第1基板1、第2基板2及间隔件3的剖视图。

在此参考例2中，设置有与上述的实施方式3的孔1d类似的孔1e，但被设置于在从光轴O方向的第1基板1侧观看时仅第2基板2露出的位置，而不是如孔1d那样间隔件3和第2基板2这两者露出的位置。

并且，在此参考例2的情况下，通过测定从激光移位计11经由孔1e到第2基板2的上面的距离和从激光移位计11到第1基板1的上面的距离并取差分，计算包含第1基板1的厚度和间隔件3的厚度这两者的长度。

并且，认为第1基板1的构件单体时的板厚与组装出光调节装置后的第1基板1的板厚几乎相同，因此也利用此板厚的信息。

即，通过从如上所述算出的包含第1基板1的厚度和间隔件3的厚度这两者的长度减去第1基板1的构件单体时的板厚，得到空间间隔x。

通过这样的参考例2的构成，也能够与参考例1几乎同样地、以某程度的精度测定空间间隔x。

[参考例3]

图17是表示参考例3的光调节装置中的第1基板1、第2基板2及间隔件3的剖视图。

在此参考例3中，构成为使第1基板1的开口1a’比第2基板2的开口2a的直径大，在从光轴O方向的第1基板1侧观看时，通过开口1a’，第2基板2的上面露出。因此，用于让通过光调节部8调节的光通过的开口1a’兼作用于让测定光ML通过的光通过部。

并且，此参考例3的测定方法与上述的参考例2相同。

通过这样的参考例3的构成，也能够起到与参考例2几乎相同的效果。

另外，如参考例3所示那样的开口1a’，在不是发挥作为最大光圈的功能的光学开口的情况下，并不限于为圆形孔。因此，此情况下，通过对开口1a’的形状下工夫，由此如果构成为不仅使第2基板2的上面露出还使间隔件3的上面露出，则能够起到与上述的实施方式3相同的效果。并且，在此情况下，开口1a’兼作以使间隔件3及第2基板2露出的方式设置于第1基板1的光通过部。

另外，即使开口1a’为第2基板2的上面能够露出但间隔件3的上面不能露出的情况下，只要进一步与参考例1所示的作为第1被测定部发挥功能的切口1c组合使用，就能够起到与上述的实施方式3几乎同样的效果。在此情况下，开口1a’兼作第2被测定部。

另外，在上述的各实施方式、各参考例中，由于在第1基板1上配设有电磁驱动源4，因此假定从第1基板1侧照射测定光ML进行说明，但从测定空间间隔x这一观点来看，也可以是从第2基板2侧照射测定光ML的构成。

并且，在上述中，对光调节装置及光调节装置的基板间距离测定方法进行了说明，但也可以是用于使计算机执行与光调节装置的基板间距离测定方法同样的处理的程序、记录该程序的通过计算机可读取的非暂时性的记录介质等。

另外，本发明并不原封不动限定于上述的实施方式，在实施阶段，在不脱离其宗旨的范围内能够使构成要素变形并具体化。另外，通过上述实施方式所揭示的多个构成要素的适当的组合，能够形成各种发明的方式。例如，可以从实施方式所示的全部构成要素删除几个构成要素。并且，也可以将跨不同实施方式的构成要素适当组合。这样，在不脱离发明的主旨的范围内当然能够进行各种变形、应用。

本申请以2014年4月14日在日本国申请的特愿2014－083048号为优先权利主张的基础而提出申请，上述的公开内容被引用于本申请说明书、权利要求书、附图中。