1.一种增加薄膜粘附力的薄膜制备方法，其特征在于，包括：
在衬底材料上形成下宽上窄的沟槽或孔洞，或者直接形成具有所述沟槽或孔洞的衬底材料；
在形成有所述沟槽或孔洞的衬底材料上沉积薄膜材料，形成薄膜，所述薄膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底材料包括基底和设置在所述基底上的第一薄膜，所述第一薄膜上设置有所述沟槽或孔洞。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述直接形成具有所述沟槽或孔洞的衬底材料，包括：
在基底上涂覆光刻胶，通过曝光、显影形成凸起结构，所述突起结构下宽上窄，与所述沟槽或孔洞相对应；
在形成有所述突起结构的基底上形成第一薄膜，并通过曝光、显影去除所述突起结构及其上方的第一薄膜，形成所述沟槽或孔洞。
4.一种显示基板，其特征在于，包括：
基底；
形成于所述基底上的第一薄膜，所述第一薄膜上设置有下宽上窄的沟槽或孔洞；
形成于所述第一薄膜上的第二薄膜，所述第二薄膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一薄膜包括栅绝缘膜，所述第二薄膜为有机膜。
7.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，
所述沟槽或孔洞位于所述显示基板的周边区域。
8.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
在基底上形成栅金属层、栅绝缘层、有源层和源漏金属层，所述栅绝缘层形成有下宽上窄的沟槽或孔洞；
形成有机膜，所述有机膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中；
形成第一电极、钝化层和第二电极。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在基底上形成栅金属层、栅绝缘层、有源层和源漏金属层，所述栅绝缘层形成有下宽上窄的沟槽或孔洞，包括：
在基底上形成栅金属层，并通过构图工艺形成栅金属层图形；
在形成有栅金属层图形的基底上涂覆光刻胶，并通过曝光、显影形成凸起结构，所述突起结构下宽上窄，与所述沟槽或孔洞相对应；
在形成有所述突起结构的基底上形成栅绝缘层，并通过曝光、显影去除所述突起结构及其上方的栅绝缘层薄膜，在所述栅绝缘层上形成所述沟槽或孔洞。
10.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述沟槽或孔洞位于所述显示基板的周边区域。