半色调相移光掩模坯、制造方法和半色调相移光掩模与流程

技术总结
提供半色调相移光掩模坯，其包括透明基材和其上的具有150‑200°的相移和9‑40％的透射率的半色调相移膜。该半色调相移膜由过渡金属、Si、O和N组成，具有至少3at％的平均过渡金属含量，并且由多个层组成，该多个层包括具有至少3at％的氧含量的应力松弛层和至少5at％的较高氧含量的相移调节层。

技术研发人员：高坂卓郎
受保护的技术使用者：信越化学工业株式会社
文档号码：201610786641
技术研发日：2016.08.31
技术公布日：2017.03.08