技术总结
本发明公开了一种有机膜技术与ITO薄膜技术共用掩膜板的方法，包括以下步骤：(1)制作石英基板；(2)对基板进行负性有机膜涂布；(3)对基板进行曝光，曝光时确保半透膜区域不会在显影工艺中溶解；(4)对曝光后的基板进行显影，不透光区域的有机膜被除去；(5)对基板进行ITO沉积镀膜；(6)对基板进行正性光刻胶涂布、曝光；(7)对基板进行显影，铬膜和半透膜区域的光刻胶存在，其余区域的光刻胶被除去；(8)对基板进行蚀刻，形成ITO所需的图案。本发明的方法有效的节省了掩膜板的使用数量，也降低了曝光机的负荷，降低了生产成本。
技术研发人员：闵苏
受保护的技术使用者：南京华东电子信息科技股份有限公司
文档号码：201610916619
技术研发日：2016.10.21
技术公布日：2016.12.21