技术总结
本发明公开了一种用于设备的方法，该设备用于制造或使用掩膜版或显示基板，包括如下步骤：提供母版；设置测量点步骤：根据待测掩膜版或显示基板在母版上设置多个测量点，所述多个测量点对应于将对待测掩膜版或显示基板进行像素位置精度测量的位置；测量误差值步骤：将母版置于设备的坐标系下，在各个测量点处测量设备与母版之间的误差值。
技术研发人员：林治明;王震;张健;黄俊杰
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
文档号码：201610929809
技术研发日：2016.10.31
技术公布日：2017.03.15