双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法与流程

文档序号:13094101阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
【课题】能够在不移动和不转动工件的情况下,将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。【解决手段】具有使第一掩膜M1可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第一掩膜台100;以及使第二掩膜M2可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第二掩膜台200,其中,第二掩膜台200能够在第一掩膜台100上除第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动,并且,当第一掩膜台100沿xy平面移动和转动时,随第一掩膜台100一同沿xy平面移动和转动。

技术研发人员:河东和彦;屋宜健勇
受保护的技术使用者:倍科有限公司
技术研发日:2016.11.24
技术公布日:2017.12.05
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