本发明涉及双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法。
背景技术：
：：以往，对作为光刻对象的工件(电路基板等)的第一面、与该第一面相反侧的第二面分别进行光刻的双面光刻装置已被广泛使用。在这样的双面光刻装置中，在将配置于工件的第一面侧的第一掩膜与配置于工件的第二面侧的第二掩膜进行对准后，再将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，需要在第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准。像这样，作为使第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变来进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准的对准方法，可列举的一例为：在将第一掩膜与第二掩膜进行对准后，先将第一掩膜按预先设定的量移动和转动后，使该第一掩膜与工件进行对准，接着，在根据第一掩膜的移动量或转动量来移动和转动第二掩膜，从而使该第二掩膜与工件进行对准。像这样的对准控制，也就是软件(software)控制，其通过预先构筑用于进行对准控制的控制软件来得以实现。然而，在像这样的软件控制过程中，即使是在用于将第一掩膜与工件进行对准控制的控制数据被恰当地设定的情况下，有时也会发生第一掩膜台(table)驱动构造的运作与第二掩膜台驱动构造的运作间产生物理性偏差的情况。因此，如果根据用于将第一掩膜与工件进行对准控制的控制数据，从而将第二掩膜与工件进行对准的话，有可能会在当初已完成对准的第一掩膜与第二掩膜之间产生位置偏移，其结果就是，第一掩膜与第二掩膜无法高精度的完成对准。另一方面，也有能够在不使用上述的软件控制，而是利用机械的运作保持第一掩膜与第二掩膜的位置关系不变，来完成第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准的双面光刻装置被提出(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载的双面光刻装置为：在将第一掩膜与第二掩膜的进行对准后，在将已完成对准的第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，不将第一掩膜和第二掩膜分别移动和转动，而是将工件一侧在平面上进行移动和转动。通过这样，就能够在保持第一掩膜与第二掩膜的位置关系不变的情况下，将已完成对准的第一掩膜以及第二掩膜，与工件进行对准。【先行技术文献】【专利文献1】特开2013-142778号公报技术实现要素：但是，如专利文献1中记载的双面光刻装置般，在将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，使用将工件一侧进行移动的方法，但这种方法根据工件种类的不同，有时会有不理想的情况产生。例如，像长条片状的工件从输送辊推进至收卷辊，也就是在被称为卷对卷(rolltoroll)方式的双面光刻装置中，如果要将工件一侧在平面上进行移动和转动的话，由于需要将用于将工件一侧在平面上进行移动和转动的构造组配进工件的输送构造中，因此工件的输送构造就会变得复杂，而且，一旦将工件一侧在平面上进行移动和转动，就有可能成为工件褶皱或扭曲的成因。这样，就存在有一旦工件产生褶皱或扭曲，就无法进行高品质的双面光刻的课题。本发明鉴于以上课题，以提供一种不将工件移动和转动，同时又能够将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准的双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法为目的。【1】本发明的双面光刻装置是将作为光刻对象的工件的第一面通过第一掩膜进行光刻，将与该第一面相反侧的第二面通过第二掩膜进行光刻，其特征在于，在将与所述第一面以及所述第二面相平行的面定为包含有垂直相交的x轴以及y轴的xy平面时，包括：使所述第一掩膜可沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动的第一掩膜台；以及使所述第二掩膜可沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动的第二掩膜台，其中，所述第二掩膜台安装在所述第一掩膜台上，并且能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，并且当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。像这样，本发明的光刻装置为第二掩膜台被载置在第一掩膜台上，能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。由于本发明的光刻装置是上述这样的构成，因此能够在不移动和不转动工件的情况下，能够将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。通过这样，就没有必要将用于在工件一侧的平面上进行移动和转动的构造组配进工件的输送构造中，也就不会使工件的输送构造复杂化，另外，由于不会使工件产生褶皱或扭曲，因此就能够进行高品质的双面光刻。另外，根据本发明的光刻装置，不但能够在第一掩膜与第二掩膜进行对准后，在第一掩膜与第二掩膜位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准，还能够在第一掩膜与工件进行对准后，在第一掩膜与工件位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜与第二掩膜的对准。【2】在本发明的双面光刻装置中，最好是具有：设置在所述工件的第一面侧，并且能够将所述第一掩膜自如地安装和卸下的第一掩膜安装板(plate)；以及设置在所述工件的第二面侧，并且能够将所述第二掩膜自如地安装和卸下的第二掩膜安装板，其中，所述第一掩膜安装板通过垂直设置于所述第一掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第一掩膜台上，所述第二掩膜安装板通过垂直设置于所述第二掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第二掩膜台上。由于是上述这样的构成，因此当第一掩膜台沿xy平面移动时，第一掩膜安装板会随第一掩膜台一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第一掩膜台沿xy平面转动时，第一掩膜安装板会随第一掩膜台一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。通过这样，就能够实现第一掩膜沿xy平面移动的同时沿xy平面转动。同样的，当第二掩膜台沿xy平面移动时，第二掩膜安装板会随第二掩膜台一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第二掩膜台沿xy平面转动时，第二掩膜安装板会随第二掩膜台一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。通过这样，就能够实现第二掩膜沿xy平面移动的同时沿xy平面转动。【3】在本发明的双面光刻装置中，可沿所述xy平面移动最好是指，可沿所述x轴移动的同时可沿所述y轴移动；可沿所述xy平面转动最好是指，能够在与所述xy平面相垂直的z轴周围转动。通过这样，由于只要将用于驱动第一掩膜台以及第二掩膜台的驱动构造设置为能够朝垂直相交的两个轴(x轴以及y轴)移动(往返移动)、以及能够在与xy平面垂直的z轴周围转动(顺时针转动以及逆时针转动)即可，因此就能够使驱动构造单纯化。【4】在本发明的双面光刻装置中，最好是：用于所述第一掩膜与所述第二掩膜对准的掩膜对准标记(mark)被分别设置于所述第一掩膜和所述第二掩膜上，同时，用于所述第一掩膜以及所述第二掩膜与所述工件对准的工件对准标记被分别设置于所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜上和所述工件上。通过这样，在进行第一掩膜与第二掩膜对准的同时，还能够进行第一掩膜以及所述第二掩膜与工件的对准。【5】在本发明的双面光刻装置中，最好是进一步包括：能够对所述掩膜对准标记以及工件对准标记进行摄像的摄像装置；以及具备根据通过该摄像装置获得的摄像数据，控制所述第二掩膜台使分别被设置于所述第一掩膜与所述第二掩膜处的所述掩膜对准标记一致，同时，控制所述第一掩膜台使分别被设置于所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜处与所述工件处的所述工件对准标记一致功能的对准控制装置。通过具备像这样的摄像装置以及对准控制装置，就能够在不移动和不转动工件的情况下，进行第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准。例如，能够将第二掩膜高精度地与第一掩膜对准，同时，在完成第一掩膜与第二掩膜高精度地对准后，在不移动工件的情况下进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的高精度对准。【6】在本发明的双面光刻装置中，最好是：进一步具有能够控制用于移动所述摄像装置的摄像装置移动控制装置，并且该摄像装置移动控制装置具备，至少在光刻时控制所述摄像装置移动从而使所述摄像装置位于离开工件上的光刻对象区域的位置上的功能。通过这样，由于摄像装置在光刻时位于离开工件上的光刻对象区域的位置上，因此在进行光刻时，就能够防止摄像装置遮挡来自于光源的光。【7】在本发明的双面光刻装置中，最好是：所述掩膜对准标记在所述第一掩膜上的相互隔开的规定位置上设置m处(m为大于等于2的整数)，并且在所述第二掩膜上的相互隔开的规定位置上与所述第一掩膜上设置的m处掩膜对准标记相对应地设置m处；所述工件对准标记在所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜上的相互隔开的规定位置上设置n处(n为大于等于2的整数)，并且在所述工件上的相互隔开的规定位置上与所述掩膜上设置的n处工件对准标记相对应地设置n处。掩膜对准标记通过像这样被设置在第一掩膜和第二掩膜上，就能够高精度地进行第一掩膜与第二掩膜的对准。另外，工件对准标记通过像这样被设置在第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜与工件上，就能够高精度地进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准。【8】本发明的双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法是在将作为光刻对象的工件的第一面通过第一掩膜进行光刻，并且将与该第一面相反侧的第二面通过第二掩膜进行光刻的双面光刻装置中，在进行所述第一掩膜与所述第二掩膜对准的同时，进行所述第一掩膜以及第二掩膜与工件对准，其特征在于：作为所述双面光刻装置，使用所述【1】～【7】中任意一个所记载的双面光刻装置，并且作为在进行所述第一掩膜与所述第二掩膜对准的同时，进行所述第一掩膜以及第二掩膜与工件对准的工序，包括：掩膜对准工序，通过对所述第二掩膜台进行沿所述xy平面的移动以及沿所述xy平面的转动中的至少一方来进行所述第一掩膜与所述第二掩膜的对准；以及掩膜·工件对准工序，通过对所述第一掩膜台进行沿xy平面的移动以及转动中的至少一方来进行所述第一掩膜与所述工件的对准。根据本发明的双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法，由于作为双面光刻装置，使用的是所述【1】～【7】中任意一个所记载的双面光刻装置，因此能够获得与所述【1】～【7】中所记载的双面光刻装置所具有的效果相同的效果。【9】在本发明的双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法中，最好是在进行所述掩膜对准工序后进行所述掩膜·工件对准工序。该与工件的对准方法是先将第一掩膜与第二掩膜进行对准(掩膜对准工序)后，再将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准(掩膜·工件对准工序)，通过将掩膜对准工序、掩膜·工件对准工序按此顺序进行，就能够在第一掩膜与第二掩膜位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准。【10】在本发明的双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法中，也能够在进行所述掩膜·工件对准工序后，进行所述掩膜对准工序。该掩膜与工件的对准方法是先将第一掩膜与工件进行对准(掩膜·工件对准工序)后，再将第一掩膜与第二掩膜进行对准(掩膜对准工序)，通过将掩膜对准工序、掩膜·工件对准工序按此顺序进行，就能够在第一掩膜与工件位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜与第二掩膜的对准。附图说明图1是实施方式所涉及的双面光刻装置10的说明用斜视图。图2是实施方式所涉及的双面光刻装置10的说明用正面图。图3是第一掩膜台100沿xy平面移动以及沿xy平面转动的说明图。图4是第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准以及第一掩膜m1与工件w的对准的说明图。图5是实施方式所涉及的双面光刻装置10中的对准控制装置500以及摄像装置移动控制装置600的说明图。图6是掩膜与工件进行对准时的各工序的流程说明图。图7是实施方式所涉及的双面光刻装置10的变形例的说明图。图8是掩膜与工件进行对准时将各工序顺序替换后的流程说明图。图9是掩膜之间进行对准时与掩膜与工件进行对准时共用各对准标记中的一部分对准标记时的说明图。具体实施方式以下，对本发明的实施方式进行说明。图1是实施方式所涉及的双面光刻装置10的说明用斜视图。图2是实施方式所涉及的双面光刻装置10的说明用正面图。另外，图2中有一部分作为截面图展示。实施形态所涉及的双面光刻装置10如图1以及图2所示，将作为光刻对象的工件w的第一面wa通过第一掩膜m1进行光刻，将与该第一面wa相反侧的第二面wb通过第二掩膜m2进行光刻。另外在实施形态所涉及的双面光刻装置10中，工件w定为长条片状物，该长条片状的工件w自输送辊(未图示)向收卷辊行进，即定为卷对卷方式的双面光刻装置。另外，工件w例如为柔性(flexible)电路基板等，第一掩膜m1以及第二掩膜m2分别由形成为矩形的透明板材(例如玻璃板等)组成，并且分别形成有规定的图形(定为电路图形)。再有，在实施方式中，将与工件w的第一面wa以及第二面wb相平行的面定为包含有垂直相交的两个轴(x轴以及y轴)的平面，x轴定为沿工件w的行进方向，y轴定为沿与工件w的行进方向垂直相交的方向来进行说明。以下，对实施方式所涉及的双面光刻装置10进行详细说明。实施方式所涉及的双面光刻装置10包括：使第一掩膜m1可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第一掩膜台100；以及使第二掩膜m2可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第二掩膜台200，另外，“可沿xy平面移动”是指，可沿x轴移动的同时沿y轴移动；“可沿xy平面转动”是指，可在与xy平面垂直的z轴周围转动。另外，第二掩膜台200载置在第一掩膜台100上，并且能够在该第一掩膜台100上除该第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动。另外，当第一掩膜台100沿xy平面移动时，第二掩膜台200随该第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第一掩膜台100沿xy平面转动时，第二掩膜台200随该第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。具体来说，当第一掩膜台100沿x轴向一个方向移动规定的量时，第二掩膜台200也沿x轴向一个方向移动相同的量；当第一掩膜台100沿x轴向另一个方向移动规定的量时，第二掩膜台200也沿x轴向另一个方向移动相同的量。另外，当第一掩膜台100沿y轴移动时也同样如此。即：当第一掩膜台100沿y轴向一个方向移动规定的量时，第二掩膜台200也沿y轴向一个方向移动相同的量；当第一掩膜台100沿y轴向另一个方向移动规定的量时，第二掩膜台200也沿y轴向另一个方向移动相同的量。另外，当第一掩膜台100在y轴周围顺时针转动规定的量时，第二掩膜台200也在y轴周围顺时针转动相同的量；当第一掩膜台100在y轴周围逆时针转动规定的量时，第二掩膜台200也在y轴周围逆时针转动相同的量。像这样，第二掩膜台200就能够除第一掩膜台100之外沿xy平面移动和沿xy平面转动，并且，当第一掩膜台100沿xy平面移动时，就会随第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第一掩膜台100沿xy平面转动时，就会随第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。再有，在图1以及图2中，用于驱动第一掩膜台100以及第二掩膜台200的驱动构造的图示被省略。下面，将进一步地就第一掩膜台100以及第二掩膜台200进行说明。首先，对第一掩膜台100进行说明。第一掩膜台100的平面形状大致呈矩形，并且该第一掩膜台100的几乎中央部形成有用来透过来自于第一光源310的光的空间部101在这样的第一掩膜台100的四个角落处，分别垂直设置有作为支撑部件的支柱111，各支柱111的前端部固定有可将第一掩膜m1自如装卸的第一掩膜安装板120。第一掩膜安装板120被设置在工件w的第一面侧。还有，第一掩膜安装板120的几乎中央部形成有用来透过来自于第二光源320的光的空间部121，该空间部121处可自如装卸地安装有第一掩膜m1来覆盖该空间部121。由于第一掩膜安装板120像这样被固定在第一掩膜台100上，因此该第一掩膜安装板120能够在当第一掩膜台100沿xy平面移动时，随第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，并且当第一掩膜台100沿xy平面转动时，随第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。通过这样，第一掩膜m1的沿xy平面的移动以及沿xy平面的转动,就依靠第一掩膜台100的沿xy平面的移动以及沿xy平面的转动来进行。另外，第一掩膜安装板120还通过未图示的驱动构造，可沿z轴方向(在图1以及图2中为上下方向)往返移动。因此，能够对第一掩膜m1与工件w之间的间隔进行调整。接着，对第二掩膜台200进行说明，第二掩膜台200也与第一掩膜台100同样，在平面形状上大致呈矩形，但是在尺寸上要小于第一掩膜台100，并且第二掩膜台200在其四个边缘部(边)与第一掩膜台100分别对应的边缘部(边)之间在设置有规定的间隔的状态下被载置在第一掩膜台100上。另外，第二掩膜台200的几乎中央部形成有用来透过来自于第一光源310的光的空间部201。在这样的第二掩膜台200的四个角落处，分别垂直设置有作为支撑部件的支柱211，各支柱211的前端部固定有可将第二掩膜m2自如装卸的第二掩膜安装板220。第二掩膜安装板220被设置在工件w的第二面侧。还有，第二掩膜安装板320的几乎中央部形成有用来透过来自于第一光源310的光的空间部221，该空间部221处可自如装卸地安装有第二掩膜m2来覆盖该空间部221。不过，在实施方式所涉及的双面光刻装置中，被设置在第一掩膜安装板120上的空间部121，与被设置在第二掩膜安装板220上的空间部221分别被定位相同尺寸。由于第二掩膜安装板220像这样被固定在第二掩膜台200上，因此该第二掩膜安装板220能够在当第二掩膜台200沿xy平面移动时，随第二掩膜台200一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，并且当第二掩膜台200沿xy平面转动时，随第二掩膜台200一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。通过这样，第二掩膜m2的沿xy平面的移动以及沿xy平面的转动,就依靠第二掩膜台200的沿xy平面的移动以及沿xy平面的转动来进行。另外，第二掩膜安装板220还通过未图示的驱动构造，可沿z轴方向(在图1以及图2中为上下方向)往返移动。因此，能够对第二掩膜m2与工件w之间的间隔进行调整。不过，在第一掩膜安装板120与第二掩膜安装板220之间设置有规定的间隔，并且在第一掩膜安装板120与第二掩膜安装板220之间还介入有工件w。另外，在第一光源310以及第二光源320中，第一光源310被设置为：在第一掩膜台100侧，该第一光源310的光轴l1呈水平方向。并且，来自于第一光源310的光通过反射镜(mirror)330折射90度后，对第二掩膜m2进行照射，从而使形成于该第二掩膜m2上的电路图形在工件w的第二面wb上成像。另一方面，第二光源320被设置为：在第一掩膜安装板120侧，该第二光源320的光轴l2呈水平方向。并且，来自于第二光源320的光通过反射镜340折射90度后，对第一掩膜m1进行照射，从而使形成于该第一掩膜m1上的电路图形在工件w的第一面wa上成像。再有，第一掩膜安装板120侧以及第二掩膜安装板220侧的第一光源310以及第二光源320的配置方法并没有被特别地限定，只要是能够将分别形成于第一掩膜m1以及第二掩膜m2上的电路图型适宜地成像在工件w的第一面wa以及第二面wb上即可。另外，虽然在图1以及图2中并未图示，但用于第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的对准标记(也就是掩膜对准标记)被分别设置于第一掩膜m1和第二掩膜m2上，同时，用于第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w对准的对准标记(也就是工件对准标记)被分别设置于第一掩膜m1以及第二掩膜m2中至少一方的掩膜(在实施方式所涉及的双面光刻装置10中定为第一掩膜m1)与工件w上。关于这些掩膜对准标记以及工件对准标记，将根据图4进行后述。另外，同样虽然在图1以及图2中并未图示，但设置有可对掩膜对准标记和工件对准标记进行摄像的摄像装置；以及根据通过该摄像装置获得的摄像数据，从而对第一掩膜台100进行控制的同时，对第二掩膜台200进行控制的对准控制装置。关于这些摄像装置以及对准控制装置，将根据图4以及图5进行后述。图3是第一掩膜台100沿xy平面移动以及沿xy平面转动的说明图。另外，用于使第一掩膜台100沿xy平面移动以及沿xy平面转动的驱动构造由于可以使用公知的技术，因此在图3中，省略了关于电机之外的构成要素的图示以及说明，并且以模式化标示。另外，虽然在图3中对第一掩膜台100进行说明，但第二掩膜台200也可以几乎同样的方式实施。如图3所示，用来给第一掩膜台100提供驱动力的三个或是四个(在实施方式所涉及的双面光刻装置中定为三个)电机(定为伺服电机(servomotors))sx11、sx12、以及sy13分别被设置在第一掩膜台100的四个角部中的三个角部附近，通过选择性地运行该三个电机sx11、sx12、以及sy13，就能够使第一掩膜台100在沿xy平面往返移动(沿x轴往返移动以及沿y轴往返移动)的同时，沿xy平面转动(在z轴周围顺时针转动或逆时针转动)。具体来说，通过使电机sx11或电机sx12正方向转动，就能够使第一掩膜台100沿x轴向一个方向(图3中的左方向(x’方向))移动；通过使电机sx11或电机sx12反方向转动，就能够使第一掩膜台100沿x轴向图示的另一个方向(图3中的右方向(x方向))移动。另外，通过使电机sy13正方向转动，就能够使第一掩膜台100沿y轴向一个方向(图3中的下方向(y’方向))移动；通过使电机sy13反方向转动，就能够使第一掩膜台100沿y轴向图示的另一个方向(图3中的上方向(y方向))移动。另外，通过使电机sx11、sx12、以及sy13同时正方向转动相同的量，就能够使第一掩膜台100以该第一掩膜台100未图示的中心(空间部101的中心)为假设的转动轴，在z轴周围以逆时针方向(a’方向)转动；通过使电机sx11、sx12、以及sy13同时反方向转动相同的量，就能够使第一掩膜台100以该第一掩膜台100未图示的中心(空间部101的中心)为假设的转动轴，沿xy平面在z轴周围以顺时针方向(a方向)转动。再有，要使第一掩膜台100沿该第一掩膜台的xy平面移动后，使该第一掩膜台100沿xy平面转动规定的量时，则在保持第一掩膜台100的沿xy平面的移动量的状态下沿xy平面转动规定的量。另外，要使第一掩膜台100沿xy平面转动规定的量后，使该第一掩膜台100沿xy平面移动规定的量时，则在保持第一掩膜台100的沿xy平面的转动量的状态下沿xy平面移动规定的量。另外，沿xy平面的移动也就是沿x轴方向或是沿y轴方向进行移动时的移动范围(往返移动范围)以及沿xy平面转动时的转动量(顺时针方向或逆时针方向的转动角度范围)并不太大，在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，作为往返移动范围，例如为0～10mm程度即可，作为转动角度范围，例如为0～10度程度即可。不过，往返移动范围以及转动角度范围并不被限定。在图3中，虽然以电机为三个作为示例，但是也可以是在第一掩膜台100的四个角部附近分别设置电机。另外，第二掩膜台200也同样设置有用来给第二掩膜台200提供驱动力的三个或是四个(定为三个)电机(伺服电机)，该三个电机(图示虽省略但定为sx21、sx22、以及sy23)与第一掩膜台100同样分别被设置在第二掩膜台200的四个角部中的三个角部附近，通过选择性地运行该三个电机sx21、sx22、以及sy23，就能够使第二掩膜台200在沿xy平面往返移动(沿x轴往返移动以及沿y轴往返移动)的同时，沿xy平面转动(在z轴周围顺时针转动或逆时针转动)。接下来，就第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准以及第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w的对准进行说明。图4是第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准以及第一掩膜m1与工件w的对准的说明图。图4中仅将用于就对准进行说明所必要的构成要素标示出，并模式化的进行图示。其中，图4(a)为斜视图，图4(b)为从上方沿z轴俯瞰第一掩膜m1的平面图。另外，在图4中，第一掩膜m1上被矩形虚线所包围的区域a1为对应被设置在第一掩膜安装板120上的空间部121(参照图1以及图2)的区域，第二掩膜m2上被矩形虚线所包围的区域a2为对应被设置在第二掩膜安装板220上的空间部221(参照图1以及图2)的区域。第一掩膜m1以及第二掩膜m2上分别设有用于该第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的掩膜对准标记。该掩膜对准标记在第一掩膜m1上的相互隔开的规定位置上设置m处(m为大于等于2的整数)。在第二掩膜m2上的相互隔开的规定位置上与第一掩膜m1上设置的m处掩膜对准标记相对应地设置m处。在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，以m＝2进行说明。因此，将第一掩膜m1上设置的两处掩膜对准标记定为“掩膜对准标记p1、p2”；将第二掩膜m2上设置的两处掩膜对准标记定为“掩膜对准标记p3、p4”具体来说，在第一掩膜m1侧，例如，在该第一掩膜m1的对角的两个角部中的一方的角部的内侧设置有掩膜对准标记p1；在另一方的角部的内侧设置有掩膜对准标记p2。另外，在第二掩膜m2侧，在第二掩膜m2的对角的两个角部中的，一方的角部(对应第一掩膜m1上设置有掩膜对准标记p1的角部的角部)的内侧设置有掩膜对准标记p3；另一方的角部(对应第一掩膜m1上设置有掩膜对准标记p2的角部的角部)的内侧设置有掩膜对准标记p4。当第一掩膜m1的掩膜对准标记p1与第二掩膜m2的掩膜对准标记p3一致，并且，当第一掩膜m1的掩膜对准标记p2与第二掩膜m2的掩膜对准标记p4一致时，则定为第一掩膜m1与第二掩膜m2被适宜地进行了对准。掩膜对准标记p1、p2被设置在：第一掩膜m1上被虚线矩形框所包围的区域a1(对应空间部121的区域)内，并且是离开工件w的第一面wa上的当前光刻对象区域(图4(b)中以灰色标记的区域b1)。另一方面，掩膜对准标记p3、p4被设置在：第二掩膜m2上被虚线矩形框所包围的区域a2(对应空间部221的区域)内，并且是离开工件w的第二面wb上的当前光刻对象区域(第二面wb上同样为图4(b)中以灰色标记的区域b1)。再有，在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，将“离开光刻对象区域的位置”定为：当将工件w如图1以及图2所示般安装时，离开该工件w的宽度方向的位置。另外，用于第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w对准的工件对准标记，被分别设置在第一掩膜m1和工件w上。工件对准标记在第一掩膜m1上的相互隔开的规定位置上设置有n处(n为大于等于2的整数)，并且在工件上的相互隔开的规定位置上与第一掩膜m1上设置的n处工件对准标记相对应地设置有n处。在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，以n＝2进行说明。因此，将第一掩膜m1上设置的两处工件对准标记定为“工件对准标记p5、p6”；将第二掩膜m2上设置的两处工件对准标记定为“工件对准标记p7、p8”。当第一掩膜m1的工件对准标记p5与工件w的工件对准标记p7一致，并且，当第一掩膜m1的工件对准标记p6与工件w的工件对准标记p8一致时，则定为第一掩膜m1与工件w被适宜地进行了对准。再有，这些工件对准标记p5、p6被设置在第一掩膜m1上的被虚线矩形框所包围的区域a1(对应空间部121的区域)内。不过，第一掩膜m1与第二掩膜m2的位置是否一致以及第一掩膜m1与工件w的位置是否一致，则是根据摄像装置对各个对准标记(掩膜对准标记p1～p4以及工件对准标记p5～p8)进行摄像后获得的摄像数据来进行判断。在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，摄像装置c具有：用于对掩膜对准标记p1、p3以及对工件对准标记p5、p7有时间差地进行摄像的摄像装置c1；以及用于对掩膜对准标记p2、p4以及对工件对准标记p6、p8有时间差地进行摄像的摄像装置c2。具体来说，摄像装置c1(也称为摄像机(camera)c1)是用于对设置在第一掩膜m1上的掩膜对准标记p1与设置在第二掩膜m2上的掩膜对准标记p3进行摄像的同时，对设置在第一掩膜m1上的工件对准标记p5与设置在工件w上的工件对准标记p7进行摄像的装置；摄像装置c2(也称为摄像机c2)是用于对设置在第一掩膜m1上的掩膜对准标记p2与设置在第二掩膜m2上的掩膜对准标记p4进行摄像的同时，对设置在第一掩膜m1上的工件对准标记p6与设置在工件w上的工件对准标记p8进行摄像的装置。再有，摄像机c1有时间差地对掩膜对准标记p1以及掩膜对准标记p3，并且对工件对准标记p5以及工件对准标记p7进行摄像；摄像机c2有时间差地对掩膜对准标记p2以及掩膜对准标记p4，并且对工件对准标记p6以及工件对准标记p8进行摄像。因此，摄像机c1、c2能够：沿xy平面移动、在z轴周围转动、以及沿z轴上下移动。用于使摄像机c1、c2沿xy平面移动、在z轴周围转动、以及沿z轴上下移动的驱动构造由于可以通过公知的技术来实现，因此省略了图示以及说明。图5是实施方式所涉及的双面光刻装置10中的对准控制装置500以及摄像装置移动控制装置600的说明图。对准控制装置500如图5所示，包括：第一掩膜台驱动控制部510，通过控制第一掩膜台100的电机sx11、sx12、以及sy13从而对第一掩膜台100进行驱动；第二掩膜台驱动控制部520，通过控制第二掩膜台200的电机(未图示的sx21、sx22、以及sy23)从而对第二掩膜台200进行驱动；以及控制部530，根据来自于摄像装置c(摄像机c1、c2)的摄像数据，向第一掩膜台驱动控制部510以及第二掩膜台驱动控制部520中的至少一方提供控制数据。被像上述这样构成的对准控制装置500具有如下功能：根据获得的来自于摄像机c1、c2的摄像数据，控制第二掩膜台200从而使分别设置在第一掩膜m1和第二掩膜m2上的掩膜对准标记一致(掩膜对准标记p1与p3一致，并且掩膜对准标记p2与p4一致)的同时，控制第一掩膜台100从而使分别设置在第一掩膜m1和工件w上的工件对准标记一致(工件对准标记p5与p7一致，并且工件对准标记p6与p8一致)。具体来说，通过摄像机c1、c2获得的摄像数据被提供给控制部530后，控制部530根据该摄像数据向第二掩膜台驱动控制部520提供控制数据从而使掩膜对准标记p1与p3一致，并且掩膜对准标记p2与p4一致。第二掩膜台驱动控制部520则根据控制数据对电机sx21、sx22、以及sy23进行选择性地驱动。通过这样，就能够进行第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准。掩膜对准标记p1与p3一致，并且掩膜对准标记p2与p4一致后，移动摄像机c1、c2，对工件对准标记p5以及工件对准标记p7进行摄像的同时，对工件对准标记p6以及工件对准标记p8进行摄像。此时，再将通过摄像机c1、c2获得的摄像数据提供给控制部530后，控制部530根据该摄像数据向第一掩膜台驱动控制部510提供控制数据从而使工件对准标记p5与p7一致，并且工件对准标记p6与p8一致。第一掩膜台驱动控制部510则根据来自于控制部530的控制数据对电机sx11、sx12、以及sy13进行选择性地驱动。通过这样，就能够进行第一掩膜m1与工件w的对准。通过这样的对准控制装置500，就能够对第一掩膜m1与第二掩膜m2进行对准的同时，对第一掩膜m1与工件w进行对准。再有，在进行第一掩膜m1与工件w的对准时，由于第二掩膜m2也会与第一掩膜m1同方向移动和转动相同的量，因此在第一掩膜m1与第二掩膜m2完成对准的状态下，来进行第一掩膜m1与工件w的对准的话，第二掩膜m2便会在第一掩膜m1与第二掩膜m2位置关系保持不变的情况下，被与工件w对准。而这，正是由于如下构成所带来的结果：第二掩膜台200载置在第一掩膜台100上，并且能够在该第一掩膜台100上除该第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动，当第一掩膜台100沿xy平面移动时，则第二掩膜台200随该第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第一掩膜台100沿xy平面转动时，则第二掩膜台200随该第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。接下来，对摄像装置移动控制装置600进行说明。摄像装置移动控制装置600具有：用于使摄像机c1、c2移动的移动构造部610；以及用于控制该移动构造部610的移动控制部620。该摄像装置移动控制装置600还具备至少在光刻时控制摄像机c1、c2移动从而使摄像机c1、c2的位置位于离开工件w上的光刻对象区域b1的位置上的功能。通过这样，由于摄像机c1、c2的位置位于离开工件w上的光刻对象区域b1的位置上，因此在进行光刻时，就能够防止摄像机c1、c2遮挡来自于光源310、320的光。再有，在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，是设定为：摄像机c1、c2位于可对掩膜对准标记p1、p2进行摄像的位置上的状态时，摄像机c1、c2位于离开光刻对象区域b1的位置上。因此，预先使摄像机c1、c2可在箭头y－y’方向上移动，在光刻时，控制摄像机c1、c2先朝y’方向移动后，再移动至可对掩膜对准标记p1、p2进行摄像的位置。如上述说明，在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，第二掩膜台200载置在第一掩膜台100上，并且能够在该第一掩膜台100上除该第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动，当第一掩膜台100沿xy平面移动时，则第二掩膜台200随该第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第一掩膜台100沿xy平面转动时，则第二掩膜台200随该第一掩膜台100一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。正因为实施方式所涉及的双面光刻装置10为这样的构成，所以在配置于工件w的第一面wa侧的第一掩膜m1与配置第二面wb侧的第二掩膜m2完成对准后，在进行第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w的对准时，能够在不使工件w移动和转动的情况下，在第一掩膜m1与第二掩膜m2位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w的对准。通过这样，就没有必要将用于在工件w一侧的平面上进行移动和转动的构造组配进工件的输送构造中，也就不会使工件的输送构造复杂化，另外，由于不会使工件w产生褶皱或扭曲，因此能够实现高品质的双面光刻。接下来，对实施方式所涉及的双面光刻装置10中的掩膜与工件的对准方法进行说明。图6是掩膜与工件进行对准时的各工序的流程说明图。首先，将第一掩膜m1安装至第一掩膜安装板120的同时，将第二掩膜m2安装至第二掩膜安装板220(步骤s1)。并且，在第一掩膜台100上，通过对第二掩膜台200进行沿xy平面移动以及沿xy平面转动中的至少一方，来进行第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的掩膜对准工序(步骤s2)。在实施方式所涉及的双面光刻装置10中的掩膜与工件的对准方法中，在进行掩膜对准工序时，工件w未被配置在第一掩膜m1与第二掩膜m2之间。不过，即便是在将工件w配置在第一掩膜m1与第二掩膜m2之间的状态下，也能够实施该掩膜对准工序。进行掩膜对准工序时的控制，是由对准控制装置500根据来自于摄像机c1、c2的摄像数据进行的。此时，摄像机c1、c2在可对掩膜对准标记p1、p2进行摄像的位置上进行摄像。再有，由于对准控制装置500所进行的对准控制如前所述，因此其说明在此处省略。通过进行该掩膜对准工序，就会将第一掩膜m1与第二掩膜m2对准。接下来，通过对第一掩膜台100进行沿xy平面移动以及沿xy平面转动中的至少一方，来进行第一掩膜m1与工件w对准的掩膜·工件对准工序(步骤s3)。在进行掩膜·工件对准工序时，定为工件w被配置在第一掩膜m1与第二掩膜m2之间的状态。另外，摄像机c1、c2已移动至可对掩膜对准标记p5、p6进行摄像的位置上。另外，进行掩膜·工件对准工序时的控制，与掩膜对准工序一样，也是由对准控制装置500根据来自于摄像机c1、c2的摄像数据进行的。由于对准控制装置500所进行的第一掩膜m1与工件w的对准控制如前所述，因此其说明在此处省略。通过进行该掩膜·工件对准工序，就会将第一掩膜m1与工件w对准。通过依次进行上述的掩膜对准工序以及掩膜·工件对准工序，在第一掩膜m1与第二掩膜m2进行对准的同时，在第一掩膜与第二掩膜位置关系保持不变的情况下，第一掩膜m1与工件w以及第二掩膜m2与工件w就会被分别对准。而且，通过在规定的时间点点亮光源310、320，第一掩膜m1上形成的电路图型就会在工件w的第一面wa的合适的位置上被光刻；第二掩膜m2上形成的电路图型就会在工件w的第二面wb的合适的位置上被光刻。再有，在进行光刻时，摄像机c1、c2被通过摄像装置移动控制装置600控制为位于离开光刻对象区域b1的位置上(在工件w上为位于离开b1的位置上，并且在实施方式所涉及的双面光刻装置10中为可对掩膜对准标记p1、p2进行摄像的位置上)上。在实施方式所涉及的双面光刻装置10中，由于是以使长条片状的工件w以卷对卷方式在一个方向上行进的过程中来进行双面光刻的情况来作为示例的，因此沿在一个方向上行进的工件w的长度方向设定的多个光刻对象区域中的每个光刻对象区域依次位于与双面光刻装置10的第一掩膜m1以及第二掩膜m2相对的位置上。此时，在对某一个光刻对象进行光刻后，在下一个光刻对象位于与第一掩膜m1以及第二掩膜m2相对的位置上时，每当第一掩膜m1与第二掩膜m2进行对准、第一掩膜m1与工件w进行对准时，在图6中所示的流程中，一旦步骤s3结束后，就会如图6中的虚线r1所示进行返回步骤s2的处理。通过这样，就能够在每个光刻对象区域上，进行第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准，以及第一掩膜m1与工件w的对准。另外，只要将通过第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准(步骤s2)获得的第一掩膜m1与第二掩膜m2位置关系进行固定，就能够在不需要每次都对第一掩膜m1与第二掩膜m2进行对准的情况下，在图6中所示的流程中，如图6中虚线r2所示般对每个光刻对象区域重复进行步骤s3。通过这样，就能够在每个光刻对象区域上，在第一掩膜m1与第二掩膜m2位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜m1与工件w的对准。在实施方式所涉及的双面光刻装置10中掩膜与工件的对准方法中，由于作为双面光刻装置，使用的也是实施方式所涉及双面光刻装置10，因此能够获得与实施方式所涉及的双面光刻装置10同样的效果。再有，本发明不限于上述实施方式，只要不脱离本发明主旨范围的情况下可实施各种变形。例如，可实施如下的变形。(1)在上述实施方式中，用于对掩膜对准标记以及工件对准标记进行摄像的摄像机c1、c2虽然以设置在第一掩膜m1侧时为例进行了说明，但是也可以为摄像机c1、c2设置在第二掩膜m2侧的构成。另外，也可以是在第一掩膜m1侧以及第二掩膜m2侧都设置摄像机，从而根据从各处的摄像机获得的摄像图像数据来对第一掩膜m1与第二掩膜m2进行对准的同时，对第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w进行对准。(2)在上述实施方式中，第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准、以及第一掩膜m1与工件w的对准，虽然以使用相同的摄像机c1、c2有时间差地进行摄像来进行示例说明，但是也可以分别对应设置在第一掩膜m1上的两处掩膜对准标记p1、p2(在第二掩膜m2上则为掩膜对准标记p3、p4)设置两台摄像机，同时，分别对应设置在第一掩膜m1上的两处工件对准标记p5、p6(在工件w上则为工件对准标记p7、p8)设置两台摄像机，从而根据从各处的摄像机获得的摄像数据来进行第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准、以及第一掩膜m1与工件w的对准。此情况下，在光刻时控制各个摄像机进行回避使其位于离开光刻对象区域的位置上。(3)在上述实施方式中，用于第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w进行对准的工件对准标记p5、p6虽然在掩膜侧是设置在了第一掩膜m1上，但是也可以设置在第二掩膜m2上，也可以在第一掩膜m1以及第二掩膜m2上都进行设置。再有，即便是用于第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w进行对准的工件对准标记p5、p6设置在第二掩膜m2上时，在进行与工件w之间的对准时，也是通过第一掩膜台100的移动来进行第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w的对准。(4)在上述实施方式中，用于第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的掩膜对准标记虽然在第一掩膜m1以及第二掩膜m2上分别设置有两处，但是不限于两处，也可以是大于等于三处。同样的，用于第一掩膜m1与工件w对准的工件对准标记虽然在第一掩膜m1以及工件w上分别设置有两处，但是不限于两处，也可以是大于等于三处。(5)在上述实施方式中，虽然是以如下构成的双面光刻装置进行了示例说明：对水平方向放置的工件w分别从上下方向进行光照射从而对该工件进行光刻。但是不限于此，例如可以是如下构成的双面光刻装置：对垂直方向放置的工件w分别从左右方向进行光照射从而对该工件进行光刻。(6)图1以及图2所示的双面光刻装置10的构成仅为一例，其构成并不限于图1以及图2所示的构成，例如，也可以为图7所示的构成。图7是实施方式所涉及的双面光刻装置10的变形例的说明图。再有，图7是实施方式所涉及的双面光刻装置10的变形例(定为双面光刻装置10’)的正面图，并且是与图2对应的图。图7中与图1相同的构成要素被附上了同一符号。还有，在图7中，在将工件w安装至该双面光刻装置10’时，将该工件w的图示下面侧定为第一面wa，将该工件w的图示上面侧定为第二面wb。双面光刻装置10’基本上与实施方式涉及的双面光刻装置10为几乎同样的构成，不过如图7所示，第一掩膜m1与第二掩膜m2的位置是与实施方式涉及的双面光刻装置10相反的构成。如上述般，由于在图7中，将该工件w的图示下面侧定为第一面wa，将该工件w的图示上面侧定为第二面wb，因此第一掩膜m1与第二掩膜m2的位置是与实施方式涉及的双面光刻装置10相反的构成，但是第一掩膜m1仍然位于工件w的第一面wa侧，第二掩膜m2仍然位于工件w的第二面wb侧。由于设为了这样的构成，因此在双面光刻装置10’中所得到的第二掩膜台200的空间部201就相较于实施方式涉及的双面光刻装置10中的第二掩膜台200的空间部201变得足够的大，并且在第一掩膜台100的规定位置上垂直设置支柱111使其贯穿该空间部201，在该支柱111的前端部固定第一掩膜安装板120。再有，第一掩膜安装板120被设置为位于工件w的第一面wa侧，并且在该第一掩膜安装板120上安装有第一掩膜m1。另一方面，在第二掩膜台200的角落部垂直设置有支柱211，该支柱211的前端部固定有第二掩膜安装板220。再有，第二掩膜安装板220被设置为位于工件w的第二面wb侧，并且在该第二掩膜安装板220上安装有第二掩膜m2。双面光刻装置10’如图7所示，构成为：第一掩膜m1位于工件w的第一面wa侧；第二掩膜m2位于工件w的第二面wb侧。像这样，在双面光刻装置10’中，虽然第一掩膜m1与第二掩膜m2的位置与与实施方式涉及的双面光刻装置10相反，但是在用于第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准以及第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w的对准的运作上说，能够实施与实施方式涉及的双面光刻装置10同样的方式，通过这样，就能够获得与实施方式涉及的双面光刻装置10同样的效果。(7)在上述实施方式中，作为在进行掩膜与工件的对准时的顺序，如图6所示，是先进行第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的掩膜对准工序(步骤s2)，然后，再进行第一掩膜m1与工件w对准的掩膜·工件对准工序(步骤s3)，但是并不限于此顺序，也可以将各工序的顺序进行替换。即，也可以是在先进行第一掩膜m1与工件w对准的工序(掩膜·工件对准工序)后，再进行第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的工序(掩膜对准工序)。图8是掩膜与工件进行对准时将各工序顺序替换后的流程说明图。如图8所示，将第一掩膜m1安装至第一掩膜安装板120上的同时将第二掩膜m2安装至第二掩膜安装板220上的工序作为步骤s11进行后，将第一掩膜m1与工件w对准的掩膜·工件对准工序作为步骤s12进行，然后，将第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的掩膜对准工序作为步骤s13进行。即便是这样的顺序也能够获得与图6同样的效果。再有，关于如图8所示的掩膜·工件对准工序(步骤s12)以及掩膜对准工序(步骤s13)中的各个对准控制，基本上能够与上述实施方式中所说明的对准控制同样来实施。即使是以图8所示的顺序进行对准时，在使长条片状的工件w以卷对卷方式在一个方向上行进的过程中来进行双面光刻的情况下，每个光刻对象区域依次会位于与第一掩膜m1以及第二掩膜m2相对的位置上，此情况下在图8所示的流程图中，当步骤s13结束后，会如图8中虚线r1所示般返回步骤s12进行处理。通过这样，就能够在每个光刻对象区域上，进行第一掩膜m1与工件w的对准，和第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准。另外，只要将通过第一掩膜m1与工件w的对准(步骤s12)获得的第一掩膜m1与工件w位置关系进行固定，就能够在不需要每次都对第一掩膜m1与工件w进行对准的情况下，在图8所示的流程中，如图8中虚线r2所示般对每个光刻对象区域重复进行步骤s13。通过这样，就能够在每个光刻对象区域上，在第一掩膜m1与工件w位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准。(8)在上述实施方式中，掩膜对准标记以及工件对准标记的形状分别以定为圆点形状为示例，但是其并且不限于圆点形状，可以实施三角形或四角形等的多角形、星形等的各种变形。(9)在上述实施方式中，是以在设置用于第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的掩膜对准标记的同时，设置用于第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w对准的工件对准标记，从而进行第一掩膜m1与第二掩膜m2的对准的同时，进行第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w的对准为示例，但是在进行掩膜之间的对准时和进行掩膜与工件的对准时，也能够共用各对准标记中的一部分对准标记。图9是掩膜之间进行对准时与掩膜与工件进行对准时共用各对准标记中的一部分对准标记时的说明图。其中，图9(a)为例如将第一掩膜m1、第二掩膜m2以及工件w如图4所示般进行配置时，将第一掩膜m1、第二掩膜m2以及工件w的各自一部分沿x轴进行切割后的截面图，图9(b)则是从第一掩膜m1侧观看图9(a)时的平面图。再有，在图9中，第一掩膜m1、第二掩膜m2、工件w以及对准标记等是被夸张后标示的。另外，在上述实施方式中，虽然将用于第一掩膜m1与第二掩膜m2进行对准的标记定为“掩膜对准对准标记”；将用于第一掩膜m1以及第二掩膜m2与工件w进行对准的标记定为“工件对准对准标记”，但是在图9中，则将这些总称为“对准标记”来进行说明。如图9所示，设置在第一掩膜m1上的对准标记p11例如定为点状标记，设置在第二掩膜m2上的对准标记p21定为能够包含设置在第一掩膜m1上的对准标记p11的框形(在图9中定为圆形)标记，设置在工件w上的对准标记p31的内侧为中空(孔)。像这样的对准标记p11、p21、p31在第一掩膜m1、第二掩膜m2以及工件w上的规定位置上被分别设置有多处(例如两处)。此处，例如在第一掩膜m1与第二掩膜m2进行对准时，进行对准控制使设置在第一掩膜m1上的对准标记p11与设置在第二掩膜m2上的对准标记p21一致(对准标记p11位于对准标记p21的中心)。然后，在第一掩膜m1与第二掩膜m2完成对准的状态下，在进行第一掩膜m1与工件w的对准时，进行对准控制使设置在第一掩膜m1上的对准标记p11与设置在工件w上的对准标记p31一致(对准标记p11位于对准标记p31的中心)。图9(b)展示的就是第一掩膜m1与第二掩膜m2完成对准，并且，第一掩膜m1与工件w完成对准的状态。再有，采用图9中所示发热对准标记时的对准控制，能够通过图5所示的对准控制装置500来进行。即，根据对分别设置有两处的对准标记p11、p21、p31利用分别对应的摄像机c1、c2进行摄像后获得的摄像数据，控制第二掩膜台200从而使分别设置在第一掩膜m1和第二掩膜m2上的对准标记p11、p21一致的同时，控制第一掩膜台100从而使分别设置在第一掩膜m1和工件w上的对准标记p11、p31一致。即使是在采用图9所示的对准标记的情况下，也能够在不移动和不转动工件的情况下，能够将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。像这样，通过采用图9所示的对准标记p11、p21、p31，就能够在掩膜之间进行对准时和掩膜与工件进行对准时共用各对准标记中的一部分对准标记。例如，在上述实施方式中第一掩膜m1的掩膜对准标记p1则相当于图9中的对准标记p11，同样的，第二掩膜m2的掩膜对准标记p3则相当于图9中的对准标记p21。还有，在上述实施方式中第一掩膜m1的工件对准标记p5则相当于图9中的对准标记p11，同样的，工件w的工件对准标记p7则相当于图9中的对准标记p31。像这样，图9所示的对准标记p11就在掩膜之间进行对准时和掩膜与工件进行对准时作为共用的对准标记发挥了功能。该情况下，对准标记p11、p21、p31被设置在第一掩膜m1、第二掩膜m2、以及工件w上，通过这些对准标记p11、p21、p31能够对第一掩膜m1与第二掩膜m2、第二掩膜m2以及第二掩膜m2与工件w进行对准的位置上。即使是在采用图9所示的对准标记的情况下，也具有可控制摄像装置c(摄像机c1、c2)移动的摄像装置移动控制装置600(参照图5),该摄像装置移动控制装置600至少在光刻时控制摄像装置c(摄像机c1、c2)移动从而使摄像装置c(摄像机c1、c2)位于离开工件w上的光刻对象区域b的位置上。另外，即使是在采用图9所示的对准标记的情况下，进行第一掩膜m1与第二掩膜m2对准的掩膜对准工序以及进行第一掩膜m1与工件w对准的工件对准工序，可以是按图6所示的顺序进行，也可以是按图8所示的顺序进行。(10)在上述实施方式中，虽然是以一边使长条片状的工件w在一个方向上行进，一边依次进行双面光刻，也就是以卷对卷方式的双面光刻装置来作为示例的，但是并不限于这样的双面光刻装置，也可以是对短条片状的工件w一片一片来进行光刻的双面光刻装置。(11)在上述实施方式中，虽然在将摄像装置(摄像机c1、c2)设为位于离开光刻区域的位置上时，是以使摄像装置(摄像机c1、c2)移动至位于可对掩膜对准标记p1、p2进行摄像的位置上来作为示例的，但是只要是位于离开光刻对象b1的位置上，就不必一定是要位于可对掩膜对准标记p1、p2进行摄像的位置上。例如，只要是将摄像装置安装在机械臂等上并可自在地移动，就能够将摄像装置移动至光刻对象区域b1外的任意位置上。(12)在上述实施方式中，虽然是以第一掩膜m1如图1以及图2所示安装在第一掩膜安装板120的上方面侧，同时，第二掩膜m2如图1以及图2所示安装在第二掩膜安装板220的下方面侧的构成来进行示例的，但并不限于此，也可以是将第一掩膜m1安装在第一掩膜安装板120的下方面侧，同时，第二掩膜m2安装在第二掩膜安装板220的上方面侧的构成。这种情况在图7所示的双面光刻装置的变形例(双面光刻装置10’)中也一样。即，在双面光刻装置10’中，也可以是第一掩膜m1安装在第一掩膜安装板120的上方面侧，同时，第二掩膜m2安装在第二掩膜安装板220的下方面侧的构成。符号说明10···双面光刻装置、100···第一掩模台、101，121、201，221···空间部、111，211···支柱(支撑部件)、120···第一掩膜安装板、200···第二掩膜台、220···第二掩膜安装板、310···第一光源、320···第二光源、330，340···反射镜、500···对准控制装置、510···第一掩膜台驱动控制部、520···第二掩膜台驱动控制部、530···控制部、c(c1，c2，c3，c4)···摄像装置(摄像机)、l1，l2···光轴、m1···第一掩膜、m2···第二掩膜、p1，p2，p3，p4···掩膜对准标记、p5，p6，p7，p8···工件对准标记、sx11、sx12，sy13，sx21、sx22，sy23···电机(伺服电机)、w···工件、wa···工件的第一面、wb···工件的第二面。当前第1页12当前第1页12