1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形；
在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，所述彩色层中包括由正性光刻胶制成的子彩色层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述黑矩阵图形中任一侧面与所述衬底基板的夹角为预设角度，在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，包括：
在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成由正性光刻胶制成的第一膜层；
通过第一掩模版对所述第一膜层进行曝光，在进行所述曝光时控制所述第一掩模版与所述第一膜层的距离使所述第一掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度；
对所述第一膜层进行显影以形成所述彩色层中的第一子彩色层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设角度满足α＝D/L，所述α为所述预设角度，所述D为所述第一掩模版与所述第一膜层的距离，所述L＝2毫米。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形，包括：
在所述衬底基板上形成由负性光刻胶制成的遮光层；
通过第二掩模版对所述遮光层进行曝光，在进行所述曝光时控制所述第二掩模版与所述遮光层的距离使所述第二掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度；
对所述遮光层进行显影以形成所述黑矩阵图形。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层之后，所述方法还包括：
在形成有所述彩色层的衬底基板上依次形成公共电极层和取向层。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层之后，所述方法还包括：
在形成有所述彩色层的衬底基板上依次形成平坦层、公共电极层和取向层，所述平坦层的厚度小于1.5微米。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述取向层由聚酰亚胺制成。
8.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
衬底基板；
所述衬底基板上设置有由负性光刻胶制成的黑矩阵图形；
在设置有所述黑矩阵图形的衬底基板上设置有彩色层，所述彩色层中包括由正性光刻胶制成的子彩色层。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵图形中任一侧面与所述衬底基板的夹角为预设角度，所述彩色层中的第一子彩色层是在设置有所述黑矩阵图形的衬底基板上设置由正性光刻胶制成的第一膜层，再通过第一掩模版对所述第一膜层进行曝光，之后对所述第一膜层进行显影以形成的，在进行所述曝光时控制所述第一掩模版与所述第一膜层的距离使所述第一掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度。
10.根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，所述预设角度满足α＝D/L，所述α为所述预设角度，所述D为所述第一掩模版与所述第一膜层的距离，所述L＝2毫米。
11.根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵图形是在所述衬底基板上设置由负性光刻胶制成的遮光层后，通过第二掩模版对所述遮光层进行曝光，之后对所述遮光层进行显影以形成的，在进行所述曝光时控制所述第二掩模版与所述遮光层的距离使所述第二掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度。
12.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
依次设置在设置有所述彩膜层的衬底基板上的公共电极层和取向层。
13.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
依次设置在设置有所述彩膜层的衬底基板上的平坦层、公共电极层和取向层，所述平坦层的厚度小于1.5微米。
14.根据权利要求12或13所述的彩膜基板，其特征在于，所述取向层由聚酰亚胺制成。
15.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求8至14任一所述的彩膜基板。