1.一种掩膜板的制造方法，其特征在于，包括：
提供一衬底；
将所述衬底的一个表面加工成凹面；以及
在所述凹面上制作掩膜图形。
2.如权利要求1所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，将所述衬底的一个表面加工成凹面的过程包括：
测量所述衬底的外形尺寸和重量；
根据所述衬底的外形尺寸和重量对掩膜板进行形变模拟；以及
根据形变模拟结果对所述衬底的一个表面进行加工，以形成凹面。
3.如权利要求1所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述衬底为透明衬底。
4.如权利要求3所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述透明衬底采用的材料为石英。
5.如权利要求1所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述掩膜图形采用遮光材料制作。
6.一种采用权利要求1至5中任一项所述的掩膜板的制造方法制作的掩膜板，其特征在于，包括：衬底以及形成于所述衬底上的掩膜图形，所述衬底上具有掩膜图形的一个表面为掩膜面，所述掩膜面为凹面。
7.如权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述凹面是根据所述掩膜板的形变模拟结果加工而成的。
8.如权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述衬底为透明衬底。
9.如权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，所述透明衬底采用的材料为石英。
10.如权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，还包括：非掩膜面，所述非掩膜面为平面，且与所述掩膜面位置相对。