基板支撑装置的制作方法

本实用新型涉及液晶产品制作技术领域，尤其涉及一种基板支撑装置。

背景技术：

在液晶面板生产中，彩膜工艺的涂布工序结束后，需要对基板进行抽真空干燥处理，主要是在密闭空间内降低真空度使刚涂布过的膜层达到干燥的目的。由于刚涂布过的膜层是含有大量溶剂的湿膜，如果支撑基板的支撑销放置不当极易在抽真空过程中造成膜面不均等品质异常。上述工艺中抽真空时需要将基板放置于支撑装置上，而与基板接触的位置在抽真空时即会产生膜面不均的异常现象，故为了避免出现上述异常，需要将支撑基板的支撑装置放置于基板的非显示区域来实现对基板的支撑作用。

由于生产中产品的尺寸是不断变化的，基板的非显示区域也是变化的，即要求支撑基板的支撑装置也是可调节的以适应支撑基板位置的变化。目前大尺寸基板生产所用的方法是在产线规划时提前规划好生产的产品尺寸，再设计好上述支撑装置的位置。若后期产品尺寸变更，需要变更支撑装置位置时，则无法对应，只能重新制作新的支撑装置的位置来实现。同时现有的变换支撑销位置的操作均是人员进入设备内手动更换支撑销的位置，此方式的缺点：一是人员更换错误的几率较大；二是人员更换费时费力；三是人员进入设备容易带入灰尘造成产品品质不良。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种基板支撑装置，支撑销可自动移动。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种基板支撑装置，包括：

支撑杆；

第一驱动结构，用于控制所述支撑杆沿着第一方向移动；

支撑平台，可移动的设置于所述支撑杆上；

第二驱动结构，用于控制所述支撑平台沿着与所述支撑杆长度方向平行的第二方向移动；

支撑销，设置于所述支撑平台上。

进一步的，所述第一驱动结构包括：

驱动杆；

两个传动杆，与所述驱动杆传动连接；

设置于每个所述传动杆上的滑块，分别与所述支撑杆上相应的端部连接；

设置于所述驱动杆上的第一驱动单元，用于驱动所述驱动杆转动以带动所述传动杆转动、以使得所述支撑杆沿第一方向移动。

进一步的，所述驱动杆与所述传动杆之间、所述传动杆与所述滑块之间均为磁性传动连接。

进一步的，所述滑块包括连接件，所述支撑杆上设有与所述连接件对应的连接槽。

进一步的，所述驱动杆两端设置有第一测距结构，用于测量所述支撑杆在所述第一方向上的移动距离。

进一步的，还包括用于控制所述第一测距结构移动的第一调节单元，所述传动杆上设有多个滑块时，每个所述滑块上设置有与所述第一测距结构对应的第一测距孔，远离所述第一测距结构的滑块上的第一测距孔小于靠近所述第一测距结构的滑块上的第一测距孔。

进一步的，所述第二驱动结构包括：

与所述支撑杆上的传动轴传动连接的传动件，设置于所述滑块上；

设置于所述支撑杆上的滑轨；

滑动设置于所述滑轨内的滑动部，设置于所述支撑平台上；

设置于所述滑块上的第二驱动单元，用于驱动所述传动件转动以带动所述传动轴转动、以使得所述支撑平台沿着所述第二方向移动。

进一步的，所述传动件与所述传动轴之间的连接为磁性传动连接。

进一步的，所述滑块上设有第二测距结构，用于测量所述支撑平台在所述第二方向上的移动距离。

进一步的，还包括用于控制所述第二测距结构移动的第二调节单元，所述支撑杆上设有多个支撑平台时，每个所述支撑平台上设置有与所述第二测距结构对应的第二测距孔，远离所述第二测距结构的支撑平台上的第二测距孔小于靠近所述第二测距结构的支撑平台上的第二测距孔。

进一步的，还包括第三驱动结构，用于控制所述支撑销沿着所述第一方向移动。

进一步的，所述第三驱动结构设置于所述支撑平台上，所述第三驱动结构包括：

设置于所述支撑平台上的滑动件；

设置于所述支撑平台上的限位槽，所述支撑销可移动的设置于所述限位槽内；

第三驱动单元，通过所述滑动件驱动所述支撑销在所述第一方向移动。

进一步的，所述支撑平台上设置有第三测距结构，用于测量所述支撑销在所述第一方向的移动距离。

本实用新型的有益效果是：支撑销可移动到任意位置支撑基板，并可实现支撑销位置移动的自动调节，高效且节省人力。

附图说明

图1表示本实用新型实施例中基板支撑装置结构示意图；

图2表示本实用新型实施例中滑块结构示意图；

图3表示本实用新型实施例中传动杆左视图；

图4表示本实用新型实施例中支撑杆结构示意图；

图5表示本实用新型实施例中支撑平台与支撑杆连接示意图；

图6表示本实用新型实施例中支撑平台结构示意图；

图7表示本实用新型实施例中支撑平台俯视图；

图8表示本实用新型实施例中支撑平台运动方式示意图；

图9表示本实用新型实施例中支撑平台与支撑杆连接部分示意图；

图10表示本实用新型实施例中支撑销移动方式示意图；

图11表示本实用新型实施例中基板支撑装置设置多个支撑销结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的特征和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。

如图1-图11所示，本实施例提供一种基板支撑装置，包括：

支撑杆18，可移动的设置于基台11上；

第一驱动结构，用于控制所述支撑杆18沿着第一方向移动；

支撑平台41，可移动的设置于所述支撑杆18上；

第二驱动结构，用于控制所述支撑平台41沿着与所述支撑杆18长度方向平行的第二方向移动；

支撑销43，可移动的设置于所述支撑平台41上；

第三驱动结构，用于控制所述支撑销43沿着所述第一方向移动。

第一驱动结构控制所述支撑杆18沿着第一方向移动，第二驱动结构控制所述支撑平台41沿着第二方向移动，相当于对设置于所述支撑平台41上的支撑销43进行粗调，第三驱动结构控制所述支撑销43沿着所述第一方向移动，相当于对所述支撑销43进行微调，从而实现支撑销43位置的移动，且是可以在基板对应的区域内任意位置移动，并且支撑销43是自动移动，节省人力，避免污染。

所述第一驱动结构的具体结构形式可以有多种，只要实现控制所述支撑杆18沿着第一方向移动即可，本实施例中，所述第一驱动结构包括：

驱动杆15，设置于基台11的第一侧；

两个传动杆13，与所述驱动杆15传动连接，且分别位于基台11相对的第二侧和第三侧；

设置于每个所述传动杆13上的滑块14，分别与所述支撑杆18上相应的端部连接；

设置于所述驱动杆15上的第一驱动单元17，用于驱动所述驱动杆15转动以带动所述传动杆13转动、以使得所述支撑杆18沿第一方向移动。

所述传动杆13与驱动杆15连接处还设有从动单元16，以在第一驱动单元17的驱动下，驱动传动杆13转动。

优选的，所述驱动杆15与所述传动杆13之间、所述传动杆13与所述滑块14之间均为磁性传动连接。

第一驱动单元17带动驱动杆15转动，并驱动杆15和传动杆13之间采用磁性驱动的方式实现传动杆13的转动，进而传动杆13通过与滑块14之间的磁性驱动带动滑块14前后移动(沿所述第一方向移动，即图1中传动杆13的长度方向)，滑块14进而带动支撑杆18移动，实现支撑杆18在基台11上不同位置的移动。

优选的，本实施例中所述滑块14与所述支撑杆18之间的连接方式采用插接的连接方式，当然，所述滑块14与所述支撑杆18之间的连接方式并不限于此，具体的，本实施例中，所述滑块14包括连接件25，所述支撑杆18上设有与所述连接件25对应的连接槽34，如图2所示。

优选的，所述传动杆13设置于第一滑轨12上，第一滑轨12上设有与滑块14嵌合的滑槽，所述第一滑轨12上的滑槽内部设置有多个独立控制的第一控制单元，第一控制单元通过通电或断电的方式控制着滑块14是否受传动杆13的影响。

传动杆13沿其长度方向交替设有两种不同磁性的第一磁性结构和第二磁性结构，而滑块14与传动杆13接近的一面相对于传动杆13的前后分别设计成两种磁性。如滑块14移动方向前端是N极时，当传动杆13转动到S极与滑块14的N极相对应时产生异性相吸，拉动滑块14相对传动杆13向前运动，同时滑块14后端的N极与传动杆13相对应的N极产生同性相斥，推动滑块14向前运动。当传动杆13转动时N极和S极相互交替，同时滑块14与传动杆13接近侧的极性通过电磁转换相对应交替变化，通过上述方式传动杆13的转动带动滑块14移动到指定位置。

传动杆13上设置多个滑块14时，移动其中一个滑块14，只需将传动杆13上与该需要移动的滑块14对应的第一控制单元断电，则该滑块14与传动杆13之间解除磁性吸附，该滑块14可在传动杆13上通过磁性转化而移动，(其他滑块14对应的第一控制单元是通电的，即其他滑块14是吸附固定于传动杆13上不能移动的，所以在该滑块14移动时，其他滑块14不受影响)该滑块14移动到预定位置时，将该滑块14对应的第一控制单元通电，则该滑块14与传动杆13之间产生磁性吸附而固定于传动杆13上。

为了使得所述支撑杆18可以准确的到达预定位置，本实施例中，所述驱动杆15两端设置有第一测距结构161，用于测量所述支撑杆18在所述第一方向上的移动距离。

只要实现测量所述支撑杆18在所述第一方向上的移动距离，每个所述滑块14上也可以设置所述第一测距结构161。

优选的，所述第一测距结构161采用激光测距的方式进行测距。

优选的，还包括用于控制所述第一测距结构移动的第一调节单元，所述传动杆上设有多个滑块时，每个所述滑块上设置有与所述第一测距结构对应的第一测距孔，远离所述第一测距结构的滑块上的第一测距孔小于靠近所述第一测距结构的滑块上的第一测距孔。如图3所示。

第一调节单元的设置实现了所述第一测距结构161位置的微调，且所述第一测距结构161的位置的移动采用自动调节的方式，以对应测量不同滑块14的距离。从而获得所述支撑杆18在所述第一方向上的移动距离。如图3所示，图3表示传动杆左视图，当基板支撑装置包括4个支撑杆18，即每个传动杆13上设置4个滑块14时，每个滑块14上设置一个第一测距孔261，4个滑块14分别为A、B、C、D，靠近第一测距结构161的滑块14上的第一测距孔261的面积大于远离第一测距结构161的滑块14上的第一测距孔261的面积，即从左侧看，从A滑块14的第一测距孔261内依次可以看到B滑块14、C滑块14、D滑块14上的第一测距孔，且B滑块14、C滑块14、D滑块14的第一测距孔261的边缘均会存在部分区域以对应A滑块14的第一测距孔261内，这样，对第一测距结构161的位置进行微调则可以通过相应的滑块14上的第一测距孔261将激光发射至相应的滑块14上以进行测距。

优选的，沿着远离第一测距结构16的方向上，滑块14上的第一测距孔的面积依次减小。

优选的，在另一实施方式中，传动杆13包括远离第一测距结构161的第一端，靠近所述第一端的滑块14上可以不设置第一测距孔，即透过C滑块14上的第一测距孔可以露出D滑块14的部分区域以便第一测距结构激光照射以测距即可。

传动杆13上的滑块14设置成不同结构(不同的第一测距孔大小的设置)，即当基台11平面上有多个支撑杆18时，通过自动微调所述第一测距结构161的位置后，沿传动杆13方向均可分别测定每个滑块14的位置，进而控制支撑杆18的位置，便于调节单个支撑杆18的位置，而不受其他支撑杆18的影响。

所述第二驱动结构的具体结构形式可以有多种，只要实现控制所述支撑平台41沿着所述第二方向移动即可，本实施例中，如图2-图6所示，所述第二驱动结构包括：

与所述支撑杆18上的传动轴32传动连接的传动件24，设置于所述滑块14上；

设置于所述支撑杆18上的第二滑轨33；

滑动设置于所述第二滑轨33内的滑动部411，设置于所述支撑平台41上；

设置于所述滑块14上的第二驱动单元22，用于驱动所述传动件24转动以带动所述传动轴32转动、以使得所述支撑平台41沿着所述第二方向移动。

优选的，所述传动件24与所述传动轴32之间的连接为磁性传动连接。

为了使得所述支撑平台41可以准确的移动至预设位置，优选的，所述滑块14上设有第二测距结构23，用于测量所述支撑平台41在所述第二方向上的移动距离。

进一步的，还包括用于控制所述第二测距结构移动的第二调节单元，所述支撑杆18上设有多个支撑平台41时，每个所述支撑平台41上设置有与所述第二测距结构23对应的第二测距孔421，远离所述第二测距结构23的支撑平台41上的第二测距孔421小于靠近所述第二测距结构23的支撑平台41上的第二测距孔421。当支撑杆18上设有多个支撑平台41时，通过自动微调滑块14上第二测距结构23的位置后，沿支撑杆18方向通过每个支撑平台41上的第二测距孔421均可分别测定每个支撑平台41的位置，进而控制支撑平台41的在支撑杆18上的移动距离如图5所示。

例如，在支撑杆18上设置4个支撑平台41分别为A、B、C、D，靠近第二测距结构23的支撑平台41上的第二测距孔421的面积大于远离第二测距结构23的支撑平台41上的第二测距孔421的面积，即从左侧看，从A支撑平台41的第二测距孔421内依次可以看到B支撑平台41、C支撑平台41、D支撑平台41上的第一测距孔，且B支撑平台41、C支撑平台41、D支撑平台41的第二测距孔421的边缘均会存在部分区域以对应A支撑平台41的第二测距孔421内，这样，对第二测距结构23的位置进行微调则可以通过相应的支撑平台41上的第二测距孔421将激光发射至相应的支撑平台41上以进行测距。

优选的，沿着远离第二测距结构23的方向上，支撑平台41上的第二测距孔421的面积依次减小。

优选的，在另一实施方式中，支撑杆18包括远离第二测距结构23的第二端，靠近所述第二端的支撑平台41上可以不设置第二测距孔421，即透过C支撑平台41上的第二测距孔可以露出D滑块14支撑平台41的部分区域以便第二测距结构激光照射以测距即可。

所述支撑平台41包括本体和设置于本体下方两侧的两个所述滑动部411，所述支撑杆18包括设置传动轴32的中间部分，所述第二滑轨33包括位于所述中间部分两侧的两个滑槽，所述滑动部411可移动的嵌合于相应的所述滑槽内。

优选的，所述第二滑轨33两侧不同高度的设计(一个滑槽的开口处的端面的高度与另一个滑槽开口处的端面高度不同)，相应的，支撑平台41上的两个滑动部411不等高，如图6所示，主要用于确保支撑平台41相对支撑杆18的安装方向固定。

传动轴32带动支撑平台41移动以及传动杆13通过滑块14带动支撑杆18移动的实现方式相同，以下以传动轴32带动支撑平台41移动为例具体说明传动轴32带动支撑平台41移动的过程，如图8和图9所示：

支撑杆18上的第二滑轨33的内部两侧设计有多个独立控制的第二控制单元61，当支撑平台41安装到第二滑轨33上后，第二控制单元61通过通电或断电的方式控制着支撑平台41是否受传动轴32的影响。

支撑杆18中间部分的传动轴32转动时通过磁性的作用，带动支撑平台41沿支撑杆18长度方向移动，滑块14上的第二测距结构23精确测量支撑平台41移动的距离，当达到设定的移动距离后，位于支撑杆18两侧的第二滑轨33上且与支撑平台41的滑动部411接触的第二控制单元61断电，此时位于传动轴32上方的支撑平台41下表面因为断电失去磁性，此时支撑平台41不再受下方传动轴32转动的影响，同时由于上述第二控制单元61断电后，支撑平台41的两侧滑动部411产生磁性并与支撑杆18两侧的第二滑轨33产生磁性吸附，其作用可以确保在支撑平台41移动到所处位置后相对于支撑杆18固定，在生产中不会出现位置偏移的现象。

传动轴32设计成磁性交替的方式，如图8所示，沿传动轴32的长度方向，传动轴32包括交替设置的不同磁性的第三磁性结构321和第四磁性结构322，而支撑平台41与传动轴32接近的一面相对于传动轴32的前后分别设计成两种磁性。如支撑平台41移动方向前端是N极时，当传动轴32转动到S极与支撑平台41的N极相对应时产生异性相吸，拉动支撑平台41相对传动轴32向前运动，同时支撑平台41后端的N极与传动轴32相对应的N极产生同性相斥，推动支撑平台41向前运动。当传动轴32转动时N极和S极相互交替，同时支撑平台41与传动轴32接近侧的极性通过电磁转换相对应交替变化，通过上述方式传动轴32的转动带动支撑平台41移动到指定位置。

当需要调整支撑平台41的位置时，将与支撑平台41下端滑动部411接触的控制单元通电，支撑平台41与支撑杆18解除磁性吸附。同时，支撑平台41与传动轴32接近的一侧产生磁性，传动轴32转动带动支撑平台41移动到到指定位置。

所述第三驱动结构的具体结构形式可以有多种，只要实现所述支撑销43的移动即可，本实施例中，所述第三驱动结构设置于所述支撑平台41上，所述第三驱动结构包括：

设置于所述支撑平台41上的滑动件52；

设置于所述支撑平台41上的限位槽，所述支撑销43可移动的设置于所述限位槽内；

第三驱动单元51，通过所述滑动件52驱动所述支撑销43在所述第一方向移动。

所述支撑销43在所述支撑平台41上的移动相当于微调，以保证所述支撑销43移动位置的准确性。

进一步的，所述支撑平台41上设置有第三测距结构42，用于测量所述支撑销43在所述第一方向的移动距离。

支撑销43放置于支撑平台41上表面的定位结构的圆形凹槽中，支撑销43通过磁性方式与定位结构固定连接。滑动件带动支撑销43左右移动，通过第三测距结构42精确控制支撑销43相对支撑平台41的移动距离。

支撑杆18、支撑平台41、支撑销43的移动均是自动控制，可通过PLC控制系统达到自动控制调节的目的。

为了便于操作设置相对于基台11位置的统一坐标，当需要在基台11指定位置安放支撑销43支撑基板时，可在PLC控制系统的控制面板上直接输入需要安放支撑销43位置的坐标，PLC控制系统便可按照设定的坐标值自动控制基板支撑装置中第一驱动结构驱动支撑杆18移动、控制第二驱动结构驱动支撑平台41移动、控制第三驱动结构驱动支撑销43移动，以下具体说明。

如图10所示，当需要放置支撑销43在坐标为M(100，200)的位置时，在PLC控制系统控制面板上直接输入对应的上述坐标值，则经过系统程序的转换，第一驱动单元17驱动传动杆13转动，传动杆13通过磁性驱动带动滑块14移动，当第一测距结构161测得距离为X(A+100-a/2)(A为第一测距结构161到基台11的距离，a为支撑杆18的宽度)时，第一驱动单元17停止工作，此时支撑杆18达到指定位置。同时，第二驱动单元22驱动支撑杆18上的传动轴32转动，传动轴32通过磁性驱动带动支撑平台41移动，当第二测距结构23装置测得的距离为Y(B+200-b/2)(B为第二测距装置到基台11的距离，b为支撑平台41的宽度)时，第二驱动单元22停止工作，此时支撑平台41达到指定位置。第三驱动单元51则控制支撑平台41上的支撑销43移动，直到第三测距结构42测得的距离为c/2(c为支撑平台41的长度)。至此，便将支撑销43置于指定的坐标M(100,200)的位置。

在实际生产中经常需要同时调节多个支撑销43的位置，为方便调节，将同一传动杆13上的滑块14设计成如图11所示结构，通过调节第一测距结构161的对应位置可控制测量不同滑块14移动的距离。按照需要调节支撑销43所在的支撑平台41和支撑平台41所在的支撑杆18以及支撑杆18所对应的滑块14的对应位置。支撑杆18的移动距离、支撑平台41的移动距离、支撑销43的移动距离可根据需要，调整相应测距结构的位置分别进行测量。

如需调节图11中滑块14X2对应支撑杆18上的支撑平台41Y3上的支撑销43到达坐标(100，200)位置，此时只需通过PLC控制系统选择支撑平台41Y3对应的编号(X2，Y3)，将通过PLC控制系统自动调节第一测距结构161到能够测量滑块14X2距离的位置，同时第二测距结构23则自动调节到能够测量支撑平台41Y3距离的位置。通过PLC控制系统控制第一驱动单元17驱动滑块14移动、控制第二驱动单元22驱动支撑平台41的移动，进而实现对支撑平台41Y3上支撑销43的移动。

在指定支撑销43移动过程中，其他支撑销43的位置与需要变动位置的支撑销43的移动互不干扰。

当需要减少基台11平面上的支撑杆18数量时，可通过移动支撑杆18两端的滑块14到达基台11的左右两侧，将支撑杆18放置于与基台11不干涉的区域，此时滑块14的连接件25和传动件24经电磁转换失去磁性与支撑杆18脱离连接。同样，当需要增加基台11平面上的支撑杆18数量时则移动滑块14到达需要增加的支撑杆18的位置，此时连接件25和传动件24经电磁转换恢复磁性，连接并固定支撑杆18，并将支撑杆18移动到基台11需要的位置。

以上所述为本实用新型较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。