一种干膜曝光对位装置的制作方法

技术特征：

1.一种干膜曝光对位装置，包括固定座(1)，其特征在于，所述固定座(1)上开设有两个相互平行的滑槽(2)，且滑槽(2)的横截面呈倒T形结构，每个所述滑槽(2)内均滑动设有两个曝光钉(3)，所述固定座(1)上设有下干膜(4)和上干膜(6)，所述下干膜(4)和上干膜(6)的四个拐角处均开设有孔洞，且曝光钉(3)设置在孔洞内，所述下干膜(4)和上干膜(6)之间的曝光钉(3)一侧开设有第二凹槽(13)，四个所述第二凹槽(13)上共同卡和有PCB板(5)，且PCB板(5)设置在下干膜(4)和上干膜(6)之间，远离所述第二凹槽(13)的侧面上开设有螺纹孔，且螺纹孔与第二凹槽(13)相连通，所述螺纹孔内设有螺纹杆(11)，所述曝光钉(3)远离滑槽(2)的一端螺纹连接有圆管(8)，所述圆管(8)内设有多个LED灯(10)，所述LED灯(10)下方的曝光钉(3)开设有第一凹槽(7)，所述第一凹槽(7)内设有纽扣电池(9)，所述LED灯(10)通过导线连接纽扣电池(9)。

2.根据权利要求1所述的一种干膜曝光对位装置，其特征在于，所述螺纹杆(11)远离PCB板(5)的一端固定设有手捏片(12)，所述手捏片(12)呈蝴蝶形状。

3.根据权利要求1所述的一种干膜曝光对位装置，其特征在于，其中一个所述滑槽(2)一侧的固定座(1)上设有刻度条(14)。

4.根据权利要求1所述的一种干膜曝光对位装置，其特征在于，所述下干膜(4)和上干膜(6)均为黑菲林。

5.根据权利要求1所述的一种干膜曝光对位装置，其特征在于，所述曝光钉(3)在滑槽(2)的表面上涂有耐磨层，所述耐磨层为氧化硅制成。