感光性树脂材料和树脂膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种感光性树脂材料和树脂膜，具体而言，涉及一种用于形成永久膜 的感光性树脂材料。
【背景技术】
[0002] 作为形成构成再布线层的绝缘层等构成电子装置的永久膜的材料，有时使用感光 性树脂材料。作为这样的技术，例如可以举出专利文献1和2中记载的技术。
[0003] 专利文献1中记载的技术涉及一种用于形成永久抗蚀剂的感光性树脂组合物。在 专利文献2中记载了一种含有特定结构的酰亚胺化的四羧酸、二胺和/或异氰酸酯系化合 物、感光性树脂以及光聚合引发剂，且粘度在25°C时为lOOmPa*s以下的感光性树脂组合物 溶液。
[0004] 现有技术文献
[0005] 专利文献
[0006] 专利文献1 :日本特开2008-180992号公报
[0007] 专利文献2 :日本特开2010-006864号公报
【发明内容】
[0008] 发明所要解决的课题
[0009] 对使用感光性树脂材料所形成的树脂膜，例如使用光刻进行图案化。然而，有时起 因于显影所使用的溶解液，在树脂膜表面产生相对于该溶解液为难溶的白化层。此时，在图 案化时，担心难以实现优异的加工性。因此，关于使用感光性树脂材料所形成的树脂膜，要 求维持作为永久膜的性能，并且实现优异的加工性。
[0010] 用于解决课题的技术方案
[0011] 根据本发明，提供一种用于形成永久膜的感光性树脂材料，其含有具有酚性羟基 的碱可溶性树脂（A)和感光剂（B)，通过无火焰原子吸光分析所测得的、铁相对于不挥发成 分整体的含量为〇? 005ppm以上80ppm以下。
[0012] 根据本发明，提供一种树脂膜，其是使上述的感光性树脂材料固化而得到的。
[0013] 根据本发明，提供一种树脂膜，其构成永久膜，该树脂膜是使含有具有酚性羟基的 碱可溶性树脂（A)和感光剂（B)的感光性树脂材料固化而得到的，并且通过无火焰原子吸 光分析所测得的铁的含量为〇. 〇〇5ppm以上80ppm以下。
[0014] 发明效果
[0015] 根据本发明，关于使用感光性树脂材料所形成的树脂膜，能够维持作为永久膜的 性能，并且实现优异的加工性。
【附图说明】
[0016] 上述的目的及其它的目的、特征及优点通过如下所述的优选实施方式及其附带的 以下附图更明了。
[0017] 图1是表示本实施方式涉及的电子装置的一个例子的剖面图。
【具体实施方式】
[0018] 下面，使用附图对实施方式进行说明。另外，在所有的附图中，对同样的构成要素 赋予同样的符号，适当省略说明。
[0019] 本实施方式涉及的感光性树脂材料为用于形成永久膜的感光性树脂材料，含有具 有酚性羟基的碱可溶性树脂（A)和感光剂（B)。另外，感光性树脂材料的通过无火焰原子吸 光分析所测得的、铁相对于不挥发成分整体的含量为〇. 〇〇5ppm以上80ppm以下。
[0020] 本发明人新发现，通过将感光性树脂材料的铁相对于不挥发成分整体的含量设为 上述范围，关于使用感光性树脂材料所形成的树脂膜，能够维持作为永久膜的性能，并且抑 制光刻时的白化层的产生。所谓作为永久膜的性能，例如可以举出通过HAST试验等所评价 的耐久性。因此，根据本实施方式，关于使用感光性树脂材料所形成的树脂膜，能够维持作 为永久膜的性能，并且实现优异的加工性。
[0021] 下面，对本实施方式涉及的感光性树脂材料以及具备通过感光性树脂材料所形成 的永久膜的电子装置的构成，进行详细地说明。
[0022] 首先，对本实施方式涉及的感光性树脂材料进行说明。
[0023] 感光性树脂材料可以用于形成永久膜。通过使感光性树脂材料固化能够得到构成 永久膜的树脂膜。在本实施方式中，例如将通过感光性树脂材料所构成的涂膜通过曝光和 显影而图案化成所期望的形状后，通过热处理等使该涂膜固化，由此形成永久膜。
[0024] 作为使用感光性树脂材料所形成的永久膜，例如可以举出：层间膜、表面保护膜或 坝材（dammaterial)。永久膜的用途不限定于此，但不包括作为彩色滤光片和黑矩阵等对 可见光具有较高的遮光性的膜的用途。
[0025] 层间膜是指多层结构中所设的绝缘膜，其种类没有特别限定。作为层间膜，例如 可以举出：构成半导体元件的多层布线结构的层间绝缘膜、构成电路板的积层（built-up) 或者芯层等半导体装置用途中所使用的膜。另外，作为层间膜，例如可以举出：覆盖显示装 置中的薄膜晶体管（TFT(ThinFilmTransistor))的平坦化膜、液晶取向膜、MVA(Multi DomainVerticalAlignment)型液晶显示装置的彩色滤光片基板上所设的突起或者用于 形成有机EL元件的阴极的隔壁等显示装置用途中所使用的膜。
[0026] 表面保护膜是指形成在电子部件、电子装置的表面，用于保护该表面的绝缘膜，其 种类没有特别限定。作为这样的表面保护膜，例如可以举出：半导体元件上所设的钝化膜或 者缓冲涂层或柔性基板上所设的盖涂层。另外，坝材为被用于形成用于在基板上配置光学 元件等的中空部分的间隔物。
[0027] 感光性树脂材料含有铁。具体而言，通过无火焰原子吸光分析所测得的、感光性树 脂材料的铁相对于不挥发成分整体的含量为〇. 〇〇5ppm以上80ppm以下。通过将铁的含量 设为上述下限值以上，能够抑制在对使用感光性树脂材料所形成的树脂膜进行曝光、显影 时产生相对于显影液为难溶的白化层。因此，能够谋求提高图案化中的加工性。另外，也能 够提高使用感光性树脂材料所形成的树脂膜的耐温度循环性。另一方面，通过将铁的含量 设为上述上限值以下，关于使用感光性树脂材料所形成的树脂膜能够提高耐湿可靠性等， 实现具有优异的耐久性的永久膜。另外，在图案化时也能够抑制图案不良的产生。进而，通 过将感光性树脂材料的铁相对于不挥发成分整体的含量设为上述范围内，也能够抑制起因 于从树脂膜形成工序至曝光、显影工序的耗用时间的不均使光刻特性产生不均。
[0028] 在本实施方式中，从谋求维持耐久性等作为永久膜的性能、并且提高图案化中的 加工性的观点考虑，感光性树脂材料的铁相对于不挥发成分整体的含量更优选为0.oippm 以上50ppm以下，特别优选为0? 03ppm以上45ppm以下。
[0029] 在本实施方式中，感光性树脂材料的铁相对于不挥发成分整体的含量可以由例如 通过无火焰原子吸光分析所测得的清漆（varnish)状感光性树脂材料中的铁含量算出。需 要说明的是，在无火焰原子吸光分析中，例如可以使用通过NMP(N-甲基吡咯烷酮）等稀释 清漆状感光性树脂材料而成的物质。
[0030] 另外，感光性树脂材料中的不挥发成分的比例（质量％ )例如可以如下测定。首 先，在测定了质量（m。）的铝杯中量取作为试样的感光性树脂材料l.Og。此时，将试样和铝 杯的总质量设为叫。接着，将铝杯在调整为210°C的热风干燥机中、常压下保持1小时后，从 热风干燥机取出冷却至室温。接着，对冷却的试样和铝杯的总质量（m2)进行测定。然后， 由以下的式子算出感光性树脂材料中的不挥发成分的比例（质量％)。
[0031] 不挥发成分（质量％ ) = (n^-nO/Onfm。）X100
[0032] 作为感光性树脂材料中存在的铁，例如含有非离子性的铁。由此，在对使用感光性 树脂材料所形成的树脂膜进行曝光、显影时，能够有效地抑制白化层的产生而谋求加工性 的提高。作为非离子性的铁，例如可以举出：由铁和/或其化合物构成的颗粒、或由铁和其 它的金属的合金构成的颗粒等含铁颗粒。作为铁的化合物，例如可以举出氧化铁。另外，作 为其它的金属，例如可以举出镍。在本实施方式中，例如使铁颗粒、氧化铁颗粒或铁合金颗 粒等含铁颗粒混入感光性树脂材料中，由此得到这样的构成。作为这样的含铁颗粒，例如可 以举出：市售的Sigma-Aldrich公司制、Attotec(株）制和日本QuantumDesign(株）制 的纳米颗粒。
[0033] 在感光性树脂材料中含有非离子性的铁的情况下，感光性树脂材料的非离子性的 铁相对于不挥发成分整体的含量例如优选为〇? 〇〇5ppm以上80ppm以下，更优选为0?Oippm 以上50ppm以下，特别优选为0? 0