) 4或Si (0C 3H7) 4或Si (0C 4H9) 4获 得的金属氧化物制成的涂层，这是由于所述涂层在耐显影性上表现出色。
[0116] 基底 可使用任何基底作为用于本发明的基底，只要所述基底具有在光敏平版印版中使用所 需要的所需性质，例如强度、耐久性和柔韧性。
[0117] 所述基底的实例包括金属板，例如铝、锌、铜、不锈钢和铁板；塑料膜，例如聚对苯 二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇缩乙醛和聚乙烯膜；通过在纸或塑料膜上真空沉积或 层压金属层获得的复合材料，在纸或塑料膜上熔融涂布树脂或涂布合成树脂溶液；和用作 印版载体的材料。在这些基底中，优选使用铝基底和用铝涂布的复合基底。
[0118] 优选使铝基底的表面经历表面处理，目的在于增强水保持性并改善与所述光敏层 的粘合。所述表面处理的实例包括表面粗化处理如刷抛光、球抛光、电解蚀刻、化学抛光、液 体珩磨、喷砂和它们的组合。在这些表面处理中，包括使用电解蚀刻的表面粗化处理是优选 的。
[0119] 当电解浴被使用在电解蚀刻中时，使用含有酸、碱或它们的盐的水溶液或含有有 机溶剂的水溶液。在这些当中，含有盐酸、硝酸、或它们的盐的电解质溶液是优选的。
[0120] 如果需要，使用酸或碱的水溶液使经表面粗化处理过的铝基底经受除污。优选使 如此获得的铝基底经历阳极化处理。特别优选的是在包含硫酸或磷酸的浴中处理的阳极化 处理。
[0121] 优选使铝基底在经历表面粗化处理（磨版处理）和阳极化处理之后经历亲水化 处理。所述亲水化处理可以由如下方式进行：将铝基底浸入热水或包含无机或有机盐的热 水溶液，采用蒸汽浴密封处理，硅酸盐处理（硅酸钠或硅酸钾），氟锆酸钾处理，磷钼酸盐处 理，钛酸烷基酯处理，聚丙烯酸处理，聚乙烯基磺酸处理，聚乙烯基膦酸处理，植酸处理，采 用亲水性有机聚合物化合物和二价金属的盐的处理，通过采用含有磺酸基团的水溶性聚合 物的底涂布的亲水化处理，采用酸性染料的着色处理，或采用硅酸盐的电沉积。
[0122] 本发明的平版印版前体可按上文所述制备。
[0123] 曝光和显影 将本发明的平版印版前体根据其各自图像形成层的性质按图像曝光。曝光方法的具体 实例包括光辐射，如采用红外激光器的红外线辐射、采用紫外激光器或紫外灯的紫外线辐 射、可见光的辐射；电子束辐射如γ-射线辐射；和采用热头、热辊、使用非接触型加热器或 热风的加热区的热能量施加等。本发明的光敏平版印版可以用作根据来自计算机的数字图 像信息，使用激光器，能够直接在版上书写图像的所谓计算机直接制版（CTP)版。也可以通 过使用GLV(移植光阀）或DMD (数字镜设备）作为数字图像书写工具的方法书写图像。
[0124] 作为本发明的光敏平版印版曝光的光源激光器，最优选使用在近红外或红外范围 内具有最大强度的高输出激光器。在近红外或红外范围内具有最大强度的高输出激光器的 实例包括在760nm至3000nm，和具体地，760nm至1200nm的近红外或红外范围内具有最大 强度的各种激光器，例如半导体激光器和YAG激光器。如果需要，显影处理可以在使用激光 器在光敏层上书写图像和在加热烘箱中热处理之后进行。
[0125] 通过使用激光器在光敏层上书写图像，随后显影处理和使用湿方法去除非图像区 域，将本发明的光敏平版印版转换成含有在其上形成的图像区域的平版印版。水或水性碱 性显影剂可用作显影处理的显影剂。
[0126] pH为8或更高的水性碱溶液通常用作水性显影剂。
[0127] 显影剂中所用碱性试剂的实例包括无机碱化合物，例如硅酸钠，硅酸钾，氢氧化 钾，氢氧化钠，氢氧化锂，仲或叔磷酸的钠、钾或铵盐，偏硅酸钠，碳酸钠和氨；和有机碱化合 物，例如单甲基胺，二甲胺，三甲胺，单乙胺，二乙胺，三乙胺，单异丙胺，二异丙胺，正丁胺， 二正丁胺，单乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，叮丙啶和乙二胺。
[0128] 显影剂中所述碱性试剂的含量优选在0. 005至10质量％且特别优选在0. 05至5 质量％的范围内。显影剂中小于〇. 005质量％的所述碱性试剂含量不是优选的，因为显影 不能充分进行。大于10质量％的含量不是优选的，因为不利影响如图像部分的腐蚀被作用 于显影。
[0129] 有机溶剂也可加入显影剂。可加入显影剂的有机溶剂的实例包括乙酸乙酯，乙酸 丁酯，乙酸戊酯，乙酸苄酯，乙二醇单丁基乙酸酯，乳酸丁酯，乙酰丙酸丁酯，甲基乙基酮，乙 基丁基酮，甲基异丁基酮，环己酮，乙二醇单丁基醚，乙二醇单苄基醚，乙二醇一苯基醚，苄 醇，甲基苯基卡必醇，正戊醇，甲基戊醇，二甲苯，亚甲基二氯化物，二氯化乙烯和单氯苯。当 有机溶剂被加入显影剂时，有机溶剂的含量优选为20质量％或更小，并且特别优选10质 量％或更小。
[0130] 如果需要，还可以向前述显影剂添加水溶性亚硫酸盐，例如亚硫酸锂，亚硫酸钠， 亚硫酸钾和亚硫酸镁；羟基芳族化合物，例如碱可溶吡唑啉酮化合物，碱可溶硫醇化合物 和甲基间苯二酚；水软化剂，例如多磷酸盐和氨基多元羧酸；各种表面活性剂，例如阴离 子、非离子、阳离子、两性和氟基表面活性剂，例如异丙基萘磺酸钠，正丁基萘磺酸钠，N-甲 基-正十五烷基氨基乙酸钠和月桂基硫酸钠；和各种去沫剂。此外，显影剂可含有着色剂、 塑化剂、螯合剂和稳定剂。
[0131] 可以使用用于阴图型或阳图型PS版的市售的显影剂作为所述显影剂。特别地，通 过将阴图型或阳图型PS版的市售浓缩显影剂稀释1至1，000倍制备的溶液可用作本发明 中的显影剂。
[0132] 根据光敏层的特性，本发明的免加工型光敏平版印版可用水来显影。因此，在使用 激光器在光敏层上书写图像并且直接安装到印刷机而不经受采用强碱显影剂的常规显影 处理之后，将润版水加到印刷机上的平版印版。因此，可能采用润版水显影。
[0133] 显影剂的温度优选在5-90°C的范围内，和特别优选在10_50°C的范围内。浸渍时间优 选在1秒到5分钟的范围内。如果需要，在显影期间可轻微摩擦表面。
[0134] 在完成显影处理之后，用水洗涤和/或用水溶性脱敏剂处理所述平版印版。水性 脱敏剂的实例包括水溶性天然聚合物如阿拉伯树胶、糊精和羧甲基纤维素的水溶液，和水 溶性合成聚合物如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮和聚丙烯酸的水溶液。如果需要，将酸或表面 活性剂加入这些水溶性脱敏剂。在经受采用脱敏剂的处理之后，将所述平版印版干燥和然 后作为印版用于印刷。
[0135] 可以在显影之后通过热处理获得硬质图像。热处理优选在70°C至300°C范围内的 温度下进行。优选的加热时间依赖于加热温度而变化并且在约10秒到30分钟的范围内。
[0136] 如上所述，本发明的平版印版前体能够通过基于数字信号的扫描曝光记录图像， 并且可以采用水或水溶性显影剂显影记录的图像。或者，可以通过安装印版到印刷机而不 经受显影处理而进行印刷。
[0137] 另一方面，在本发明的组合物为非光敏的情况下，本发明的组合物可共混在保护 层中，所述保护层可被提供在具有光聚合物型图像形成层的平版印版前体中的图像形成层 上。因此，在本发明的平版印版前体的一个模式中，含有前述非光敏组合物的保护层可被提 供在图像形成层上。
[0138] 另外，在本发明的组合物为非光敏的情况下，本发明的组合物可共混在空白版的 非图像形成层上，所述空白版装配在不需印刷印刷装置的印版滚筒的零件上。因此，本发明 的空白版可包含基底和在所述基底上的非图像形成层，所述非图像形成层含有用于本发明 的平版印版的非光敏组合物。
[0139] 本发明的空白版可经由与平版印版前体相同的步骤来产生。另外，空白版可在胶 版印刷机中通过装配在不需要印刷的零件上与安装在需要印刷的零件上的平版印版一起 来使用。
[0140] 实施例
[0141] 本发明将以举实例的方式更详细描述，但不应理解为对本发明的范围的限制。在 实施例中，"％"表示重量％。
[0142] 阳图型CTP版 含有氟基团的共聚物的合成 根据各合成实施例的方法，使用表1和表2中所示单体按表3和表4中所示的组合物 比率合成含有氟基团的共聚物。
[0143] 合成实施例1至4和比较性合成实施例1 在配备有冷却管、温度计、氮引入管和搅拌器的体积为300 mL的四颈圆底烧瓶中，在氮 流下放入93. 33 g甲基异丁基酮。向其中加入对应单体（总重量=40. 0 g)和0. 4 g偶氮 异丁腈。将混合物加热至90°C并同时搅拌。混合物在90°C下搅拌3小时之后，向其中加入 0.4 g偶氮异丁腈。混合物在90°C下进一步搅拌3小时。随后，反应混合物冷却到室温，并 且向其中添加26.67 g甲基异丁基酮。随后，从中取出反应产物。从而获得含有氟基团的 共聚物的25%溶液。
[0144] 合成实施例5至10 在配备有冷却管、温度计、氮引入管和搅拌器的体积为300 mL的四颈圆底烧瓶中，在氮 流下放入110. 8 g的甲基异丁基酮。向其中加入对应单体（总重量=35. 0 g)。将混合物 加热至50°C并同时搅拌。在单体溶解之后，向其中加入0.32 g偶氮异丁腈，并且将混合物 加热至90°C。混合物在90°C下搅拌3小时。随后，向其中加入0.32 g偶氮异丁腈。混合 物在90°C下进一步搅拌3小时。随后，反应混合物冷却到室温，并且向其中添加29. 2 g甲 基乙基酮。随后，从中取出反应产物。从而获得含有氟基团的共聚物的20%溶液。
[0145] 表 1
单个层的图像形成层的实例 错基底1的制备 厚度0. 24 mm的铝版用氢氧化钠的水溶液脱脂，并随后在2%盐酸水溶液中经受电解 粗化处理。从而获得中心线平均粗糙度Ra为0.5mm的磨版。此外，以电流密度2 A/dm2在 20%硫酸水溶液中阳极化处理所获得的磨版以在其上形成2.7 g/m2的氧化物膜。将阳极氧 化的铝版浸入在70°C下的2. 5%娃酸钠水溶液30秒，并且随后用水洗涤和然后干燥。从而 获得铝基底1。
[0146] 图像形成层 在如上所述获得的前述铝基底1上，使用刮棒涂布机以低速涂布表5中所示涂层溶液 1，然后在135°C下干燥40秒并且进一步缓慢冷却至在20°C至26°C的范围内的温度。从而 获得光敏平版印版。此时干燥涂层膜的量为I. 2 g/m2。
[0147] 表 5 涂层溶液1
化学式（1) 实施例1至10 实施例1至10分别将使用合成实施例1至10的含有氟基团的共聚物的光敏组合物用 作表5中所示的涂层溶液1中的"含有氟基团的共聚物"。
[0148] 实施例11 实施例11将通过按1:1比率混合合成实施例1的含有氟基团的共聚物与合成实施例 6的含有氟基团的共聚物获得的光敏组合物用作表5中所示的涂层溶液1中的"含有氟基 团的共聚物"。
[0149] 比较实施例1和2 比较实施例1使用光敏组合物，所述光敏组合物不含表5中所示的涂层溶液1中的"含 有氟基团的共聚物"。另外，比较实施例2将使用比较合成实施例1中获得的常规含有氟基 团的共聚物的光敏组合物用作表5中所示涂层溶液1中的"含有氟基团的共聚物"。
[0150] 双层的图像形成层的实例 错基底2的制备 厚度0. 24 mm的铝版用氢氧化钠的水溶液脱脂，并随后在2%盐酸水溶液中经受电解粗 化处理。从而获得中心线平均粗糙度Ra为0. 5mm的磨版。此外，以电流密度2 A/dm2在20% 硫酸水溶液中阳极化处理所获得的磨版以在其上形成2.7 g/m2的氧化物膜。将阳极氧化 的铝版浸入在60°C下的PVPA的0. 55g/L水溶液10秒，并且随后用水洗涤和然后干燥。从 而获得铝基底2。
[0151] 图像形成层 在如上所述获得的前述铝基底2上，使用刮棒涂布机以低速涂布表6中所示用于下层 的涂层溶液2,随后在130°C下干燥40秒并且进一步缓慢冷却至35°C。此时干燥涂层膜的 量为1.3 g/m2。随后，使用刮棒涂布机以低速在其上涂布表7中所示用于上层的涂层溶液 3,随后在130°C下干燥40秒并且进一步缓慢冷却至在20°C至26°C的范围内的温度。从而 获得光敏平版印版。此时干燥涂层膜的量为0.6 g/m2。
[0152] 表 6 用于下层的涂层溶液2
化学式（I) 表7 用于上层的涂层溶液3
实施例12至21 实施例12至21分别将使用合成实施例1至10的含有氟基团的共聚物的光敏组合物 用作表3中所示涂层溶液1中的"含有氟基团的共聚物"。
[0153] 实施例22 实施例22将通过按1:1比率混合合成实施例1的含有氟基团的共聚物与合成实施例 6的含有氟基团的共聚物获得的光敏组合物用作表7中所示涂层溶液3中的"含有氟基团 的共聚物"。
[0154] 比较实施例3和4 比较实施例3使用光敏组合物，所述光敏组合物不含表7中所示涂层溶液1中的"含有 氟基团的共聚物"。另外，比较实施例4将使用比较合成实施例1中获得的常规含有氟基团 的共聚物的光敏组合物用作表7中所示涂层溶液1中的"含有氟基团的共聚物"。
[0155] 单个层的图像形成层 向PT-R4300