一种光学硬化膜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种光学硬化膜。
【背景技术】
[0002]目前制作光学硬化膜的技术上，许多塑料原材生产及相关上游塑料加工产业仍以浸渍法将基板浸于特定溶液中以达到沉积的技术为主流，但是，由于浸渍法容易受到塑料基板本身形状的影响，使得硬化膜的均匀性不佳，降低制作相关组件下游制程的优良率，且成本较高。
【实用新型内容】
[0003]针对上述技术问题，本实用新型公开一种光学硬化膜，包括:从下往上依次设置为基板、UV层、耐磨涂层、硬化膜层，所述耐磨涂层的厚度为20-30 μ m。
[0004]优选到，所述基板为压克力板或者PC板。
[0005]优选到，所述耐磨涂层的厚度为25 μπι。
[0006]本实用新型的有益效果是所述光学硬化膜的环境稳定性与机械强度较高，可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上，应用广泛。
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型所述光学硬化膜的结构示意图。
[0008]其中，基板1、UV层2、耐磨涂层3、硬化膜层4。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
[0010]如图所示，本实用新型公开一种光学硬化膜，包括:从下往上依次设置为基板1、UV层2、耐磨涂层3、硬化膜层4，所述耐磨涂层3的厚度为20-30 μ m。所述基板I为压克力板或者PC板。所述耐磨涂层3的厚度为25 μπι。所述光学硬化膜的环境稳定性与机械强度较高，可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上，应用广泛。
[0011]尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。
【主权项】
1.一种光学硬化膜，其特征在于，包括:从下往上依次设置为基板、UV层、耐磨涂层、硬化膜层，所述耐磨涂层的厚度为20-30 μ m。2.根据权利要求1所述的光学硬化膜，其特征在于:所述基板为压克力板或者PC板。3.根据权利要求1所述的光学硬化膜，其特征在于:所述耐磨涂层的厚度为25μ m。
【专利摘要】本实用新型公开一种光学硬化膜，包括：从下往上依次设置为基板、UV？层、耐磨涂层、硬化膜层，所述耐磨涂层的厚度为20-30μm。所述光学硬化膜的环境稳定性与机械强度较高，可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上，应用广泛。
【IPC分类】B32B27/06, G02B1/14
【公开号】CN204807719
【申请号】CN201520040917
【发明人】蔡腾辉
【申请人】苏州鼎桥新材料科技有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年1月21日