专利名称：镀膜支架及镀膜机的制作方法
技术领域：
本发明涉及镀膜装置领域，尤其涉及一镀膜支架及包括该镀膜支架的镀膜机。
背景技术：
溅镀是利用高能粒子(如离子)轰击溅镀靶表面，使被轰击出的粒子(如原子、离子等)沉积于镀件表面。溅镀因具有较佳沉积效率、精确控制成份以及较低制造成本等优点，于工业上被广泛应用。于溅镀工艺中通常采用支架固定镀件。该支架包括主轴及多个沿主轴轴向间隔设于主轴的挂具。该主轴一端与驱动装置相连。每个挂具自主轴沿平行于主轴径向的方向延伸，其中轴线垂直于主轴的中轴线。该挂具未与主轴相连的一端，即悬空部，与溅镀靶相对， 用于固持镀件。溅镀时，该主轴于驱动装置的驱动下以溅镀靶为中心旋转，从而带动固持于挂具悬空部的镀件围绕溅镀靶旋转，实现对多个镀件批量镀膜。现有镀膜支架中，各挂具的悬空部与溅镀靶的距离恒定。而溅镀靶与挂具的悬空部的距离影响镀膜效果。距离过大，由于溅镀靶溅射范围有限，镀层的厚度可能未达到规定值；距离过小，镀层可能未形成于镀件的整个待镀表面或出现与溅镀靶正对的镀件表面的镀层较厚而离溅镀靶稍远的镀件表面的镀层较薄，造成镀层厚度不均。因此，有必要提供一种可灵活调整挂具悬空部与溅镀靶间距的溅镀支架及镀膜机来提高镀层均勻性。
发明内容
以下以实施方式为例说明一种提高镀层均勻性的镀膜支架及镀膜机。—种镀膜支架，包括主轴、挂具及转接体。该转接体一端与主轴相连。该挂具可移动地与该转接体的另一端相连。一种镀膜机，其包括上述镀膜支架。相较于现有技术，本技术方案的镀膜支架及镀膜机设有转接体，通过相对于该转接体移动该挂具来改变挂具露出转接体的长度，实现挂具与靶材的间距实时可调，从而可提高镀层均勻性。
图1是本技术方案一实施方式提供的镀膜支架的俯视图。图2是图1所示镀膜支架沿II-II线剖开后的剖视图。图3是本技术方案另一实施方式提供的镀膜机的剖视图。主要元件符号说明镀膜支架100主轴110滑动件120
挂具130
卡位件140
套筒121
转接体122
弟牺1221
Λ-Λ- ~·上山弟J而1222
外周面1211
收容腔1223
切口1224
连接部131
悬空部132
卡槽133
镀膜机200
真空容器210
靶材220
转盘230
具体实施例方式以下结合附图及具体实施方式
对本技术方案提供的镀膜支架及镀膜机进行详细说明。参见图1及图2，本技术方案一实施方式提供的镀膜支架100包括呈杆状的主轴 110、多个滑动件120、多个挂具130及多个卡位件140。请参见图2，每个滑动件120包括一个套筒121及四个转接体122。套筒121套穿主轴110，通过螺钉等常用固定元件固定于主轴110的适当位置，若拧开该固定元件，于外力作用下，套筒121可沿主轴110滑动，并可通过该固定元件再次固定于主轴110的适当位置。如此，相邻两滑动件120的间距可得以调节。套筒121具有外周面1211。每个转接体 122呈管状，其具有第一端1221及与第一端1221相对的第二端1222。第一端1221直接连接于套筒121的外周面1211。转接体122自外周面1211朝垂直于套筒121轴向的方向延伸。请一并参阅图1及图2，四个转接体122于外周面1211的投影位于同一圆周，每相邻两转接体122形成大致90度角。每个转接体122设有开口收容腔1223及与收容腔1223相通的切口 1224。切口 1224沿平行于转接体122轴向的方向延伸，并终止于靠近转接体122 的第二端1222处。挂具130包括连接部131及与连接部131相连的悬空部132。连接部131设有多个沿其轴向排布的卡槽133。连接部131可滑动地收容于转接体122的收容腔1223内，于外力的作用下，连接部131可沿转接体122的轴向于收容腔1223内移动至部分露出该转接体122外，由此调节悬空部132与主轴110的间距。悬空部132用于固持待镀工件，其与连接部131形成大致T字形结构。请一并参阅图1及图2，卡位件140可拆卸地设于转接体122的切口 1224内。卡位件140为螺钉，其一端旋入卡槽133，用于将连接部131卡位于转接体122的一指定位置。
另，镀膜支架100的结构不限于此，举例而言，转接体122的切口 1224可改设为多个沿转接体122轴向呈直线数组排布的通孔；或悬空部132与连接部131的间通过螺纹啮合，通过相对连接部131旋转该悬空部132可实现部分连接部131位于该转接体122外；或者转接体122内壁设有沿其轴向延伸的滑槽，连接部131可滑动地卡合于该滑槽；或者省去该卡位件140，连接部131直接可滑动地设于连接部131内；或者略去套筒121，转接体122 直接固定于主轴110的周面。总而言之，只要该连接部131可通过相对该转接体122运动， 改变其位于该转接体122外的长度即可。请一并参阅图1至图3，一使用上述镀膜支架100的镀膜机200包括一具有镀膜腔体的真空容器210、固定于该真空容器210腔体内的至少一靶材220、镀膜支架100及转盘230。该镀膜支架100与靶材220相对设置，且其主轴110 —端与转盘230相连。转盘 230可围绕自身中轴线旋转，可理解，镀膜支架100将随转盘230围绕转盘230中轴线转动。 镀膜支架100还与驱动装置(图未示)相连，于该驱动装置的驱动下，镀膜支架100于围绕转盘230中轴线转动的同时还将自转，即围绕自身中轴线转动。使用镀膜机200时，一并参阅图2及图3，调节悬空部132与靶材220的间距，即拧开卡位件140，沿转接体122移动连接部131至适当位置，拧紧卡位件140，将连接部131固定于该位置。然后，驱动转盘230及镀膜支架100，使镀膜支架100自转并围绕转盘230的中轴线转动，即可进行镀膜。另外，若完成对小尺寸镀件镀膜后，需对大尺寸镀件镀膜，则沿主轴110滑动套筒 121调节相邻两滑动件120的间距，以固持于挂具130的悬空部132的镀件不相互遮挡为且。相较于现有技术，本实施方式提供的镀膜机200设有转接体122，挂具130 —端可移动地收容于该转接体122内，通过于该转接体122内移动该挂具130改变挂具130露出转接体122的长度，实现挂具130与靶材220的间距实时可调，该镀膜支架100可与不同靶材220配套使用，提高镀层均勻性。另外，相邻两套筒121的间距亦可调，即相邻两排挂具 130的间距可调，使得该镀膜机200可适用于对不同尺寸的镀件镀膜，应用范围较广，无需针对不同尺寸的镀件对应设置不同的镀膜支架，无疑节约了生产成本。可以理解的是，本领域技术人员还可于本发明精神内做其它变化等用于本发明的设计，只要其不偏离本发明的技术效果均可。这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围内。
权利要求
1.一种镀膜支架，包括主轴及挂具，其特征是，该镀膜支架还包括转接体，该转接体一端与主轴相连，该挂具可移动地与该转接体的另一端相连。
2.如权利要求1所述的镀膜支架，其特征是，该转接体具有收容腔，该挂具包括连接部及用于固持待镀工件的悬空部，该连接部一端可移动地收容于该收容腔内，另一端与该悬空部相连。
3.如权利要求2所述的镀膜支架，其特征是，该镀膜支架还包括套筒，该套筒可滑动地套穿该主轴，该转接体一端固定于该套筒外壁。
4.如权利要求3所述的镀膜支架，其特征是，该镀膜支架还包括卡位件，该转接体设有与该收容腔相通的切口，该连接部表面设有多个沿该连接部轴向排布的卡槽，该卡位件一端穿过该切口并与该卡槽卡合。
5.如权利要求3所述的镀膜支架，其特征是，该镀膜支架还包括卡位件，该转接体设有多个与该收容腔相通的通孔，该多个通孔沿该转接体的轴向排布，该连接部表面设有多个沿该连接部轴向排布的卡槽，该卡位件一端穿过该多个通孔中的一个通孔并与与该通孔对应的卡槽卡合。
6.如权利要求1所述的镀膜支架，其特征是，该转接体设有滑槽，该挂具包括连接部及用于固持待镀工件的悬空部，该连接部一端可滑动地设于该滑槽内，另一端与该悬空部相连。
7.如权利要求2所述的镀膜支架，其特征是，该连接部一端与该转接体螺纹啮合。
8.一种镀膜机，包括一个镀膜腔体、设置于该镀膜腔体内的至少一个靶材及一个如权利要求1至7任一项所述的镀膜支架，该镀膜支架与该至少一个靶材相对设置。
全文摘要
本发明涉及一种镀膜支架及一种包括该镀膜支架的镀膜机。该镀膜支架包括主轴、挂具及转接体。该转接体一端与主轴相连。该挂具可移动地与该转接体的另一端相连。该镀膜支架及镀膜机设有转接体，通过相对于该转接体移动该挂具改变挂具露出转接体的长度，实现挂具与靶材的间距实时可调，可提高镀层均匀性。
文档编号C23C14/34GK102220557SQ20101014762
公开日2011年10月19日 申请日期2010年4月15日 优先权日2010年4月15日
发明者吴佳颖 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司