镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件的制作方法

文档序号:3413528阅读:240来源:国知局
专利名称:镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件的制作方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件,尤其涉及一种白色的镀膜件的制备方法及由该方法制得的白色的镀膜件。
背景技术
为了使电子装置的外壳具有丰富色彩,目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰涂层。相比这些传统工艺,PVD镀膜技术更加绿色环保,且采用PVD镀膜技术可在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰色彩层。然而现有技术中,利用PVD镀膜技术于外壳表面形成的膜层的色彩非常有限,目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、蓝色等色系。白色作为一种经典的颜色,目前业界较难通过PVD镀膜技术获得,因而利用PVD镀膜技术获得稳定的白色膜层一 直是业界研究的焦点。

发明内容
有鉴于此,有必要提供一种工艺稳定可靠的白色的镀膜件的制备方法。另外,还有必要提供一种由上述方法所制得的镀膜件。一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤
提供基材;
采用溅射法在该基材的表面形成一预制层,该预制层为含A金属的金属层,或为含A金属与M金属的不饱和氧化物层;其中A金属为钛、铝及锌中的一种或一种以上,M金属为钙及钡中的一种或两种;
对预制层进行热氧化处理以形成色彩层,该色彩层为含A金属的氧化物层,或为含A金属与M金属的氧化物层;该色彩层呈现白色,其于CIE Lab表色系统的L*坐标介于91至98之间,a*坐标介于-I至I之间,b*坐标介于_2至2之间。—种镀膜件,其包括基材及形成于基材表面的色彩层,其特征在于该色彩层为含A金属的氧化物层,或为含A金属与M金属的氧化物层,其中A金属为钛、铝及锌中的一种或一种以上,M金属为钙及钡中的一种或两种,该色彩层呈现白色,其于CIE Lab表色系统的L*坐标介于91至98之间,a*坐标介于-I至I之间,b*坐标介于_2至2之间。本发明所述白色的镀膜件的制备方法在形成色彩层时,通过对靶材的选取和对溅射温度的控制,并在镀膜后进行热氧化处理,从而在透明的基材上制备获得稳定的白色的色彩层,该色彩层性能稳定,透过透明的基材也能观察到白色。该方法工艺简单,易于操作,绿色环保。以该方法所制得的镀膜件呈现出具有吸引力的白色的外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了产品的外观竞争力。


图I为本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图;图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。主要元件符号说明
权利要求
1.一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤 提供基材; 采用溅射法在该基材的表面形成一预制层,该预制层为含A金属的金属层,或为含A金属与M金属的不饱和氧化物层;其中A金属为钛、铝及锌中的一种或一种以上,M金属为钙及钡中的一种或两种; 对预制层进行热氧化处理以形成色彩层,该色彩层为含A金属的氧化物层,或为含A金属与M金属的氧化物层;该色彩层呈现白色,其于CIE Lab表色系统的L*坐标介于91至98之间,a*坐标介于-I至I之间,b*坐标介于_2至2之间。
2.如权利要求I所述的镀膜件的制备方法,其特征在于所述基材为透明的玻璃。
3.如权利要求I所述的镀膜件的制备方法,其特征在于形成所述预制层的步骤的具体工艺参数为使用金属靶,金属靶的材质为钛、铝及锌中的一种或一种以上,金属靶 的功率为2. 5^4. 5kW,施加于基材的偏压为(T-200V,以氩气为工作气体,氩气的流量为30(T500sccm,镀膜温度为10(T30(TC,镀膜时间为I 4h。
4.如权利要求I所述的镀膜件的制备方法,其特征在于形成所述预制层的步骤的具体工艺参数为使用金属靶和陶瓷靶,金属靶的材质为钛、铝及锌中的一种或一种以上,陶瓷靶的材质为氧化钙及氧化钡中的一种或两种;金属靶的功率为2. 5^4. 5kW,陶瓷靶的功率为3 4. 5kff ;施加于基材的偏压为(T-200V,以氩气为工作气体,氩气的流量为30(T500sccm,镀膜温度为10(T30(TC,镀膜时间为I 4h。
5.如权利要求I所述的镀膜件的制备方法,其特征在于所述热氧化处理的具体工艺参数为温度为30(T60(TC,通入氧气的流量为8(Tl50sccm,处理时间为2(T60min。
6.如权利要求I所述的镀膜件的制备方法,其特征在于所述色彩层的厚度为I 2 μ m0
7.如权利要求I所述的镀膜件的制备方法,其特征在于将所述色彩层透过所述基材测试色差值的结果为于CIE Lab表色系统的L*坐标介于85至90之间,a*坐标介于_2至I之间,b*坐标介于-2至2之间。
8.—种镀膜件,其包括基材及形成于基材表面的色彩层,其特征在于该色彩层为含A金属的氧化物层,或为含A金属与M金属的氧化物层,其中A金属为钛、铝及锌中的一种或一种以上,M金属为钙及钡中的一种或两种,该色彩层呈现白色,其于CIE Lab表色系统的L*坐标介于91至98之间,a*坐标介于-I至I之间,b*坐标介于_2至2之间。
9.如权利要求8所述的镀膜件,其特征在于所述基材为透明的玻璃。
10.如权利要求8所述的镀膜件,其特征在于将所述色彩层透过所述基材测试色差值的结果为于CIE Lab表色系统的L*坐标介于85至90之间,a*坐标介于_2至I之间,b*坐标介于-2至2之间。
11.如权利要求8所述的镀膜件,其特征在于所述色彩层的厚度为I 2μπι。
全文摘要
本发明提供一种白色的镀膜件的制备方法,其包括如下步骤提供基材;采用溅射法在该基材的表面形成一预制层,该预制层为含A金属的金属层,或为含A金属与M金属的不饱和氧化物层;其中A金属为钛、铝及锌中的一种或一种以上,M金属为钙及钡中的一种或两种;对预制层进行热氧化处理以形成色彩层,该色彩层呈现白色。所述镀膜件的制备方法稳定可靠且环保。本发明还提供一种由上述方法制得的白色的镀膜件。
文档编号C23C14/34GK102732825SQ20111008482
公开日2012年10月17日 申请日期2011年4月6日 优先权日2011年4月6日
发明者张新倍, 蒋焕梧, 陈文荣, 陈正士, 黄嘉 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司
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