真空电离镀膜的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种真空电离镀膜机，包括：真空室、电离头、真空管道、真空泵、靶子架、高压发生器和送料器，真空室一端设置有电离头，电离头后端设置有送料器，真空室另一端设置有真空管道，真空管道连接有真空泵，靶子架设置在真空管道前端，高压发生器设置在真空室外，高压发生器一端连接有电离头，另一端连接有靶子架。通过上述方式，本发明真空电离镀膜机具有可靠性能高、结构紧凑、镀膜效果好、镀膜速度快，成膜均匀，适合金属的快速镀膜、生产效率高、操作简便等优点，同时在镀膜领域上有着广泛的市场前景。
【专利说明】真空电离镀膜机
【技术领域】
[0001] 本发明涉及真空镀膜设备领域，特别是涉及一种真空电离镀膜机。
【背景技术】
[0002] 真空镀膜是现代工业常用的一种加工方法，在真空室内材料的原子从加热源离析 出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，后延伸到其他功能薄膜，唱 片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，常用的方法有蒸发、溅射和离子镀膜，现有的设备镀 膜效率较低，镀膜时间长，不利于快速生产，同时离子的分散性不佳。
【发明内容】
[0003] 本发明主要解决的技术问题是提供一种真空电离镀膜机，通过电离的方式实现材 料的离子化；通过电场加速，使得离子打在材料表面完成镀膜；通过充入少量惰性气体和 真空，加速离子混合并进一步提高镀膜速度；具有可靠性能高、结构紧凑、镀膜效果好、镀膜 速度快，成膜均匀，适合金属的快速镀膜、生产效率高、操作简便等优点，同时在镀膜领域上 有着广泛的市场前景。
[0004] 为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种真空电离镀膜机， 包括：真空室、电离头、真空管道、真空泵、靶子架、高压发生器和送料器，真空室一端设置 有电离头，电离头后端设置有送料器，真空室另一端设置有真空管道，真空管道连接有真空 泵，靶子架设置在真空管道前端，高压发生器设置在真空室外，高压发生器一端连接有电离 头，另一端连接有靶子架。
[0005] 在本发明一个较佳实施例中，所述电离头设置有喷气口，所述喷气口与送料器连 接。
[0006] 在本发明一个较佳实施例中，所述喷气口喷射气体为氮气或氩气。
[0007] 在本发明一个较佳实施例中，所述高压发生器负极连接电离头，正极连接靶子架， 所述高压发生器电压为1200-2000V。
[0008] 在本发明一个较佳实施例中，所述真空室内压力为5-10PSI。
[0009] 在本发明一个较佳实施例中，所述送料器所用材料为金属丝。
[0010] 本发明的有益效果是：本发明真空电离镀膜机通过电离的方式实现材料的离子 化；通过电场加速，使得离子打在材料表面完成镀膜；通过充入少量惰性气体和真空，加速 离子混合并进一步提高镀膜速度；具有可靠性能高、结构紧凑、镀膜效果好、镀膜速度快，成 膜均匀，适合金属的快速镀膜、生产效率高、操作简便等优点，同时在镀膜领域上有着广泛 的市场前景。
【专利附图】
【附图说明】
[0011] 为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使 用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于 本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它 的附图，其中： 图1是本发明的真空电离镀膜机一较佳实施例的结构示意图； 附图中各部件的标记如下：1、真空室，2、电离头，3、真空管道，4、真空泵，5、靶子架，6、 高压发生器，7、送料器，8、导线。
【具体实施方式】
[0012] 下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施 例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通 技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范 围。
[0013] 请参阅图1，本发明实施例包括： 一种真空电离镀膜机，包括：真空室1、电离头2、真空管道3、真空泵4、靶子架5、高压 发生器6和送料器7,真空室1 一端设置有电离头2,电离头2后端设置有送料器7,真空室 1另一端设置有真空管道3,真空管道3连接有真空泵4,靶子架5设置在真空管道3前端， 高压发生器6设置在真空室1外，高压发生器6 -端连接有电离头2,另一端连接有靶子架 5〇
[0014] 所述电离头2设置有喷气口，所述喷气口与送料器7连接，有效帮助混合并实现离 子加速。
[0015] 所述喷气口喷射气体为氮气或氩气，中性或者惰性，不易与镀膜物质发生反应，提 商锻I旲品质。
[0016] 所述高压发生器6负极连接电离头2,正极连接靶子架5,所述高压发生器6电压 为1200-2000V，能有效实现电场加速，使得离子飞向靶板。
[0017] 所述真空室1内压力为5-10PSI，真空度较好。
[0018] 所述送料器7所用材料为金属丝，有效输送并实现电弧电离。
[0019] 本发明真空电离镀膜机的有益效果是： 一、 通过电离的方式实现材料的离子化； 二、 通过电场加速，使得离子打在材料表面完成镀膜； 三、 通过充入少量惰性气体和真空，加速离子混合并进一步提高镀膜速度； 四、 具有可靠性能高、结构紧凑、镀膜效果好、镀膜速度快，成膜均匀，适合金属的快速 镀膜、生产效率高、操作简便等优点，同时在镀膜领域上有着广泛的市场前景。
[0020] 以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发 明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领 域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【权利要求】
1. 一种真空电离镀膜机，其特征在于，包括：真空室、电离头、真空管道、真空泵、靶子 架、高压发生器和送料器，真空室一端设置有电离头，电离头后端设置有送料器，真空室另 一端设置有真空管道，真空管道连接有真空泵，靶子架设置在真空管道前端，高压发生器设 置在真空室外，高压发生器一端连接有电离头，另一端连接有靶子架。
2. 根据权利要求1所述的真空电离镀膜机，其特征在于，所述电离头设置有喷气口，所 述喷气口与送料器连接。
3. 根据权利要求2所述的真空电离镀膜机，其特征在于，所述喷气口喷射气体为氮气 或氦气。
4. 根据权利要求1所述的真空电离镀膜机，其特征在于，所述高压发生器负极连接电 离头，正极连接靶子架，所述高压发生器电压为1200-2000V。
5. 根据权利要求1所述的真空电离镀膜机，其特征在于，所述真空室内压力为 5-10PSI。
6. 根据权利要求1所述的真空电离镀膜机，其特征在于，所述送料器所用材料为金属 丝。
【文档编号】C23C14/32GK104046946SQ201410316065
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年7月4日 优先权日:2014年7月4日
【发明者】陈学兵 申请人:苏州普京真空技术有限公司