真空系统和真空镀膜方法
【专利摘要】本发明公开了一种真空系统和真空镀膜方法，该真空系统包括输送装置、所述输送装置依次通过相隔离设置的进端锁室、进端缓冲室、进端过渡室、工艺室、出端过渡室、出端缓冲室和出端锁室，其中，所述进端锁室和所述出端锁室分别连接有机械泵以抽空，所述进端过渡室、工艺室以及出端过渡室分别连接有分子泵以抽空，所述进端缓冲室和出端缓冲室分别调整输送装置的输送速度。该真空系统能够有效防止镀膜时有空气进入。
【专利说明】真空系统和真空镀膜方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及磁控溅射领域，具体地，涉及一种真空系统和真空镀膜方法。
【背景技术】
[0002]在现有技术中，对玻璃的镀膜条件要求很是苛刻，当镀膜时有空气的进入就会导致玻璃镀的膜不符合条件，不合格，那么怎样能让玻璃进行镀膜的时候避免空气的进入，成为一种亟需解决的问题。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是克服现有技术中的真空系统在镀膜时有空气的进入的问题，提供一种真空系统和真空镀膜方法，该真空系统能够有效防止镀膜时有空气进入。
[0004]为了实现上述目的，本发明提供了一种真空系统，该真空系统包括输送装置、所述输送装置依次通过相隔离设置的进端锁室、进端缓冲室、进端过渡室、工艺室、出端过渡室、出端缓冲室和出端锁室，其中，所述进端锁室和所述出端锁室分别连接有机械泵以抽空，所述进端过渡室、工艺室以及出端过渡室分别连接有分子泵以抽空，所述进端缓冲室和出端缓冲室分别调整输送装置的输送速度。
[0005]优选地，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道；所述工艺室与所述出端过渡室之间连通有出端隔离通道。
[0006]优选地，所述进端隔离通道和所述出端隔离通道都为敞开口管道。
[0007]优选地，所述分子泵的泵口设置有气动提升阀，以控制所述分子泵抽气。
[0008]优选地，所述进端锁室、进端过渡室、出端锁室和出端过渡室上都设置有盖板，所述盖板通过密封圈密封。
[0009]优选地，所述机械泵为标准旋片泵、滑阀泵或干泵。
[0010]本发明提供一种真空镀膜方法，根据上述的真空系统，该方法包括:
[0011]S101，将待镀膜件置于有第一真空环境的所述进端锁室；
[0012]S102，将进端锁室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度依次分别经过有第二真空环境的进端缓冲室和进端过渡室；
[0013]S103，将进端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第二真空环境的工艺室以进行镀膜；
[0014]S104，将工艺室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第二真空环境的出端过渡室；
[0015]S105，将出端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第二真空环境的出端缓冲室；
[0016]S106，将出端缓冲室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第一真空环境的出端锁室。
[0017]优选地，所述第一真空环境的压力为10_4tOrr。
[0018]优选地，所述第一真空环境的压力为10_3torr。
[0019]优选地，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道以进行信号传输，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有出端隔离通道以进行信号传输。
[0020]通过上述实施方式，本发明的真空系统克服了通过进端缓冲室的设置完成从粗真空到高真空的转变，玻璃在这里抽空完毕，在可以进行镀膜前，玻璃在这里做暂时的停留，它还可以用来隔离工艺室，防止气体从锁室进入镀膜室。进端过渡室完成从正常传动速度到镀膜需要的缓慢传动速度的转变，也用于进一步进行真空隔离和抽真空。
[0021]本发明的其他特征和优点将在随后的【具体实施方式】部分予以详细说明。
【专利附图】
【附图说明】
[0022]附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的【具体实施方式】一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中:
[0023]图1是说明本发明的真空系统的【具体实施方式】的结构示意图。
【具体实施方式】
[0024]以下结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0025]在本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指具体结构如图1所示的上下左右，“内、外”是指具体轮廓上的内与外。“远、近”是指相对于某个器件的远与近。
[0026]本发明提供一种真空系统，该真空系统包括输送装置、所述输送装置依次通过相隔离设置的进端锁室、进端缓冲室、进端过渡室、工艺室、出端过渡室、出端缓冲室和出端锁室，其中，所述进端锁室和所述出端锁室分别连接有机械泵以抽空，所述进端过渡室、工艺室以及出端过渡室分别连接有分子泵以抽空，所述进端缓冲室和出端缓冲室分别调整输送装置的输送速度。
[0027]通过上述实施方式，本发明的真空系统的进端锁室可以使玻璃从大气进入粗真空环境；进端缓冲室可以完成从粗真空到高真空的转变，玻璃在这里抽空完毕，在可以进行镀膜前，玻璃在这里做暂时的停留，它还用来隔离工艺室，防止气体从进端锁室进入工艺室，进端过渡室完成从正常传动速度到镀膜需要的缓慢传动速度的转变，也用于进一步进行真空隔离和抽真空；工艺室可以存在几个工艺区，每个工艺区之前或之后都具有一个气体隔离区，玻璃在每个工艺区中都进行镀膜，利用安装在泵抽部分或阀室中的光学过程测量装置可以监视透过率；出端过渡室可以使玻璃加速离开工艺室；出端过渡室完成缓慢的镀膜传动速度到正常的传动速度的转换，另外，还可以帮助隔离工艺室，防止气体从出端锁室进入工艺室；出端缓冲室可以在出端锁室可以接收玻璃之前，它可以暂时保存玻璃，另外，还可以帮助隔离真空室，防止气体通过狭缝阀从出端锁室进入；出端锁室可以使玻璃完成从真空室到大气环境的转换。
[0028]以下结合附图1对本发明进行进一步的说明，在本发明中，通过此系统进行真空镀膜的方法也属于本发明保护的范围。
[0029]在该种实施方式中，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道；所述工艺室与所述出端过渡室之间连通有出端隔离通道；本发明利用一个叫做气体隔离通道的长开口管道，工艺区可以与旁边的气体隔离室进行通讯，通道开口的横截面比较小，这样就可以允许在工艺区的镀膜部分和相临的室之间存在一些压差，通过该通道，微分泵可以辅助隔离镀膜区位，防止气体从其它室体进入工艺区，从而把工艺区的气体所受到的污染降到最低，由于要维持适当的溅射气压，所以这同时也减少了分子泵的气体负载。在该种优选地实施方式中，所述进端隔离通道和所述出端隔离通道都为敞开口管道。
[0030]在该种实施方式中，所述分子泵的泵口设置有气动提升阀，以控制所述分子泵抽气。
[0031]在该种实施方式中，根据正确的真空实践经验，构造室体时连接室体法兰的位置必须采用单侧焊接、双面成型焊接技术。所有室体内的焊缝应当是连续的，通过这样的焊接和外侧使用的跳焊有助于检漏并减少可能的虚漏。锁室和过渡室都装配着一个用O形圈密封的盖板，这个O形圈固定在盖板法兰上，利用液体驱动可以开启盖板；在工艺室上，每个单元都有自己的盖板；溅射源阴极组件从每个工艺部分的盖板上悬挂下来。蜗轮分子泵装配在每个泵盖上，因此，所述进端锁室、进端过渡室、出端锁室和出端过渡室上都可以通过设置有盖板并通过密封圈进行密封。
[0032]在该种实施方式中，为了实现上述功能，所述机械泵优选为标准旋片泵、滑阀泵或干泵。
[0033]本发明还提供一种真空镀膜方法，根据上述的真空系统，该方法包括:
[0034]S101，将待镀膜件置于有第一真空环境的所述进端锁室；
[0035]S102，将进端锁室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度依次分别经过有第二真空环境的进端缓冲室和进端过渡室；
[0036]S103，将进端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第二真空环境的工艺室以进行镀膜；
[0037]S104，将工艺室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第二真空环境的出端过渡室；
[0038]S105，将出端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第二真空环境的出端缓冲室；
[0039]S106，将出端缓冲室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第一真空环境的出端锁室。
[0040]在对玻璃进行加工的时候，每片玻璃进入或离开的时候，进端锁室和出端锁室都必须放一次大气，为了加快泵抽速度，每个锁室都安装了一个大容量罗茨增压泵，然后在增压泵的出口处平行连接着一些机械泵。这些泵组虽然很快，但只能将锁室抽到粗真空。工艺室、进端锁室、出端锁室以及进端缓冲室和出端缓冲室也采用机械泵组，某些情况下也采用高真空泵(蜗轮分子泵)。
[0041]在该种方法中，所述第一真空环境的压力为10_4torr。
[0042]在该种方法中，所述第一真空环境的压力为10_3ton.，此为工艺区的工艺气体必须保持的压力范围。
[0043]在该种方法中，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道以进行信号传输，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有出端隔离通道以进行信号传输。
[0044]以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
[0045]另外需要说明的是，在上述【具体实施方式】中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
[0046]此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。
【权利要求】
1.一种真空系统，其特征在于，该真空系统包括输送装置、所述输送装置依次通过相隔离设置的进端锁室、进端缓冲室、进端过渡室、工艺室、出端过渡室、出端缓冲室和出端锁室，其中，所述进端锁室和所述出端锁室分别连接有机械泵以抽空，所述进端过渡室、工艺室以及出端过渡室分别连接有分子泵以抽空，所述进端缓冲室和出端缓冲室分别调整输送装置的输送速度。
2.根据权利要求1所述的真空系统，其特征在于，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道；所述工艺室与所述出端过渡室之间连通有出端隔离通道。
3.根据权利要求2所述的真空系统，其特征在于，所述进端隔离通道和所述出端隔离通道都为敞开口管道。
4.根据权利要求1所述的真空系统，其特征在于，所述分子泵的泵口设置有气动提升阀，以控制所述分子泵抽气。
5.根据权利要求1所述的真空系统，其特征在于，所述进端锁室、进端过渡室、出端锁室和出端过渡室上都设置有盖板，所述盖板通过密封圈密封。
6.根据权利要求1所述的真空系统，其特征在于，所述机械泵为标准旋片泵、滑阀泵或干泵。
7.一种真空镀膜方法，其特征在于，根据权利要求1-5所述的真空系统，该方法包括: S101，将待镀膜件置于有第一真空环境的所述进端锁室； S102，将进端锁室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度依次分别经过有第二真空环境的进端缓冲室和进端过渡室； S103，将进端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第二真空环境的工艺室以进行镀膜； S104，将工艺室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第二真空环境的出端过渡室； S105，将出端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第二真空环境的出端缓冲室； S106，将出端缓冲室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第一真空环境的出端锁室。
8.根据权利要求6所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述第一真空环境的压力为lCT4torr。
9.根据权利要求6所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述第一真空环境的压力为lCT3torr。
10.根据权利要求6所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道以进行信号传输，所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有出端隔离通道以进行信号传输。
【文档编号】C23C14/35GK104451590SQ201410628164
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年11月10日 优先权日:2014年11月10日
【发明者】薛辉, 任俊春, 金海涛 申请人:芜湖真空科技有限公司