1.一种高温低摩擦CrAlSiON纳米复合涂层，其特征在于：由CrN过渡层和CrAlSiON功能层组成；CrN过渡层中各元素的原子百分比含量为：Cr:55～75at.％，N:25～45at.％；CrAlSiON功能层中各元素的原子百分比含量为：Al:20～35at.％，Cr:10～20at.％，Si:2～12at.％，O:5～43at.％，N:10～53at.％。
2.一种权利要求1所述的高温低摩擦CrAlSiON纳米复合涂层的制备方法，其特征在于包括下述步骤：
(1)金属基体清洗：将金属基体抛光处理，然后先后用丙酮、酒精超声清洗10～20min，再用氮气吹干后装入真空室内；
(2)Ar和金属离子轰击：打开加热器升温至300～500℃，将真空室抽真空至真空度1.0～8.0×10-3Pa以下；然后通入200～300sccm的Ar气，设置工件支架偏压-800～-1000V，对金属基体表面进行溅射清洗，轰击时间10～20min；再将偏压降至-600～-800V，点燃Cr靶，靶材电流60～150A，用高能Cr离子轰击金属基体3～15min；
(3)沉积CrN过渡层：将偏压调至-100～-200V，通入200～300sccm的N2气，调节气压至1.0～3.0Pa，沉积CrN过渡层5～20min；
(4)沉积CrAlSiON功能层：通入O2，控制气压在1.0～3.0Pa，点燃CrAlSi靶，靶材电流60～150A，偏压-60～-150V，沉积时间1～2小时；
(5)关闭电弧电源，待真空室温度降至室温，打开真空室取出金属基体，在金属基体表面形成的涂层即为高温低摩擦CrAlSiON纳米复合涂层。
3.根据权利要求2所述的高温低摩擦CrAlSiON纳米复合涂层的制备方法，其特征在于：所述CrN过渡层和CrAlSiON功能层的厚度分别为0.2～1.5μm和1.5～4μm。
4.根据权利要求2所述的高温低摩擦CrAlSiON纳米复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(4)中，所述CrAlSi靶的各元素原子百分比为Cr：20～35at.％，Al：55～70at.％，Si：5～20at.％。
5.根据权利要求2所述的高温低摩擦CrAlSiON纳米复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(4)中，O2占总的反应气体的比例为2～25％，总的反应气体包括O2和N2。