1.一种处理银纳米线的方法，其特征在于，包括：
在存在保护剂的条件下，使含有所述银纳米线的溶液与卤化银溶解剂接触，以便去除卤化银。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述保护剂包括聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、氯代十六烷基吡啶以及十六烷基三甲基溴化铵的至少之一。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述保护剂与所述含有银纳米线的溶液的质量比为1：100至1:10000。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述卤化银溶解剂含有硫代硫酸根离子、硫氰根、氰根、氨基、乙二胺离子以及EDTA的至少之一。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述卤化银的量确定加入的所述氯化银溶解剂的量。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述卤化银溶解剂与所述卤化银的摩尔比为1:1至2:1。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述接触是在搅拌下进行的。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含有银纳米线的溶液与所述卤化银溶解剂的接触时间为5～120分钟。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：
(a)对含有所述卤化银溶解剂的银纳米线溶液进行离心处理，保留沉淀；
(b)在所述沉淀中加水并搅拌，对所述沉淀的水溶液进行二次离心处理；以及
(c)多次重复步骤(b)。
10.一种银纳米线，其特征在于，所述银纳米线是利用权利要求1～9任一项所述的方法进行处理而获得的。