技术总结
本实用新型公开双闭环磁控溅射阴极，包括相互平行设置的靶材与磁靴，以及设于靶材与磁靴之间的磁体装置，磁体装置包含一个中间磁体、两个端部磁体以及两组辅助磁体对，每组辅助磁体对都由两个相吸附的辅助磁体构成，两个辅助磁体的磁极方向相反；所述中间磁体位于磁靴中央，两个端部磁体分别位于磁靴的两端，两组辅助磁体对分别位于中间磁体与端部磁体之间的磁靴上；每个磁体两个磁极的连线均垂直于靶材；所有相邻磁体之间的磁极方向均相反；通过增加辅助磁体对，使靶材表面增加了两对双闭环的磁场，从而使磁场强度分布更加均匀，靶材表面的刻蚀区宽度更宽，同时还可以利用导磁片调节靶材表面平行磁场分量的大小，从而有效提高了靶材的利用率。
技术研发人员：彭寿;吴以军;刘小雨;王宝玉
受保护的技术使用者：凯盛光伏材料有限公司
文档号码：201621123627
技术研发日：2016.10.15
技术公布日：2017.03.22