铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明涉及一种铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，包括同时具有醇基和胺基的化合物的蚀刻稳定剂。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程，蚀刻液内金属离子的含量较高时，可维持蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等蚀刻特性，应用在TFT‑LCD显示器，OLED电极制造等上。

技术研发人员：金世训;李恩庆;李宝妍;申孝燮
受保护的技术使用者：易安爱富科技有限公司
技术研发日：2014.01.10
技术公布日：2017.10.03