一种蒸发源及蒸镀装置的制作方法

本发明涉及蒸镀设备技术领域，尤其涉及一种蒸发源及蒸镀装置。

背景技术：

目前，真空蒸发镀膜工艺在有机电致发光显示装置(organicelectro-luminescentdisplay，简称oled)、液晶显示装置(liquidcrystaldisplay，简称lcd)等的制作过程中被广泛使用。真空蒸发镀膜的基本原理是将镀膜材料放置于蒸镀装置的蒸发源中加热蒸发，形成的镀膜材料的气体分子或原子沉积到待镀膜基板上形成膜层。

现有蒸镀装置的蒸发源常使用线性蒸发源，线性蒸发源的结构如图1所示，包括坩埚01，坩埚01包括条状的坩埚本体011、设置在坩埚本体011开口端的坩埚盖子012。坩埚盖子012上设置有沿坩埚本体011的延伸方向排布的多个蒸镀口013。其中，坩埚本体011用于容纳镀膜材料，镀膜材料蒸发后通过蒸镀口013沉积在待镀膜基板上，坩埚本体011内还设置有用于加热镀膜材料的加热丝014。

在实际蒸镀过程中，线性蒸发源采用来回扫描的方式进行扫描，形成的膜层厚度沿扫描方向均一性较好，但沿多个蒸镀口013的排布方向膜层的厚度均一性一般较差，这可能是由于多个蒸镀口013的口径在设计时有差异所致，或者是镀膜材料在蒸镀过程中各位置受热不均匀所致。这些都会导致从多个蒸镀口013蒸发出的镀膜材料的量不相同，进而导致沿多个蒸镀口013的排布方向，膜层的厚度均一性较差。

技术实现要素：

本发明的实施例提供一种蒸发源及蒸镀装置，能够解决现有的蒸发源沿蒸镀口的排布方向，膜层的厚度均一性较差的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供一种蒸发源，包括坩埚，所述坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，所述蒸发源还包括：旋转装置，设置于所述坩埚的底部，用于旋转时带动所述坩埚旋转。

可选的，所述坩埚包括一端开口的坩埚本体和用于封闭所述坩埚本体的开口端的坩埚盖子，多个所述蒸镀口设置在所述坩埚盖子上。

可选的，所述坩埚本体为条状，多个所述蒸镀口沿所述坩埚本体的延伸方向排布在所述坩埚盖子上。

可选的，所述蒸发源还包括承载槽，用于放置所述坩埚；所述承载槽与所述旋转装置固定连接。

可选的，所述坩埚本体卡入所述承载槽内。

可选的，所述承载槽上设置有第一连接部，所述旋转装置上设置有第二连接部；所述第一连接部与所述第二连接部配合连接。

可选的，所述第一连接部为凸起，所述第二连接部为凹槽；或者，所述第一连接部为凹槽，所述第二连接部为凸起。

可选的，所述凹槽的形状和所述凸起的形状均为十字型。

可选的，所述旋转装置包括旋转盘和与所述旋转盘连接的驱动件，所述驱动件用于驱动所述旋转盘旋转；所述旋转盘与所述承载槽固定连接。

可选的，所述驱动件为电机。

可选的，所述旋转盘为椭圆形，所述旋转盘的长轴方向与所述坩埚本体的延伸方向相同。

可选的，所述蒸发源还包括底部加热结构；所述底部加热结构包括多个片状加热网，多个片状加热网两两交叉分布；所述片状加热网与所述坩埚本体的底面垂直，且所述片状加热网的网格延伸至所述坩埚本体的内侧壁。

可选的，所述蒸发源还包括设置在所述坩埚本体内、且靠近所述开口端的顶部加热结构；所述顶部加热结构包括设置在所述坩埚本体内侧壁一圈的第一加热丝和设置在所述第一加热丝围成区域内、且与所述第一加热丝连接的多个围成封闭图形的第二加热丝；所述蒸镀口沿所述坩埚本体深度方向的正投影位于所述第二加热丝围成的区域内。

可选的，所述第二加热丝围成的图形为圆形。

另一方面，本发明实施例提供一种蒸镀装置，包括上述任意一种所述的蒸发源。

本发明实施例提供的蒸发源及蒸镀装置，所述蒸发源包括坩埚，坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，蒸发源还包括：旋转装置，设置于坩埚的底部，用于旋转时带动坩埚旋转。相较于现有技术，本发明实施例提供的蒸发源沿扫描方向扫描一次后，由于蒸发源还包括旋转装置，因而旋转装置可以带动坩埚旋转180°，使坩埚两端的位置交换，然后蒸发源再进行一次反向扫描，这样正向扫描一次与反向扫描一次形成的膜层厚度互补，从而减小了坩埚两端的蒸镀口蒸镀的膜层的厚度差异，改善了在垂直于扫描方向的方向上的膜层厚度均一性问题，提高了产品的性能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术提供的蒸发源的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的蒸发源的剖视结构示意图一；

图3为本发明实施例提供的蒸发源的剖视结构示意图二；

图4为本发明实施例提供的蒸发源的俯视结构示意图；

图5为本发明实施例提供的承载槽的仰视结构示意图；

图6为本发明实施例提供的承载槽的剖视结构示意图；

图7为本发明实施例提供的旋转盘的俯视结构示意图；

图8为本发明实施例提供的旋转盘的剖视结构示意图；

图9为本发明实施例提供的承载槽和旋转盘连接结构示意图；

图10为本发明实施例提供的蒸发源扫描及旋转过程示意图一；

图11为本发明实施例提供的蒸发源扫描及旋转过程示意图二；

图12为本发明实施例提供的坩埚的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的坩埚内设置底部加热结构示意图；

图14为本发明实施例提供的坩埚内设置顶部加热结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种蒸发源，如图2至图11所示，包括坩埚10，坩埚10的顶部设置有多个蒸镀口13，蒸发源还包括：旋转装置，设置于坩埚10的底部，用于旋转时带动坩埚10旋转。

本发明实施例对于蒸镀口13的设置数量、口径尺寸、口径形状等均不作限定，本领域技术人员可以根据实际情况进行设定。

在本发明实施例中，蒸发源还包括旋转装置，旋转装置可在蒸发源正向扫描一次后，带动坩埚10旋转180°，以使坩埚10两端的位置交换。然后蒸发源再进行一次反向扫描，这样正向扫描一次与反向扫描一次形成的膜层厚度正好互补，从而减小了坩埚10两端的蒸镀口13蒸镀的膜层的厚度差异，改善了现有的蒸发源中沿蒸镀口13的排布方向的膜层厚度均一性问题，提高了产品的性能。本发明实施例对于旋转装置的具体结构不做限定，只要旋转装置能够带动坩埚10旋转180°即可。图10和图11示出了蒸发源扫描及旋转过程，具体的，在图10中，坩埚10在传送装置的带动下沿箭头方向先完成一次正向扫描，然后经过180°旋转，使得坩埚10a端和b端位置对调，接着如图11所示，再进行一次沿箭头方向的反向扫描，这样正向扫描一次与反向扫描一次形成的膜层厚度就可互补。

在实际应用中，待蒸镀基板一般位于蒸发源的上方，待蒸镀基板的待蒸镀面朝向蒸发源的蒸镀口13，坩埚本体11内的镀膜材料蒸发后在待蒸镀基板的待蒸镀面凝结成膜。

进一步的，参考图2至图4所示，坩埚10包括一端开口的坩埚本体11和用于封闭坩埚本体11的开口端的坩埚盖子12，多个蒸镀口13设置在坩埚盖子12上。

本发明实施例对于坩埚本体11的形状不做限定，坩埚盖子12用于封闭坩埚本体11的开口端，因而坩埚盖子12一般与坩埚本体11的开口端的形状相适应。本发明实施例对于坩埚盖子12上的多个蒸镀口13的排布方式亦不做限定。示例的，多个蒸镀口13可以阵列排布，也可以成一列排布等。由于阵列排布多个蒸镀口13时，蒸镀成膜后膜层在各个方向上的厚度均一性很难保证，因而在实际应用中通常设置多个蒸镀口13成一列排布，具体的，坩埚本体11为条状，多个蒸镀口13沿坩埚本体11的延伸方向排布在坩埚盖子12上，这样可以较好的保证膜层厚度的均一性。

进一步的，参考图2、图3、图5和图6所示，蒸发源还包括承载槽14，用于放置坩埚10；承载槽14与旋转装置固定连接。通过设置承载槽14，将坩埚10放置在承载槽14中，这样在坩埚10中加入蒸镀材料或清洗坩埚10时，只需将坩埚10从承载槽14中取出即可，操作比较方便。

本发明实施例对于承载槽14的具体形状和尺寸不做限定，为了便于坩埚10的放置，一般设置承载槽14与坩埚10的坩埚本体11的形状相适应。通常可设置承载槽14与坩埚本体11均为条状矩形。在实际应用中，为了防止坩埚本体11在承载槽14中晃动，可将坩埚本体11卡入承载槽14内。

进一步的，参考图2至图9所示，承载槽14上设置有第一连接部141，旋转装置上设置有第二连接部151；第一连接部141与第二连接部151配合连接。

本发明实施例对于第一连接部141与第二连接部151的具体结构不做限定，示例的，第一连接部141与第二连接部151可以为相互配合的凸起和凹槽，或者为相互配合的卡勾和卡扣等。参考图5至图9所示，当第一连接部141为凸起，第二连接部151为凹槽；或者，第一连接部141为凹槽，第二连接部151为凸起时，本发明实施例对于该凹槽的形状和该凸起的形状亦不做限定，示例的，该凹槽和该凸起可以均为条形、弧形或十字型等。较佳的，该凹槽的形状和该凸起的形状均为十字型，这样凹槽和凸起配合连接后，可以使得承载槽14和旋转装置连接的更加稳固。

可选的，旋转装置包括旋转盘15和与旋转盘15连接的驱动件，驱动件用于驱动旋转盘15旋转；第二连接部151设置在旋转盘15上，旋转盘15与承载槽14固定连接。通过驱动件驱动旋转盘15旋转，相对于人为旋转的旋转精度更高，且更自动化。在实际应用中，该驱动件一般为电机。

本发明实施例对于旋转盘15的形状不做限定，示例的，旋转盘15可以为圆形、椭圆形、矩形等，较佳的，设置旋转盘15为椭圆形，且旋转盘15的长轴方向与坩埚本体11的延伸方向相同，这样旋转盘15在旋转时较为平稳，可以防止坩埚10两端上下晃动。

进一步的，参考图12至图14所示，蒸发源还包括底部加热结构16；底部加热结构16包括多个片状加热网，多个片状加热网两两交叉分布；片状加热网与坩埚本体11的底面垂直，且片状加热网的网格延伸至坩埚本体11的内侧壁。底部加热结构16的俯视结构如图13所示。

现有技术中一般通过在坩埚本体11内设置挡板，来防止镀膜材料向一侧倾倒。本发明实施例中通过设置两两交叉的片状加热网，可以从多个方向阻挡镀膜材料，从而可以保证坩埚10在旋转时，镀膜材料不会向一个方向显著偏移；同时，相对于现有技术仅在坩埚本体11的内侧壁设置一圈加热丝，两两交叉的片状加热网使得位于坩埚本体11中间的镀膜材料也可以受热，从而确保了镀膜材料受热均匀。

进一步的，蒸发源还包括设置在坩埚本体11内、且靠近开口端的顶部加热结构17；顶部加热结构17包括设置在坩埚本体11内侧壁一圈的第一加热丝171和设置在第一加热丝171围成区域内、且与第一加热丝171连接的多个围成封闭图形的第二加热丝172；蒸镀口13沿坩埚本体11深度方向的正投影位于第二加热丝172围成的区域内。除设置第一加热丝171外，还设置第二加热丝172，第二加热丝172可以对其对应的蒸镀口13进行加热，提高蒸镀口13的温度，防止镀膜材料在蒸镀口13处沉积。

本发明实施例对于第二加热丝172所围图形的具体形状不做限定，示例的，可以是圆形或椭圆形等。在实际应用中，一般设置第二加热丝172与蒸镀口13的形状相适应，当蒸镀口13为圆形时，可设置第二加热丝172所围图形为圆形，这样可以实现对蒸镀口13周围的均匀加热。

本发明另一实施例提供一种蒸镀装置，包括上述任意一种所述的蒸发源。在本发明实施例中，蒸发源沿扫描方向扫描一次后，由于蒸发源还包括旋转装置，因而旋转装置可以带动坩埚旋转180°，使坩埚两端的位置交换，这样沿蒸镀口的排布方向，正向扫描一次与反向扫描一次形成的膜层厚度互补，从而改善了沿蒸镀口的排布方向的膜层厚度均一性问题，提高了产品的性能。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。