本实用新型涉及显示产品的制作领域，具体涉及一种掩膜板。
背景技术：
在有机电致发光显示面板中，显示基板上设置有封装层，用于对显示基板上的有机电致发光单元进行封装。封装层包括两层无机层和夹在二者之间的有机层，其中，无机层通常采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)的方式形成，在进行化学气相沉积时，使用掩膜板对不需要进行封装的区域进行遮挡，而在封装区形成无机层。
在手机等显示产品中通常设置有前置摄像头、听筒、传感器等功能器件，为了实现高屏占比，如图1所示，需要显示面板10的相应位置设置缺口V，以避开上述功能器件。相应地，形成封装层的无机层时所使用的掩膜板20的结构如图2所示，其包括框型的第一遮挡部21和设置在第一遮挡部21上的第二遮挡部22，第二遮挡部22的一端固定在第一遮挡部21上，另一端没有固定。由于掩膜板20不同位置的热膨胀系数不尽相同，在进行化学气相沉积时掩膜板不同位置的温度也有差异，因此，第二遮挡部22未被固定的一端很容易发生上翘，从而导致形成的无机层的覆盖范围增大，进而在后续进行切割时，容易造成无机层破损，影响封装效果，并增加了窄边框产品的开发难度。
技术实现要素：
本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种掩膜板，以改善掩膜板的第二遮挡部的上翘现象。
为了解决上述技术问题之一，本实用新型提供一种掩膜板，包括第一遮挡部和第二遮挡部，所述第一遮挡部为框型；所述第二遮挡部的第一端固定在第一遮挡部上，第二端朝向所述第一遮挡部中部延伸；沿所述第二遮挡部的第一端和第二端的排列方向，所述第二遮挡部被划分为多个遮挡区，最靠近所述第二遮挡部第二端的遮挡区的单位面积内的重量大于其余各遮挡区的单位面积内的重量。
优选地，从所述第二遮挡部的第一端到第二端，各个遮挡区的单位面积内的重量逐渐增大。
优选地，各个遮挡区在所述第二遮挡部的第一端和第二端排列方向上的尺寸相同；从所述第二遮挡部的第一端到第二端，各个遮挡区的重量逐渐增大。
优选地，所述第二遮挡部包括遮挡板和设置在所述遮挡板上的多行凸块，多行所述凸块沿所述第一遮挡部的第一端和第二端排列方向排列，每行凸块包括至少一个所述凸块；每个遮挡区中均设置有至少一行所述凸块；
从所述第二遮挡部的第一端到第二端，各个遮挡区中的凸块总重量逐渐增大。
优选地，各个凸块的密度相同，从所述第二遮挡部的第一端到第二端，各个遮挡区中的凸块总体积逐渐增大。
优选地，各个凸块的体积相同；从所述第二遮挡部的第一端到第二端，各个遮挡区中的凸块数量逐渐增多。
优选地，所述凸块的体积与该凸块到所述第二遮挡部的第一端的距离正相关。
优选地，所述凸块为柱形；各个凸块的高度相同；
所述凸块在所述遮挡板上的投影面积与该凸块到所述第二遮挡部的第一端的距离正相关。
优选地，所述凸块为柱形；各个凸块在所述遮挡板上的投影面积相同；
所述凸块的高度与该凸块到所述第二遮挡部的第一端的距离正相关。
优选地，每行中的凸块数量为多个，同一行中的各凸块的重量相同；在每一行中，每相邻两个凸块之间的距离相同。
在本实用新型中，由于最靠近第二遮挡部第二端的遮挡区的单位面积内的重量大于其余各遮挡区的单位面积内的重量，因此，在较大的重力作用下，第二遮挡部第二端的上翘现象能够得到缓解，从而使形成的无机层的边缘与切割线之间的距离增大，以防止受到切割热量的影响，进而保证封装效果；并有利于窄边框的实现。
附图说明
附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是目前应用于手机中的显示面板的俯视图；
图2是图1中的显示面板的封装层制作过程中使用的掩膜板的示意图；
图3是在显示基板母板上形成的封装层示意图；
图4是沿图3中A-A’线的剖视图；
图5是掩膜板的第二遮挡部未发生上翘时的成膜状态示意图；
图6是掩膜板的第二遮挡部发生上翘时的成膜状态示意图；
图7是本实用新型中提供的掩膜板的结构示意图；
图8是本实用新型第一种实施方式中第二遮挡部上的凸块分布示意图；
图9是沿图8中B-B’线的剖视图；
图10是本实用新型第二种实施方式中第二遮挡部上的凸块分布示意图；
图11是沿图10中B-B’线的剖视图；
图12是本实用新型第三种实施方式中第二遮挡部上的凸块分布示意图；
图13是沿图12中C-C’线的剖视图；
图14是本实用新型的掩膜板的第二遮挡部的成膜状态示意图。
其中，附图标记为：
10、显示面板；V、缺口；11、显示基板母板；12、封装层；121、无机层；122、有机层；13、层间绝缘层；13a、凹槽；20、掩膜板；21、第一遮挡部；22、第二遮挡部；22a、遮挡区；221、遮挡板；222、凸块。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。
图1为目前应用于手机中的显示面板的俯视图，图2是图1中的显示面板的封装层制作过程中使用的掩膜板的示意图；图3在显示基板母板上形成的封装层示意图；图4是沿图3中A-A’线的剖视图；如图3和图4所示，封装层12包括两层无机层121以及夹在二者之间的有机层122，显示基板母板11上设有层间绝缘层13，层间绝缘层13上设置有多个凹槽13a，凹槽13a可以防止层间绝缘层13边缘受到的撞击力蔓延到中部。显示面板10的制作过程中，利用图2的掩膜板20在显示基板母板11上形成具有缺口V的封装层12，之后对显示基板母板11进行切割，以得到具有缺口的显示基板。由于掩膜板20不同位置的热膨胀系数不尽相同，并且，在进行化学气相沉积时，掩膜板20不同位置的温度也有差异，因此，第二遮挡部22未被固定的一端很容易发生上翘。第二遮挡部22未发生上翘和发生上翘时的成膜状态分别如图5和图6所示，由于在无机层121沉积的过程中，掩膜板20和显示基板母板11之间存在一定的间隔，因此，无机层121的边缘并不是与第二遮挡部22的边缘对齐的，而是有一部分无机层121会沉积在第二遮挡部22正下方，而当第二遮挡部22发生上翘时，会有更大面积的无机层121位于第二遮挡部22正下方，从而导致无机层121的边缘与后续进行切割时的切割线之间的距离更小，这样就会导致切割产生的热量很容易影响到无机层121，进而降低封装效果。
为了解决现有技术中存在的技术问题，本实用新型提供一种掩膜板20，结合图7至图13所示，该掩膜板20包括第一遮挡部21和第二遮挡部22。第一遮挡部21为框型；第二遮挡部22的第一端固定在第一遮挡部21上，第二端朝向第一遮挡部21中部延伸。其中，沿第二遮挡部22的第一端和第二端的排列方向(即图8、图10和图12中的上下方向)，第二遮挡部22被划分为多个遮挡区22a，最靠近第二遮挡部22第二端的遮挡区22a的单位面积内的重量大于其余各遮挡区22a的单位面积内的重量。其中，任一遮挡区22a的单位面积内的重量是指，该遮挡区22a的总重量与该遮挡区22a的面积(即，垂直于厚度方向的横截面面积)之比。
由于最靠近第二遮挡部22第二端的遮挡区22a的单位面积内的重量大于其余各遮挡区22a的单位面积内的重量，因此，和现有技术相比，本实用新型中，第二遮挡部22的靠近第二端的区域重量更大，在较大的重力作用下，第二遮挡部22第二端的上翘现象能够得到缓解，从而使形成的无机层121的边缘与切割线之间的距离增大，以防止受到切割热量的影响，进而保证封装效果，并有利于窄边框的实现。
优选地，从第二遮挡部22的第一端到第二端，各个遮挡区22a的单位面积内的重量逐渐增大，以防止第二遮挡部22的中部区域发生上凸或下凹，从而提高第二遮挡部22的平整性。
通常，第二遮挡部22所遮挡的区域可以呈矩形，即，第二遮挡部22的第一端宽度(沿图7中左右方向的尺寸)和第二端宽度相同；或者第二遮挡部22所遮挡的区域呈梯形，且第二端宽度略小于第一端宽度。此时，为了进一步防止第二遮挡部22的第二端上翘，可以使得各个遮挡区22a在第二遮挡部22的第一端和第二端排列方向上的尺寸相同，且从第二遮挡部22的第一端到第二端，各个遮挡区22a的重量逐渐增大。
具体地，第二遮挡部22包括遮挡板221和设置在遮挡板221上的多行凸块222。多行凸块222沿第一遮挡部21的第一端和第二端排列方向排列，每行凸块222包括至少一个凸块222；每个遮挡区22a中均设置有至少一行凸块222。从第二遮挡部22的第一端到第二端，各个遮挡区22a中的凸块222总重量逐渐增大，以使得各个遮挡区22a的质量逐渐增大，从而提高第二遮挡部22在膜层沉积过程中的平整性，如图14所示。其中，从第二遮挡部22的第一端到第二端，遮挡板221在各个遮挡区22a中的重量可以逐渐增大，也可以保持不变，也可以逐渐减小，只要遮挡区22a中凸块222的重量和遮挡板221的总重量逐渐增大即可。
其中，每行中可以包括一个沿行方向延伸的条形凸块222，也可以包括沿行方向排列的多个凸块222。具体地，本实用新型中，每行凸块222包括沿行方向排列的多个凸块222。并且，同一行中各凸块222的重量相同；每一行中，每相邻两个凸块222之间的距离相同，以使得第二遮挡部22上不同位置受力分布均匀，从而使得第二遮挡部22更平整。应当理解的是，行方向是指与第二遮挡块22的第一端和第二端排列方向相垂直的方向；相对应地，列方向即为第二遮挡块22的第一端和第二端的排列方向。
其中，至少一行凸块222设置在第二遮挡部22的第二端，这样，即使第二遮挡部22的第二端发生一定的上翘，凸块222也会起到一定的遮挡作用，从而防止利用掩膜板20形成的无机膜在对应于第二遮挡部22的位置过于接近显示基板母板上的待切割线。
为了便于掩膜板20的制作，本实用新型通过将凸块222的密度固定，而改变不同区域的凸块222总体积的方式来改变不同区域的凸块222总重量，即，各个凸块222的密度相同，从第二遮挡部22的第一端到第二端，各个遮挡区22a的凸块222总体积逐渐增大，从而使得距离第二遮挡部22第一端越近的遮挡区22a中的凸块222总重量越小，距离第二遮挡部22第一端越远的遮挡区22a中的凸块222总重量越大。
更具体地，本实用新型可以通过多种方式来实现各遮挡区22a中凸块222总重量的逐渐变化。
在第一种具体实施方式中，如图8和图9所示，各个凸块222的体积相同，具体地，各凸块222在遮挡板221上的正投影面积相同，各凸块222的高度也相同。并且，从第二遮挡部22的第一端到第二端，各个遮挡区22a中的凸块222数量逐渐增多，具体地，从第二遮挡部22的第一端到第二端，每相邻两行凸块222之间的距离逐渐减小。当然，也可以通过其他方式使得各遮挡区22a中的凸块222数量逐渐增多，例如，从第二遮挡部22的第一端到第二端，各行凸块222中的凸块222数量逐渐增多，即，距离第二遮挡部22第二端越近的行中，相邻两个凸块222的间隙越小。
在图8中，各遮挡区22a的凸块222可以根据如下参数进行设置：第二遮挡部22划分为三个遮挡区22a，遮挡板221上设置有7行凸块222，每个凸块222沿行方向的尺寸均为1.1mm，每个凸块222沿列方向的尺寸均为0.45mm；每相邻两列凸块222之间的距离均为0.98mm；所有凸块222的高度相同。从第二遮挡部22的第一端到第二端，每相邻两行凸块222之间的距离逐渐减小(具体分别为0.65mm、0.55mm、0.45mm、0.35mm、0.25mm、0.15mm)，从而使得三个遮挡区22a中设置的凸块222行数逐渐增多(分别为一行、两行、四行)，三个遮挡区22a中设置的凸块222数量也相应地逐渐增多。
在第二种实施方式中，如图10和图11所示，每相邻两行凸块222之间的距离可以相同，每个凸块222的体积与该凸块222到所述第二遮挡部22的第一端的距离正相关，以使任意两行凸块222中，距离第二遮挡部22第二端较近的一行中的凸块222总体积大于距离第二遮挡部22第二端较远的一行中的凸块222总体积，进而使得距离第二遮挡部22第二端越近的遮挡区22a中的凸块222总体积越大。
具体地，每个凸块222均为柱形；各个凸块222的高度相同；凸块222在遮挡板221上的投影面积与该凸块222到第二遮挡部22的第一端的距离正相关，即，距离第二遮挡部22第二端越近的凸块222的体积越大。
在图10中，各遮挡区22a的凸块222可以根据如下参数进行设置：掩膜板20的第二遮挡部22划分为三个遮挡区22a，从第二遮挡部22的第一端到第二端，三个遮挡区22a中设置的凸块222行数分别为三行、两行、两行。在该7行凸块中，每相邻两行凸块222之间的距离为0.43mm；每行凸块222中，相邻两个凸块222之间的距离为0.98mm；从第二遮挡部22的第一端到第二端，各行的凸块222在列方向上的尺寸分别为0.15mm、0.25mm、0.35mm、0.45mm、0.55mm、0.65mm、0.75mm，每个凸块222在行方向上的尺寸均为1.1mm，所有凸块222的高度相同。
和第二种实施方式相同地，在第三种实施方式中，也是将每相邻两行凸块222之间的距离设置为相同，结合图12和图13所示，凸块222的体积与该凸块222到第二遮挡部22的第一端的距离正相关；且凸块222为柱形。与第二种实施方式的区别在于，在第三种实施方式中，各个凸块222在遮挡板221上的投影面积相同；凸块222的高度与该凸块222到第二遮挡部22的第一端的距离正相关。
在图12和图13中，各遮挡区22a的凸块222可以根据如下参数进行设置：掩膜板20的第二遮挡部22划分为5个遮挡区22a，每个遮挡区22a设置有一行凸块222，每个凸块222在行方向上的尺寸均为1.1mm，每个凸块222在列方向上的尺寸均为0.55mm。从第二遮挡部22的第一端到第二端，各行的凸块222的高度分别为30μm、35μm、40μm、45μm、50μm。
应当理解的是，上述三种实施方式中对凸块222尺寸、凸块222的行间距和列间距、遮挡区22a数量的设置仅为示意性说明，在实际生产中，也可以根据具体工艺需求对各参数进行设置。
在本实用新型中，凸块222和遮挡板221可以一体成型。具体可以采用光刻构图工艺进行制作，即通过光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离，从而形成掩膜板20。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。