[0093]112:第二气体注入输入件
[0094]120:底板
[0095]121:第一板
[0096]121a:第一孔
[0097]122:第二板
[0098]122a:第二孔
[0099]123:第一气体喷涂孔
[0100]124:扩散孔
[0101]125:第二气体喷涂孔
[0102]126:横向扩散空间
[0103]130:第一管连接结构
[0104]131:第一输入件
[0105]132:第一输出件
[0106]140:第二管连接结构
[0107]141:第二输入件
[0108]142:第二输出件
[0109]150:第一连接构件
[0110]151:第一水平孔
[0111]152:第一垂直孔
[0112]160:第二连接构件
[0113]161:第二水平孔
[0114]162:第二垂直孔
[0115]170:第一螺钉
[0116]180:第二螺钉
[0117]200:薄膜沉积设备
[0118]210:腔室
[0119]220:基板支撑件
[0120]310:第一气罐
[0121]320:第二气罐
[0122]330:第三气罐
[0123]340第四气罐
[0124]OTS:气体扩散空间
[0125]S:要处理的基板
【主权项】
1.一种气体喷涂器，包括:上板，所述上板包括多个第一气体注入输入件；和底板，所述底板连接到所述上板以在所述底板与所述上板之间形成扩散空间，其中所述底板包括多个第一气体喷涂孔，所述多个第一气体喷涂孔用于将气体喷涂在所述扩散空间中，所述气体经由所述多个第一气体注入输入件注入。2.根据权利要求1所述的气体喷涂器，其中，所述多个第一气体注入输入件相对于彼此对称地布置。3.根据权利要求2所述的气体喷涂器，还包括:第一管连接结构，所述第一管连接结构用于将外部气体注射到所述多个第一气体注入输入件，其中从注入外部气体的第一输入件到所述多个第一气体注入输入件的距离在长度上是相同的。4.根据权利要求1所述的气体喷涂器，还包括:第一连接构件，所述第一连接构件连接在所述上板的上表面上以连接所述上板的所述上表面和所述第一管连接结构，其中所述第一连接构件将所述第一管连接结构的输出件连接到多个第一气体注入输入件。5.根据权利要求1所述的气体喷涂器，其中，所述底板还包括:扩散孔，所述扩散孔在所述第一气体喷涂孔之间穿越所述底板的两侧，所述两侧彼此相对；和第二气体喷涂孔，所述第二气体喷涂孔用于将所述扩散孔的气体注入下部中。6.根据权利要求5所述的气体喷涂器，其中，所述上板包括多个第二气体注入输入件，其中所述多个第二气体注入输入件连接到所述扩散孔。7.根据权利要求7所述的气体喷涂器，其中，所述多个第二气体注入输入件对称地形成在所述上板的两侧，所述两侧彼此相对。8.根据权利要求7所述的气体喷涂器，还包括:第二管连接结构，所述第二管连接结构用于将外部气体注射到所述多个第二气体注入输入件，其中从注入外部气体的第二输入件到所述多个第二气体注入输入件的距离在长度上是相同的。9.根据权利要求7所述的气体喷涂器，还包括:第二连接构件，所述第二连接构件连接在所述上板的上表面上以连接所述上板和所述第二管连接结构，其中所述第二连接构件将所述第二管连接结构的输出件连接到所述多个第二气体注入输入件。10.一种薄膜沉积设备，包括:腔室；基板支撑件，所述基板支撑件将要处理的基板支撑在所述腔室内；和气体喷涂器，所述气体喷涂器设置在所述基板支撑件上以朝向所述基板支撑件喷涂气体，以及其中，所述气体喷涂器包括:上板，所述上板包括对称地布置的多个第一气体注入输入件；和底板，所述底板连接到所述上板以在所述底板与所述上板之间形成扩散空间，其中所述底板包括第一气体喷涂孔，所述第一气体喷涂孔用于将气体喷涂在所述扩散空间中，所述气体经由所述多个第一气体注入输入件注入。11.根据权利要求10所述的薄膜沉积设备，其中，所述气体喷涂器还包括用于将外部气体注射到所述多个第一气体注入输入件的第一管连接结构，其中从注入外部气体的第一输入件到所述多个第一气体注入输入件的距离在长度上是相同的。12.根据权利要求11所述的薄膜沉积设备，还包括:第一罐，所述第一罐储存具有源气体和载运气体的混合气体；和第二罐，所述第二罐储存具有载运气体的混合气体，以及其中，所述第一罐和所述第二罐通过阀连接到所述第一管连接结构的第一输入件，其中通过所述阀调节流量。13.根据权利要求10所述的薄膜沉积设备，其中，所述底板还包括: 扩散孔，所述扩散孔在所述第一气体喷涂孔之间穿越所述底板的两侧，所述两侧彼此相对；和第二气体喷涂孔，所述第二气体喷涂孔用于将注入所述扩散空间中的气体注射到下部中，以及其中，所述上板包括连接到所述扩散孔的多个第二气体注入输入件。14.根据权利要求13所述的薄膜沉积设备，其中，所述气体喷涂器还包括:第二管连接结构，所述第二管连接结构用于将外部气体注射到所述多个第二气体注入输入件，其中从注入外部气体的第二输入件到所述多个第二气体注入输入件的距离在长度上是相同的。15.根据权利要求14所述的薄膜沉积设备，还包括:第三罐，所述第三罐储存具有源气体和载运气体的混合气体；和第四罐，所述第四罐储存具有载运气体的混合气体，以及其中，所述第三罐和所述第四罐通过阀连接到所述第二管连接结构的第二输入件，其中通过所述阀调节流量。16.根据权利要求13所述的薄膜沉积设备，还包括第一罐到第四罐的组或者第五罐到第八罐的组构成的组中的任一个，其中: 所述第一罐和所述第二罐连接到所述多个第一气体注入输入件的一部分，在所述多个第一气体注入输入件的该部分中，源气体和载运气体混合并储存在所述第一罐中，并且载运气体混合并储存在所述第二罐中，所述第三罐和所述第四罐连接到所述多个第一气体注入输入件的其余部分，在所述多个第一气体注入输入件的该其余部分中，源气体和载运气体混合并储存在所述第三罐中，并且载运气体混合且储存在所述第四罐中；以及 所述第五罐和所述第六罐连接到所述多个第二气体注入输入件的一部分，在所述多个第二气体注入输入件的该部分中，源气体和载运气体混合并储存在所述第五罐中，并且载运气体混合且储存在所述第六罐中，所述第七罐和所述第八罐连接到所述多个第二气体注入输入件的其余部分，在所述多个第二气体注入输入件的该其余部分中，源气体和载运气体混合并储存在所述第七罐中，并且载运气体混合且储存在所述第八罐中。
【专利摘要】本发明公开了一种薄膜沉积设备，包括能够形成均匀的薄膜和减少处理时间的气体喷涂器。这种气体喷涂器包括上板和底板。所述上板包括多个气体注入输入件。所述底板连接到上板以在该底板与该上板之间形式扩散空间，并且包括用于将气体注入所述扩散空间中的第一气体喷涂孔，所述气体通过多个第一气体注入输入件注入。在此，多个第一气体注入输入件相对于彼此对称地布置。
【IPC分类】C23C16/44, C23C16/455, H01L21/205
【公开号】CN105143508
【申请号】CN201480021954
【发明人】黄秉檍, 张胜现, 金炅汉, 崔宇镇, 金钟学
【申请人】威科股份有限公司
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2014年3月18日
【公告号】WO2014185626A1