而，在上部50和下部51的内壁51b之间形成圆周开口或间隙49a。在其中环49由单个部件而不是多个部件的组件制成的变型中，间隙49a因而形成在所述部件中。
[0068]连接壁51c布置在外壁51a的高度的三分之一至三分之二之间，例如，在这里基本布置在中间向上。在所示状态下，外壁5Ia和内壁5Ib基本竖直，而连接壁51c基本上水平。当环49被布置在本体2中时，内壁51b形成了侧壁19的一部分。
[0069]下环状通道54形成在内壁51a、外壁51b、连接壁51c和本体2的环状表面8a之间。上环状通道52形成在外壁51a、内壁51b、连接壁51c和上部50的径向外部下表面50a之间，参见图5。连接壁51c被多个连通孔53贯穿。这些孔53允许上通道52与下通道54连通。下通道54与形成在本体8中的栗送通道59和反应器I的气体排放出口连通。孔53和栗送通道59是反应器I的旋转对应性的例外之处。
[0070]从上游到下游包括上通道52、孔53、内通道54和栗送通道59的组件形成了气体排放通道100。间隙49a既属于反应腔室4，又属于气体排放通道100。间隙49a因而形成了腔室4的气体出口和气体排放通道100的气体入口。
[0071 ] 间隙49a形成气体排放环49中的围绕工作空间60开口的圆周空间。间隙49a允许内壁51b的内侧的腔室4和气体排放通道100之间的流体连通。形成在侧壁19中的圆周开口 49a在通路107到上通道52之间形成了流体连接，以将气体从反应器腔室4排向反应器I的外部。
[0072]内壁51b的上表面包括朝向上部50突出的垫51d，参见图3。垫51d的高度基本等于间隙49a的高度。垫51d与上部50的径向内部下表面50b接触。在组装状态下，下部51的垫51d形成了用于环49的上部50的支撑部分。垫51d保持上部50和下部51彼此形成一距离，以形成间隙49a。这些垫51d围绕圆周规则地分布并且在相对于环49的整个圆周较小的角部分上形成了间隙49a的中断部。垫51d形成了环49的旋转对称性的例外之处。尽管间隙49a通过一系列开口部分和垫51d形成，但是从气体循环角度来看，认为间隙49a是连续的。
[0073]位于环49的整个圆周或几乎整个圆周上的间隙49a的环状开口允许在所预想的流速范围内以均匀抽吸气体和层状流动的方式进行排放。例如，在200托到300托之间的压力下采用小于1slm的流速，或者在标准温度条件(约20°C )下，在266至400hPa时采用每分钟10升的流速。
[0074]反应气体从通道45出来，并通过布置在腔室4的工作空间60的周边并在通路107上方关闭的间隙49a排出。这可以调整腔室4中的流体流动线路。操作时，反应气体流在腔室4的工作空间60中从通道45循环到间隙49a。环49的上部50和下部51之间的间隙49a具有0.5毫米到2毫米的最大高度。
[0075]内壁51b(该内部51b的内表面部分地限定腔室4)形成侧壁19的一部分，在这里限定通路107。在这里，内壁51b在内侧将上圆筒状表面51e支承在连接壁51c上方，而在圆筒状表面51e的延伸方向上将下截锥形表面51f支承在连接壁51c下面并朝向腔室4的中心取向。在一个变型中，环49的内表面可以包括下截锥形表面和上截锥形表面。下截锥形表面的倾角大于上截锥形表面的倾角。
[0076]反应器I包括附加部件101。该附加部件101成直径沿着旋转轴线变化的旋转部件或管状部件的大体形状。
[0077]在安装状态下，在腔室4中从底部到顶部连续地，附加部件101包括圆筒状部分101a、台肩部分1lb和截锥形部分101c。该附加部件具有第一壁，该第一壁包括部分101a、1lbUOlc的被布置成面对反应腔室的下壁15和侧壁的底部19b的相应表面111、112、113。附加部件101的所述第一壁的形状尺寸与腔室4的下部和本体2的开口 2a的形状和尺寸对应。附加部件101部分地布置在腔室4中，部分地布置在开口 2a中，位于基板支撑件5下面并距气体排放环49 一定距离。在工作位置，板7位于距离附加部件101 —定距离处。附加部件101的位置在这里在工作位置时与在加载位置时相同。
[0078]圆筒状部分1la的外径严格小于本体2的开口 2a的孔的内径，使得该圆筒状部分1la能够插入到开口 2a内，而不会接触开口 2a的表面。圆筒状部分1la在开口 2a中对准并居中。支撑件5的基部6布置在由圆筒状部分1la形成的圆筒内。在圆筒状部分1la的外表面和开口 2a的孔之间保留了环状空间。圆筒状部分1la通过其下端紧固至腔室4的其余部分(未在图中示出)。圆筒状部分1la在这里是增加至反应腔室4的部件的紧固部分。
[0079]台肩部分1lb成朝向圆筒状部分1la的外部基本垂直地延伸的冠状形式。台肩部分1lb被连接成与圆筒状部分1la的顶端形成单个部件。台肩部分1lb形成了厚度基本等于圆筒状部分1la的壁的厚度的平面径向壁。台肩部分1lb的内径对应于圆筒状部分1la的直径。台肩部分1lb的外径严格小于腔室4的下壁15的直径。台肩部分1lb在腔室4的下壁15上方基本与之平行地布置。台肩部分1lb不与下壁15接触。在腔室4的下壁15和台肩部分1lb中的第一壁的表面112之间保留有空间。
[0080]截锥形部分1lc从台肩部分1lb的周边从旋转轴线向上延伸开。截锥形部分1lc连接至台肩部分101b。截锥形部分1lc的厚度基本等于圆筒状部分1la和台肩部分1lb的厚度。圆筒形部分1la的锥度基本等于侧壁19的底部19b的锥度。底部19的至少一部分面对截锥形部分1lc中的第一壁的表面113，该部分形成了侧壁19的第二部分。截锥形部分1lc的外半径随着竖直向上而均匀地增加，使得截锥形部分1lc的壁在剖视图中是笔直的，如图1和图2所示。截锥形部分1lc的每个部分的外半径都严格小于面对它的侧壁19的第二部分的截面的内径。截锥形部分1lc相对于腔室4的侧壁19同心地布置。该截锥形部分1lc不与侧壁19接触。在腔室4的侧壁19和截锥形部分1lc中的第一壁的表面113之间保留有空间。截锥形部分1lc在竖直方向上延伸优选大于10毫米，例如这里为15毫米的高度。截锥形部分1lc的位置和高度是这样的，即:使得附加部件101不会阻挡板7下降而到达加载位置。
[0081]在这里描述的实施例中，支撑件5和附加部件101以如下方式相互成形和布置，即:支撑件5能够在腔室4中平移地移动到其中例如在加载位置其由附加部件101围绕的位置。周边表面5b的直径小于截锥形部分1lc的至少一部分的内部直径。附加部分101具有与第一壁相反并朝向支撑件5定向的第二壁，所述第二壁具有凹入形状，该凹入形状在支撑件5的加载位置形成了周边表面5b的壳体。
[0082]附加部件101布置在腔室4的底部中，即布置在由表面111、112、113形成的附加部件101的第一壁与腔室4的形成通道103的环状形状的部分的表面之间的环状空间中。限定在圆筒状部分1la和孔2a之间的第一区段103a基本为圆筒状形状。限定在台肩部分1lb和下壁15之间的第二区段103b基本为冠状形状。限定在截锥形部分1lc和侧壁19的第二部分之间的第三区段103基本为截锥形形状。附加部件101的形状和尺寸是腔室的构造的函数，使得通道103具有可能的最均匀截面。附加部件101的第一壁的形式和尺寸是腔室4的函数，使得促进净化气体流200在通道103尽可能形成层状流动。
[0083]具体而言，为了促进这种层状流动，将反应腔室的侧壁19和附加部件101的第一壁布置成在第三区段103c中平行，一直到腔室4中的管道的嘴部106。关于这一点，反应腔室的侧壁19和附加部件101的第一壁在大于或等于Icm直到嘴部106的长度上平行。有利地，通道的其中反应腔室的侧壁9和附加部件101的第一壁平行的部分的长度大小被设置成喷射气体流动速度在0.35m/s和0.55m/s之间的层状流动的净化气体。
[0084]附加部件101的径向外表面形成了引导表面111、112、113。通道103遵循引导表面111、112、113的形状和腔室4的底部的形状。通道103因而具有根据界定该通道103的附加部件101的截面和腔室4的截面变化的直径。换言之，通道103的直径大于界定该通道103的附加部件101的截面的直径并且小于界定该通道103的腔室4的截面的直径。侧壁19和附加构件101的第一壁一起界定通道103，特别是界定第三部分103c。
[0085]截锥形部分1lc的自由端和侧壁19的最接近该自由端的部分限定了嘴部106。换言之，通道103终止于嘴部106。通道103通过嘴部106通向腔室4。
[0086]净化气体喷射器105从上游到下游包括反应器I的第二气体入口 104、通道103和嘴部106。通道103通过嘴部106通向反应腔室4。在腔室4和开口 2a的底板上形成了第二气体入口或源104，以便形成用于反应器I的净化气体源。入口 104使得可从腔室4的底板喷射例如利用氮(N)或氩(Ar)的净化气体。第二入口